创新实验计划项目《光电信息技术人才需求的调研分析》.docx
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创新实验计划项目《光电信息技术人才需求的调研分析》
大学生创新性实验计划项目作品
项目名称:
光电信息技术人才需求的调研分析
项目所属一级学科:
电子科学与技术
项目承担学院:
光电技术学院
光电信息技术人才需求的调研分析
引言
在当今全球范围内,光电信息产业已被公认为是本世纪的主导行业之一,是经济发展的制高点。
所谓光电信息技术,包括电子科学与技术和光信息技术,其中电子科学与技术又分为光电子和光通信两个方向。
按照由全球相关领域研究机构批准的选题——“21世纪光科学与工程学”对光电信息技术的作用做过如下描述:
它是信息技术、先进制造技术和国防领域的关键技术,也是光电信息行业的核心技术。
因此,世界上越来越多的公司都开始重视光电信息技术研发工作,由此可见其发展前景非常可观。
我国于20世纪50年代才开始出现光电信息产业,光电信息技术还相对落后,进入21世纪后,我国光电信息技术迅猛发展,但光电信息技术方面人才供不应求。
然而,该行业不同领域对人才需求不明确,与之相关的人才市场调研数据比较缺乏,这使得光电信息技术人才对自己的就业前景和发展方向感到模糊。
同时,全球金融危机也会给光电信息技术人才就业形势带来影响,有鉴于此,我们就光电信息技术产业发展与人才需求做一次全面的调研分析。
关键字:
光电信息产业;人才市场;就业形势;调研
[中图分类号]:
C[文献标识码]:
B
1调研概述
1.1调研目的
为更好地完善光电信息技术人才的培养方案,我们此次调研主要在于以下几点:
明确我国光电信息行业的现状和未来的发展趋势,以及对我国其他行业的影响;明确国外光电信息行业的发展现状,并与我国光电信息行业发展做比较,得出相应结论,取其精华,为我国光电信息行业进一步发展做理论参考;了解现代信息社会对光电信息技术人才的需求。
不同时代对光电信息技术人才的需求不一样,及时了解当前的需求是必要的;社会培养光电信息技术人才的走向,光电信息技术人才教育的发展模式;了解我国光电信息技术人才就业意向和预测其就业前景。
1.2调研内容
1、国内外光电信息产业现状与发展趋势分析
(1)、国外光电信息产业发展趋势分析,我国光电信息产业发展现状以及在其他产业中占据的地位。
(2)、现阶段我国各企业对光电信息技术人才的需求与要求:
光电信息类企业及其他企业(主要为研发行业、销售行业、服务行业)对光电信息技术人才的需求;光电信息类企业对光电信息技术人才应具备的知识结构、能力结构和素质结构的要求。
2、人才调研与分析
(1)、光电信息技术人才就业意向及其前景。
主要从以下三个方面进行研究:
与专业相关的技术性工作、服务性工作、销售性工作;其他非专业类工作;继续学习深造——读研。
(2)、现阶段企业内光电信息技术人才的地位和处境以及发展前景。
光电信息技术人才在未来就业市场中将面临的机遇和挑战。
(3)、金融危机对光电信息技术人才就业的影响。
3、人才培养
(1)、根据企业对光电信息技术人才的要求,各大高校应该怎样来开设专业课程以弥补光电信息技术人才所缺乏的专业素质。
(2)、综合整个人才市场,根据光电信息产业的多样性结构和光电信息技术人才的不同分类,社会应该培养出具备何种能力与素质的高层次人才,来带动社会的进一步发展。
1.3调研方案设计思想
我们本着彻底了解光电信息产业发展趋势,切实了解相关企业对广大光电信息人才的需求度,以及全心全意为光电信息技术人才就业和发展服务的思想,全面展开对光电信息技术人才需求的调研。
遵循“兴趣驱动、自主实验、重在过程”的原则,依靠团结合作精神,在老师的精心指导下,我们自主进行此次调研的设计。
运用科学实用的调研方法、结合高效实际的调研理论展开调研工作。
并且独立组织实施进行数据分析处理和撰写总结报告等工作,以此提高我们探索问题、分析问题和解决问题的能力。
1.4调研对象基本情况与调研方法
1.4.1调研范围与对象
1、调研范围:
此次调研历时长,范围广。
主要抽样调研范围包括北京、上海、广州、深圳、杭州、武汉、江苏、四川、重庆、贵州、西安、长春、沈阳、郑州、辽宁、湖南、湖北等全国主要城市的159所光电信息企业单位与32所光电信息技术专业高校。
(具体见附表三:
调研单位与学校列表)
2、调研对象:
包括光电信息企业单位的人事部主管(202名)、技术部主管(51名)、财务部主管(34名)、销售部主管(67名)、企业职工(360名)与光电信息技术专业教师(5名)、在校学生(2455名)、应届毕业生(550名)、在校研究生(34名)、在职研究生(10名)。
具体见下表1-1、表1-2:
表1-1调研对象的职业组成
职业类型
人数
总合计
人事部主管
202
714
3763
技术部主管
51
财务部主管
34
销售部主管
67
部门职工
360
教师
5
3049
大学生
3000
研究生
44
表1-2调研对象的性别组成
性别
具体对象
男
女
合计
企业单位负责人
277
77
354
企业单位职工
298
62
360
高校教师
4
1
5
高校大学生
2587
423
3000
研究生
32
12
44
总合计
3763
1.4.2调研方法
本调研采取质性研究,针对不同样本采用多样性方式组合进行调研。
主要采用实地问卷调研与个案研究方法,辅之以电话访谈、邮件问卷调研、网络投票与问卷调研,具体操作的方法是个案访谈、网络数据收集与分析等,详细方法如下:
1、实地调研:
我们主要抽样四川成都83所光电信息相关企业单位与进行实地调研。
由于社会因素及其他原因,其中共有68家公司存活,并且接受团队问卷调研与笔录访问。
整理合格问卷共计65份,有效回收率高达95.58%;此外,我们还对成都信息工程学院、四川大学、电子科技大学、西华大学、西南交通大学教师与学生进行问卷调研与个案访谈,共发放问卷500份,回收有效问卷492份,有效率回收率为98.20%;
2、个案专访:
由于调研时间与经费的限制,本次调研共仅对四川成都范围内的企业与学校共计85人进行了个案专访,其中企业人事部相关人员35人,教师5人,学生45人。
3、电话访谈:
由于地区的限制,我们对全国其他主要城市的光电信息企业单位与高校采用电话抽样访谈,其中拨打电话次数72次,接受访问的有65名。
4、邮件调研:
团队抽样全国119所光电信息企业以邮件访问方式进行网络问卷调研,有98所企业填写并返回邮件,其中整理合格问卷共计94份,有效回收率为78.99%;
5、网络调研:
我们主要在XX、搜狐、QQ投票网、光行天下论坛、光电在线论坛、光学论坛等知名网站发布问卷投票,累计共计2549人参与问卷投票,整理有效问卷共计2437份,有效回收率达95.61%。
1.5调研组织安排
表1-3调研实施进度表
时间段
工作进度
2009年12月——2010年01月
调研方向、方案、问卷的设计;
2010年01月——2010年02月
抽样成都83所光电信息相关企业单位进行调研;
2010年02月——2010年03月
抽样全国119所光电信息企业以邮件访问方式进行网络问卷调研;
2010年03月——2010年04月
此阶段是对全国各高校光电信息技术专业学生进行实地问卷调研与网络问卷调研;
2010年04月——2010年05月
团队成员合作分工,整理回收的所有问卷及资料;
2010年06月——2010年09月
根据资料撰写调研报告书,进行复查,整理最终报告书。
1.6调研实施的质量控制
1、全面检查:
现场调研中,在向每个调研对象询问并记录完毕后,我们都要对填写的内容进行全面检查,如有疑问马上咨询,有错误及时改正,有遗漏项目及时补填。
2、逐日复查:
从正式调研开始后的当晚就逐日对每份调研问卷表的准确性和完整性进行复查,发现遗漏项时,必须在第二天调研的时候注意避免再范同样的错误。
3、补全疏漏:
在调研究过程中,对已完成的人员进行了50.00%的复查,考核调研质量,对有遗漏或者填写不准确的地方予以补全,将误差较大的数据从中省去,以确保得到最有效的调研结果。
2光电信息产业发展概述
光电信息技术主要主要研究制造电子、光电子的各种材料及元器件以及集成电路、集成电子系统和光电子、光电信息系统,并研究开发相应的设计和制造技术。
光电信息技术涵盖的学科范围及其广阔,它以电子和光电子器件为核心,物理、材料、工艺、器件、系统构成了一个完整的学科体系。
光电信息技术本科专业所涵盖的专业方向有:
微电子技术、光电子技术、物理电子技术、电子材料及元器件等(见图2-1)。
目前,我国高校光电信息技术本科专业大部分以微电子技术和光电子技术作为主要的专业方向。
就光电信息技术产业而言,一般也仅指微电子与光电子两大产业。
21世纪将是微电子和光电子协同发展的时代。
面对光电信息技术的迅猛发展,许多发达国家,如美国、德国、日本、英国、法国等,都将微电子技术和光电子技术纳入了国家发展计划。
目前,我国在微电子与光电子技术领域的科学研究与产业化均取得了可喜的成就。
但是,应该客观地认识到,在光电信息技术领域,我国与世界发达国家的先进水平仍有不小的差距,特别在微电子技术方面的差距更大。
这既有历史、体制、技术、工艺和资金方面的原因,也有各层次所需专业人才短缺的原因。
2.1微电子相关产业的现状与发展趋势
微电子技术以集成电路芯片的设计、制造、封装为核心,从手机到智能设施的一切都得仰赖芯片作为驱动。
集成电路芯片的应用涉及到许多行业,如:
计算机及其外设、家用电器及民用电子产品、通信器材、医疗仪器、工业自动化设备和军工等。
2.1.1国外技术动态与产业市场概况
1、技术层面概况分析
表2-1集成电路制造技术的发展的6个阶段
年份
1962年
1966年
1967年
1977年
1993年
1994年
阶段类型
小规模集成电路
中规模集成电路
大规模集成电路
超大规模集成电路
特大规模集成电路
巨大规模集成电路
资料显示,集成电路制造技术的发展经历了6个阶段(见表2-1)。
目前,硅晶圆尺寸已经达到12-18英寸,器件的特征尺寸以0.18-0.13微米为主,35纳米乃至20纳米工艺的器件已在实验室制备成功,研究工作已进入纳米技术阶段,其相应的栅氧化层厚度达2.0-1.0nm。
集成电路设计技术的发展核心是电子计算机辅助设计通用软件包(EDA)的开发和应用。
EDA技术的发展经历了3个阶段:
20世纪70年代的计算机辅助设计(CAD)阶段,80年代的计算机辅助工程(GAE)阶段,90年代的电子系统设计自动化(ESDA)阶段。
EDA技术的每一次进步,都引起了设计层次上的一个飞跃。
系统纪级设计的关键电路用一片或几片专用集成电路(ASIC)实现,ASIC按设计方法可分为:
全定制ASIC、半定制ASIC和可编程ASIC(也称为可编程逻辑器件PLD)。
可编程逻辑器件自70年代以来,经历了PAL、GAL、CPLD、FPGA几个发展阶段,其中,CPLD/FPGA属高密度可编程逻辑器件。
目前,集成度已高达200万门/片,已将掩膜ASIC集成度高的优点和可编程逻辑器件设计生产方便的特点结合在一起,特别适合于样品研制或小批量产品开发,使产品能以最快速度上市,因此开发风险也大为降低,目前是主流研究产品。
2、产业市场层面分析
表2-22008年日本Sharp公司产品销售情况
产品种类
DVD播放机
便携信息
终端
移动通信
机
液晶投影机
PC机
彩色液晶电视机
MD机
销售额(万台)
1024
450
40000
109
12300
212
1450
比上年增长(%)
67
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