弯曲波导结构设计.docx
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弯曲波导结构设计
实验三:
弯曲波导结构设计
一、实验目的:
1、掌握弯曲波导的结构、工作原理
2、了解弯曲波导的分析方法及其仿真技术
二、实验原理:
在以玻璃为代表的透明介质衬底的表面上,附着上折射率比衬底略高、厚度可以与光波长相比较的薄膜,光就会被封闭于这种高折射率的薄膜层内构成波导。
在二维光波导的情况下,只有沿厚度方向对光是封闭的,因此波导中的光可以沿表面自由传播。
这么一来光就有可能因为衍射而被全部散失掉。
但是,实际上利用光波导组成光调制器和光开关的时候,光沿表面方向也必须是封闭的,光波的分路、弯曲、耦合等也必须都能够控制,这就是三维光波导。
作为变换光路用的三维光波导器件,弯曲波导占据重要地位。
其中,弯曲半径R越小,传输距离越短,越容易产生光路变换。
但是弯曲波导的损耗随着弯曲半径R的减小而增加。
图1表示弯曲部分的导模场分布。
在弯曲波导中,为了使光波在传输过程中,其波面不被破坏,弯曲部分外侧波导光的相速度必须大于内侧波导光的相速度。
因此,在弯曲外侧所看到的光波中,在
部分的相速度会超过光速。
这就意味着在
部分的光波在半径方向上存在着辐射损耗。
当设计弯曲波导时,正确评估这部分辐射损耗至关重要。
假定在弯曲部分伴随着辐射而造成的波导光衰减常数为
,在
的场合下,可以得出
图1弯曲波导的导模场分布
再者,由图1可知,弯曲部分导模场分布偏向拐弯的外侧,该现象被称之为边缘模,这种场分布现象与波导的直线部分的场分布是不同的。
由此而产生了弯曲部分入口处的场分布不匹配,入射光的部分功率辐射进衬底,这种损耗叫做模变换损耗,它与辐射损耗一起构成了决定弯曲波导损耗的主要原因。
三、实验内容:
利用OptiBPM6.0设计一个弯曲波导并观察并分析相关结果。
四、实验方法:
1、创建材料库:
材料库参数:
Materials-Dielectric1:
Name:
cladding
2DIsotropicRefractive:
1.442
3DIsotropicRefractive:
1.442
Name:
guide
2DIsotropicRefractive:
1.45
3DIsotropicRefractive:
1.45
Profiles-Channel:
Name:
channel
2DProfiledefinitionmaterial:
guide
晶体参数:
Profile:
channel
WaferDimensions参数:
Length:
800
Width:
50
2DWaferProperties参数:
Material:
cladding
2.添加波导和输入平面:
(1)波导参数如下表:
波导名称
Startoffset
Endoffset
Width
Waveguideradius
Horizontal
Vertical
Horizontal
Vertical
Arcwaveguide
0
-10
800
-8
4
4000
(2)添加输入平面
(3)输入面的参数中将Zposition的值设置为2.0000。
3、仿真并观察仿真结果。
4、设计原程序
SIMULATIONPARAMETERS
SimulationType:
2D
StartingField:
Type:
Modal
ZPosition:
2.000000
Label:
InputPlane1
Wavelength(祄):
1.550000
GlobalReferenceIndex:
Type:
Modal
Value:
(1.44635996937882,0.00000000000000)
UserInterfaceConfiguration:
NumberofDisplays:
100
SimulationTechnique:
SimulateAsIs
2DPARAMETERS
Polarization:
TE
Mesh:
Numberofpoints/祄:
9.9800
Numberofpoints:
500
BPMSolver:
Paraxial
Engine:
FiniteDifference
SchemeParameter:
0.5000
PropagationStep:
1.5500
WaferWidth(祄):
50.0000
BoundaryCondition:
PML
Layers:
6
TheoreticalReflectionCoefficient:
1.0000e-006
Non-LinearBPM:
UsingNon-LinearSimulation:
FALSE
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- 关 键 词:
- 弯曲 波导 结构设计