镀膜员工试题.docx

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镀膜员工试题

镀膜员工试题库填空题:

1.关机时,关掉扩散泵加热，需要冷却60分种以上时间才可以关掉总电源

2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应该向下放置。

3、写出+XP的意思向正方向调X方向位置

4.新科隆机SID1100中生产IRCUT滤色片,每层开镀时,TiO2材料的起始光控曲线方向向上,SiO2材料的光控曲线方向向下。

5.新科隆机SID1100中的离子源,有3片栅极,从上到下依次为TOP,MID,BOT;栅极间总共有12片陶瓷片绝缘.

6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有反射式和透射式两种,昭和机属于透射式新科隆机属于反射式，光驰机属于反射式。

7.相同蒸发条件下，饼料的SIO2，和颗粒状的SIO2，饼料的SiO2所需的蒸发功率要高。

8.比较下列膜料正常蒸发功率，由大到小排列：

MgF2H4SiO2H4>SiO2>MgF2

9.选择下列光学原理：

a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干涉原理d、光的投射原理

（1）看到水中筷子是弯曲的,利用光的b

（2）看到镜子里自已像，利用光的a（3）光学薄膜利用光的c

10.真空可以大致分为四段，分别为初真空、低真空、高真空、超高真空

11.在真空的定义范围内，高真空度范围是10-1-10-6Pa

12.电子枪分为180°枪和270°枪，而目前韩一机器的电子枪180度，光驰机器的电子枪180度，昭和机器的电子枪270　度，新柯隆机器的电子枪180度，

13.镜片放到镀膜机后，关门加热抽真空，等到真空度和温度到达，两者都满足设定要求后，机器才能开始镀膜。

14．目前我们镀膜机有两种厚度控制方法：

晶振控制和光控控制、

15．昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时，光控曲线直线形状

16、报警程序中PFC报警，其中PFC含义：

POLYCOLD

17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热中，还不能打开高阀。

18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已加热完成，可以正常工作。

19、写出-YS的意思减少Y方向电子枪光斑大小

20、目前我们镀膜机抽真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成

21、镀膜机中,膜层厚度的记录单位是:

埃（A）,与米（m）的换算关系是:

10-10,速率的单位是:

A/S.

22、保持镀膜机开门时间尽可能的短，是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的水汽，使镀膜机的抽速变慢，影响产品的品质。

23、薄膜微观结构是柱状结构，为了改善膜层结构，提高聚集密度，分别出现了三种成膜工艺离子辅助、反应离子镀、溅射

24光学镀膜机真空排气系统中，机械泵排气原理：

机械压缩排除气体扩散泵排气原理：

靠蒸汽射流携带排除气体

25、POLYCOLD工作原理：

利用低温表面对气体进行物理吸附排气

26、写出下列薄膜种类符号：

（1）减反膜

（2）、分束膜（3）内反射（4）偏振膜

27、写出下列真空度转换关系：

1Pa=10-2Mbar=0.75E-2Torr1Torr=133Pa=1.33Mbar

28、镀单层MgF2,目前镀的是500nm，晶振厚度是1000A，而现在需要镀550nm，那么输入晶振厚度约为1100A

29、该层晶振厚度是800A，现已镀了150A，由于某种原因充气而需要加镀，那么加镀晶振厚度是650A

30、写出镀膜机各控制阀门的中文名称：

MV高阀DP扩散泵RV粗抽阀SLV细充气阀FV辅助阀

31、光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是4.219%。

32、真空规管测量原理通过气体放电方式产生电子，通过磁场使电子获得能量将气体分子电离

33、石英晶体控制原理主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。

34、长波通膜系基本结构公式A/（0.5HL0.5H）^p/G短波通膜系基本结构公式A/（0.5LH0.5L）^p/G

35、现配有2把电子枪，面向机器左边为EB1,右边为EB2.

36、正常新晶振的频率为6MHz左右.

37、一般情况下,真空达到7.0Pa以上,高阀才会自动开启,5E-3Pa时,可以预熔膜料.

38、开机时,扩散泵中的油温需加热到250℃左右,扩散泵才能抽真空

39、氧气瓶中氧气的压力须大于3KG.

40、若一个膜系40层,每个光控片控制2层膜,再备2片余量,总共需要放22片光控片.

41、镀膜机开机前必须检查冷却水,压缩空气,电是否正常,是否稳定供应.

42、晶振冷却水的进水温度要求是：

18~25℃

43、写出下列膜料分子式：

二氧化硅SiO2氟化镁MgF2二氧化钛TiO2氧化铝AL2O3

44、写出下列膜料分子式的名称：

Ta2O5五氧化二钽Nb2O5五氧化二钕SiO一氧化硅MgO氧化镁

45、韩一镀膜机有2个晶振头，外边为1号，里边为2号。

46、在点检机械泵、罗茨泵部件，必须查看油位是否满足标准要求

47、打开镀膜机时，必须给扩散泵预加热60分钟后才能用扩散泵抽真空

48、清冼电子枪、规管或离子源等部件，必须戴手套进行操作

49、利用光控控制镀膜机，一般在每炉摆放监控片数量必须多于程序中设定数量2片才可以关门。

50、在取放昭和机器光控片时，每个光控套筒里摆放1片干净、无伤痕监控片。

51、镀膜人员在机器罩子上取放镜片时，一定要戴口罩。

52、晶振片和镀膜材料应放在干燥器中的目的是：

防止在空气中受潮。

53、有2块修正板的镀膜机，面向机器左边为MASK1,右边为MASK2。

54、写出下列中、英名称：

晶振crystalCoating镀膜真空vacuumOptical光学

55、开镀膜机之前，先需检查压缩空气压力在_5-8____公斤

56、开启稳压电源，稳压电压值应为___380___V左右。

57、开镀膜机之前，检查水压3-5公斤.

58、光控控制的镀膜机蒸镀过程中光控曲线方向为：

反射式控制的高折射率材料蒸镀方向向上；

59、机器大清洗后应进行抽真空和加热处理，才能正常生产。

60、我们现在的镀膜方式属于热蒸发方式。

二、选择题（不定项选择题）

1.在镀膜过程中,石英晶振可以显示以下哪些因素?

（AD）A、蒸发速率B、蒸发温度C、真空度D、膜层厚度

2．材料蒸发时，充氧的主要目的有哪些？

（AB）A、补充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜层吸收B、使每次镀膜时，真空室内的真空状态相接近C、使蒸发更稳定D、使控制更精确。

3．镀膜机罩子或放扇形板的转动架须高速转动的目的是（ABCD）A、使同圈的膜层厚度分布均匀B、使内外排膜层厚度分布均匀C、使同圈温度分布均匀D、使内外排温度分布均匀

4、现在我们生产Ir-cut平板滤色片，从反射看平板的颜色是（A）A、红色B、绿色C、蓝色D、没有规律

5、油扩散泵上面加冷阱,其作用是（AD）.A.防止扩散油分子回流到真空室B.加快排氣速度.C.防止杂物掉入扩散泵.D、提高膜层附着力

6、为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足（B）条件A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。

D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。

7、对镀膜材料进行预熔的目的是（AC）A、去除材料内部的杂质B、改变材料的表面形状C、减少材料的放气D、提高材料的温度

8、真空镀膜时真空度范围应在（C）A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空

9、电子枪“FIL”灯变红，故障原因是（C）A、电子枪高压线路故障B、真空室底下门没有关好C、电子枪灯丝有问题D、电子枪电流回路故障。

10、提高膜层聚集密度工艺有（AD）A、提高离子源功率B、降低温度C、降低真空度D、提高温度

11、黄色互补色是（B）A、绿色B、蓝色C、红色D、紫红色

12、增强膜层和镜片附着强度，以下那些因素有关（ABCD）A、镜片表面清洁度B、镜片表面温度C、真空室内清洁度D、膜层材料

13、镀650±10IR-CUT滤色片，请问镀出在哪个波长范围内合格（B）A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm

14、在可见光光谱中，绿色波长范围是（D）A、600-570B、500-450C、630-600D、570-500

15、SID1100的离子源中和器正常工作时,需要下列哪些气体?

（AC）冷却时需要什么气体?

（C）A、氧气（O2）B、氮气（N2）C、氩气（Ar）D、氦气（He）

16、镀膜镜片表面产生杂质，以下哪些是可能原因？

（ABCD）A、材料本身不纯，有杂质B、预熔时没熔透，镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边，将其它物质镀到镜片上D、坩埚盖板太脏，预熔时有膜料残渣掉进坩埚

17、镀膜机抽速慢，以下哪些可能会引起？

（ABCD）A、各类泵油使用时间太长，已变质B、POLYCOLD有问题C、真空室的清洁不到位D、机器有漏气

18、真空室内部清扫不干净，可能会导致以下哪些结果？

（ABCD）A、机器抽速慢B、零件表面灰尘C、机器效率降低D、分光特性不重复

19、下列哪些因素影响内外排的均匀性?

（ABD）A、电子枪光斑的位置B、电子枪光斑的形状、大小C、真空度不稳定D、修正板的形状和上升高度.

20、正常情况下,真空室内部清洗干净后,机器的抽气速度将（B）A、变慢B、变快C、不变D、无法判断。

21、电子枪灯丝变形，可能有以下哪些结果？

（ABCD）A、电子枪光斑变形，位置打偏B、内外排分布不均匀C、分光特性不良D、产生杂质

23、在相同光斑大小和蒸发速率的情况下，AL2O3电子枪功率（A）SiO2电子枪功率A、大于B、小于C、等于D、不知道

24、下列属于镀膜机粗抽阀门符号是（C）A、LVB、SLVC、RVD、SRV

25、昭和机器利用光控监控镀膜，在新的一片光控片上镀（AD）材料光控曲线向下走动（未镀到极值点之前）A、TiO2    B、SiO2   C、MgF2    D、Ta2O5

26、1Torr=（BC）A、1PaB、133PaC、1.33MbarD、1Mbar

27、新科隆850离子源有（B）片栅极片A、1B、2C、3D、4

28、如果你镀出来一罩镜片有的排镜片合格，有的排不合格，与下列（ABC）因素有关A、光斑不在中心位置B、修正板变形C、电子枪档板松掉D、蒸发速率不稳

29、在镀IR-CUT时，镀出镜片表面发黑，其原因是（D）A、镀膜材料受到污染B、内外排分布不均匀C、温度没有加D、没有充氧

30、下列那个符号代表高阀（C）A、FV    B、MBP    C、MV    D、DP

31、下列那个符号代表光控（A）A、OPM     B、EB     C、MBP       D、PFC

32、关门抽真空，一般当真空度抽到（B）时开始自动预熔膜料A、1.5E-3Pa  B、5.0E-3Pa     C、2.0E-3Pa    D、5.0E-5Pa

33、目前控制膜厚种类有（AC）A、光学膜厚仪控制B、电子枪控制C、晶振膜厚仪控制D、电脑控制

34、MgF2材料，我们可以采用是哪种蒸发方式：

（A）A、电子枪蒸发B、钼舟蒸发（阻蒸法）C、都不是D、离子辅助蒸发

35、正常可升降修正板的镀膜机，若EB2正在镀膜,EB1,EB2上方的修正板,处于何种状态?

（BC）A、EB1上方的修正板升起B、EB2上方的修正板升起C、EB1上方的修正板下降D、EB2上方的修正板下降

34、韩一机从开始抽真空计时,到高阀开启,正常情况下需要多少分钟?

（B）A、1分钟B、5分钟C、10分钟D、30分钟

35、镀膜机在镀膜过程中,需要操作员工关注以下哪些情况?

（ABCD）A、蒸发速率稳定情况B、APC充氧情况C、电子枪光斑位置及大小情况D、光控曲线的走向及形状.

36、为减少镜片人为污染，员工在取镜片时，应采取以下哪些保护措施？

（BC）A、不开吸尘器B、戴棉手套C、戴口罩D、戴手指套

37、手动预熔材料时，应注意下列哪些事项？

（ABCD）A、真空室内达到一定的真空度，开始加电流预熔材料B、光斑不能打到坩埚边上，更不能打到坩埚外边C、预熔时的电流一定要高于蒸发时的电流D、不同材料不同的预熔电流

38、下列哪些部件在机器运行时需要冷却水？

（BCD）A、电子枪B、扩散泵C、坩埚盘D、晶振头

39、有些镀膜夹具的摆放有上下之分,如棱镜、平板夹具，如果上下颠倒摆放,镜片会因于什么原因而报废：

（D）A、破边B、膜不洁C、划伤D、通光

40、镀膜机在自动充气（待开门）状态下，下列哪些情况是正确的？

（ABC）A、LV开B、MTR开C、FV开D、MV开。

41、在清洗和安装电子枪高压电极的引线时，为了防止扭坏电极，我们如何选择工具？

（B）A、鸭嘴钳B、两只扳手C、尖嘴钳D、螺丝刀

42、对于AR膜而言，下列哪个波段反射率偏高时，镜片的反射光呈现红色？

（D）A、400~420nm    B、500~530nm      C、580~620nm    D、630~760nm

43、每台机器安装修正板的目的是（C）A、调整内外排温度分布B、调整机器内的真空度分布C、调整内外排膜厚分布D、调整同圈厚度分布.

44、如果加热板下方的温度探头移位,比正常时要低许多,结果镜片温度将会：

（B）A、比正常时低B、比正常时高C、基本不变D、划破镜片

45、在蒸镀膜料时，电子枪电流有，但加不高的原因是（AD）A、装电子枪灯丝螺丝松了B、电子枪灯丝寿命到期C、灯丝断了D、高压引线松动

46、在正常情况下，目前规定韩一机器使用新晶振最多只能镀（B）炉A、一B、二C、三D、不确定

47、镀膜机中EB代表的含义（C）A、电脑B、扩散泵C、电子枪D、光斑

48、下列（B）符号代表Y方向的光斑大小A、YP      B、YS     C、XP      D、EB

49、下列（A）符号代表X方向的光斑位置A、XP   B、XS     C、YP     D、EB

50、机器按规定（D）换护板。

A、每周B、每天C、每炉D、每班

51、在正常情况下，我们镀一炉650±10nmIR-CUT需要多长时间（A）A、6小时B、2小时C、4小时D、8小时

52、在正常情况下，我们镀一炉普通增透需要多长时间（B）A、6小时B、2小时C、4小时D、半小时

53、下列（B）符号代表X方向的光斑大小A、XPB、XSC、YPD、EB

54、下列（C）符号代表Y方向的光斑位置A、XPB、XSC、YPD、EB

55、以下材料折射率最高的是（C）A、SIO2     B、AL2O3     C、TIO2       D、MGF2

55、以下材料折射率最低的是（D）A、SIO2    B、AL2O3     C、TIO2       D、MGF2

56、晶振不好会导致以下哪些结果（AC）A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好

57、充氧不稳会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好

58、光控曲线不好会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好

59、温度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好

60、真空度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好

三、判断题

1、本部目前所使用的镀膜机有单层镀膜机、多层镀膜机和磁控溅射镀膜机（╳）

2、在选择膜系，按照自己以前镀过的膜系经验来选择膜系的（╳）

3、多层镀膜机每次可以蒸发二种以上的镀膜料（√）

4、每台多层镀膜机都配有二把电子枪（╳）

5、开机前先检气压要求为2公斤以下（╳）

6、开机前先检水压要求为10公斤以上（╳）

7、开启稳压电源，稳压指示应为220V（╳）

8、自动关机时不需要考虑真空度就可以直接关机（╳）

9、自动关机时只要把总电源关掉就可以了（╳）

10、关扩散泵后等待30分钟就可以关掉设备总电源（╳）

11、手动开机时，打开扩散泵（DP）加热开关前先需把MV阀打开，否则会影响扩散泵抽速（╳）

12、当扩散泵指示灯长亮时说明扩散泵还在加热完成，还不能正常工作（╳）

13、手动关机时，关闭扩散泵加热，等冷却50分钟后，需先关闭MV阀、再关罗茨泵和机械泵（╳）

14、镜片上架时需先将待镀镜片确认面别，并对照作业标准书确定膜系（√）

15、镜片上架后，确认镜片不会掉下来，关门按“STOP”机器自动运行，并选择好膜系（╳）

16、预熔时先把电子枪手/自动开关拔到REMOTE，把POCKET按钮拔到MAN，用上下键选择好要预熔的坩埚号按SET（转动到位）（╳）

17、按ACCON、FILON，旋EMISSION一点（看到光班），旋控制柜面板上的POSITION/SCANX与Y位置把位置定到边缘（╳）

18、预熔H4时，电子枪电流只加到100~150MA就可以预熔好材料（╳）

19、在镜片镀膜前先需核对所镀镜片与流转单是否相符（√）

20、设备点检每周一次，发现异常及时修理（╳）

21、机器按规定每月一次大洗，每天定期换护板（╳）

22、电子枪挡板更换周期为每四罩一次（╳）

23、按点检表内容和操作过程实际情况认真填写（操作一步、填写一步）（√）

24、记录者可以只写姓氏，不写工号（╳）

25、若点检发现有与要求不相符的情况出现时需及时向线长汇报，并认真记录在设备点检表内（√）

26、膜料、辅料领用时先填写领用单，由车间授权人员签字后向成品仓库领用（√）

27、在安装新晶振时，发现晶振寿命不好，把那片新晶振取下扔掉，重新换上新晶振（╳）

28、添加SIO2膜料药勺可以拿来添加氟化镁膜料（╳）

29、在添加好膜料后，各种膜料瓶子放到机器旁边就可以了（╳）

30、镀膜员工可以保管不合格镜片（╳）

31、报废片与合格片需在同一个盒子内摆放，防止混淆（╳）

32、不合格镜片非专职人员可以随便拿取（╳）

33、韩一机器、昭和机器和新科隆机器中，显示真空度单位都是一样的（╳）

34、韩一机器可以利用光控进行膜厚控制（╳）

35、新科隆机器既可以利用光控控制也可以利用晶振控制（√）

36、昭和机器可以利用旧的晶振装到机器上进行镀膜控制（√）

37、昭和机器和新科隆机器，在镀TIO2时光控走动方向一样（╳）

38、昭和机器和新科隆机器电子枪都是270度（√）

39、韩一机器和新科隆机器的电子枪都是270度（╳）

40、在装韩一电子枪时，装好电子枪灯丝拧紧电子枪灯冒，但拧紧之后又要倒转1/4圈（√）

41、符号表示分光膜（╳）

42、目前本部镀膜机配制的膜厚控制仪有MDC360、IC-5和XTC-2（╳）

43、需连续预熔下个坩埚时，不需要把EMISSION（电流）旋小，只把下一个坩锅转到位就开始预熔（╳）

44、韩一机器在镀膜时，修正板全部是自动升降的（╳）

45、新科隆和昭和机器在镀膜时，修正板全部是自动升降的（√）

46、昭和镀膜机在镀IR-CUT时，真空度抽到5.0E-5Torr,开始自动预熔SIO2膜料（╳）

47、电子枪光斑X方位置偏移不在中心时，我们只需调节XP（√）

48、在相同光斑条件下，电子枪镀AL2O3电流跟MGF2电流大小差不多（╳）

49、镀膜机镀膜结束，不需要冷却可直接充气（╳）

50、每次更换晶振，除了我们换上新的晶振，还必须把晶振头也清冼干净（√）

三、简答题。

1．简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策？

答：

原因对策1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件2坩锅没有清冼干净坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净3镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏4预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻5预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢，不要加的太快6.电子枪档板不干净每罩要更换电子枪档板，以及电子枪档板要清冼干净7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不纯更换其它品种膜料

2．从操作角度来看，如何操作和保养才能让一台镀膜机的膜系稳定？

答：

本题是员工自由发挥题目，没有明确答案，可以从以下三个方面考虑：

1、如何按照作业指导书进行操作？

2、如何维护设备日常保养？

3、在镀膜时出现问题时，怎样去解决这些问题？

3．简述一下镀金属膜注意事项？

答：

高的真空度、低基板温度、快蒸

4、在使用扩散泵应注意那些事项？

答1、冷却水不足，必须关闭扩散泵，否则轻则会造成返油，重则会使扩散泵过热造成扩散泵油烧焦。

（机器若有自动保护装置，会自动停止扩散泵加热，并报警）2、扩散泵必须在低真空阀关闭，预抽阀开启，且系统真空高于真空室真空时才能打开，否则会造成真空室返油

5、光控控制的机器在镀TIO2，光控程序设定为START90PERK1STOP10,而现在的光控曲线镀到80时突然报警，而必须退出程序重新加镀，请问如何设置程序进行加镀？

答：

首先把START值从90改到80，然后重新加镀这一层，读出极值点数值，这时过振量应该这样计算STOP值=（结束值-PERK值）/（90-PERK值）*100

6、为什么要在高真空下镀膜？

答：

1、真空状态下，膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。

对高熔点的氧化物膜料，在真空状态下其熔点要低得多。

也就容易到蒸发温度而不需太高的能量。

2、真空状态下，真空室中空气极少，膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞，即分子自由程长。

膜料容易沉积在基片上。

3、由于真空室中气体分子少，因而氧分子、硫分子等