芯片可靠性测试.docx
- 文档编号:3079482
- 上传时间:2022-11-17
- 格式:DOCX
- 页数:8
- 大小:28.62KB
芯片可靠性测试.docx
《芯片可靠性测试.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《芯片可靠性测试.docx(8页珍藏版)》请在冰豆网上搜索。
芯片可靠性测试
芯片可靠性测试
质量〔Quality〕和可靠性〔Reliability〕在一定程度上可以说是IC产品的生命,好的品质,长久的耐力往往就是一颗优秀IC产品的竞争力所在。
在做产品验证时我们往往会遇到三个问题,验证什么,如何去验证,哪里去验证,这就是what,how,where的问题了。
解决了这三个问题,质量和可靠性就有了保证,制造商才可以大量地将产品推向市场,客户才可以放心地使用产品。
本文将目前较为流行的测试方法加以简单归类和阐述,力求达到抛砖引玉的作用。
Quality就是产品性能的测量,它回答了一个产品是否合乎SPEC的要求,是否符合各项性能指标的问题;Reliability则是对产品耐久力的测量,它回答了一个产品生命周期有多长,简单说,它能用多久的问题。
所以说Quality解决的是现阶段的问题,Reliability解决的是一段时间以后的问题。
知道了两者的区别,我们发现,Quality的问题解决方法往往比较直接,设计和制造单位在产品生产出来后,通过简单的测试,就可以知道产品的性能是否达到SPEC的要求,这种测试在IC的设计和制造单位就可以进行。
相对而言,Reliability的问题似乎就变的十分棘手,这个产品能用多久,whoknows?
谁会能保证今天产品能用,明天就一定能用?
为了解决这个问题,人们制定了各种各样的标准,如
MIT-STD-883EMethod1005.8
JESD22-A108-A
EIAJED-4701-D101
等等,这些标准林林总总,方方面面,都是建立在长久以来IC设计,制造和使用的经验的基础上,规定了IC测试的条件,如温度,湿度,电压,偏压,测试方法等,获得标准的测试结果。
这些标准的制定使得IC测试变得不再盲目,变得有章可循,有法可依,从而很好的解决的what,how的问题。
而Where的问题,由于Reliability的测试需要专业的设备,专业的器材和较长的时间,这就需要专业的测试单位。
这种单位提供专业的测试机台,并且根据国际标准进行测试,提供给客户完备的测试报告,并且力求准确的回答Reliability的问题
在简单的介绍一些目前较为流行的Reliability的测试方法之前,我们先来认识一下IC产品的生命周期。
典型的IC产品的生命周期可以用一条浴缸曲线〔BathtubCurve〕来表示,如图所示
Region(I)被称为早夭期〔Infancyperiod〕。
这个阶段产品的failurerate快速下降,造成失效的原因在于IC设计和生产过程中的缺陷;
Region(II)被称为使用期〔Usefullifeperiod〕。
在这个阶段产品的failurerate保持稳定,失效的原因往往是随机的,比如EOS,温度变化等等;
Region(III)被称为磨耗期〔Wear-Outperiod〕。
在这个阶段failurerate会快速升高,失效的原因就是产品的长期使用所造成的老化等。
认识了典型IC产品的生命周期,我们就可以看到,Reliability的问题就是要力图将处于早夭期failure的产品去除并估算其良率,预计产品的使用期,并且找到failure的原因,尤其是在IC生产,封装,存储等方面出现的问题所造成的失效原因。
下面就是一些ICProductLevelreliabilitytestitems
●>Robustnesstestitems
ESD,Latch-up
对于Robustnesstestitems听到的ESD,Latch-up问题,有很多的精彩的说明,这里就不再锦上添花了。
下面详细介绍其他的测试方法。
●>Lifetestitems
EFR,OLT(HTOL),LTOL
EFR:
EarlyfailRateTest
Purpose:
评估工艺的稳定性,加速缺陷失效率,去除由于天生原因失效的产品。
Testcondition:
在特定时间内动态提升温度和电压对产品进行测试
FailureMechanisms:
材料或工艺的缺陷包括诸如氧化层缺陷,金属刻镀,离子玷污等由于生产造成的失效
Reference:
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
MIT-STD-883EMethod1015.9
JESD22-A108-A
EIAJED-4701-D101
HTOL/LTOL:
High/LowTemperatureOperatingLife
Purpose:
评估器件在超热和超电压情况下一段时间的耐久力
Testcondition:
125?
C,1.1VCC,动态测试
FailureMechanisms:
电子迁移,氧化层破裂,相互扩散,不稳定性,离子玷污等
Reference:
简单的标准如下表所示,125?
C条件下1000小时测试通过IC可以保证持续使用4年,2000小时测试持续使用8年;150?
C测试保证使用8年,2000小时保证使用28年。
125?
C 150?
C
1000hrs 4years 8 years
2000hrs 8years 28years
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
MIT-STD-883EMethod1005.8
JESD22-A108-A
EIAJED-4701-D101
●>Environmentaltestitems
PRE-CON,THB,HAST,PCT,TCT,TST,HTST,SolderabilityTest,
SolderHeatTest
PRE-CON:
PreconditionTest
Purpose:
模拟IC在使用之前在一定湿度,温度条件下存储的耐久力,也就是IC从生产到使用之间存储的可靠性。
TestFlow:
Step1:
SAM(ScanningAcousticMicroscopy)
Step2:
Temperaturecycling
-40?
C(orlower)~60?
C(orhigher)for5cyclestosimulateshippingconditions
Step3:
Baking
Atminimum125?
Cfor24hourstoremoveallmoisturefromthepackage
Step4:
Soaking
Usingoneoffollowingsoakconditions
-Level1:
85?
C/85%RHfor168hrs〔多久都没关系〕
-Level1:
85?
C/60%RHfor168hrs〔一年左右〕
-Level1:
30?
C/60%RHfor192hrs〔一周左右〕
Step5:
Reflow
240?
C(-5?
C)/225?
C(-5?
C)for3times(Pb-Sn)
245?
C(-5?
C)/250?
C(-5?
C)for3times(Lead-free)
*chooseaccordingthepackagesize
FailureMechanisms:
封装破裂,分层
Reference:
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
JESD22-A113-D
EIAJED-4701-B101
THB:
TemperatureHumidityBiasTest
Purpose:
评估IC产品在高温,高压,偏压条件下对湿气的抵抗能力,加速其失效进程
Testcondition:
85?
C,85%RH,1.1VCC,Staticbias
FailureMechanisms:
电解腐蚀
Reference:
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
JESD22-A101-D
EIAJED-4701-D122
HAST:
HighlyAcceleratedStressTest
Purpose:
评估IC产品在偏压下高温,高湿,高气压条件下对湿度的抵抗能力,加速其失效过程
Testcondition:
130?
C,85%RH,1.1VCC,Staticbias,2.3atm
FailureMechanisms:
电离腐蚀,封装密封性
Reference:
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
JESD22-A110
PCT:
PressureCookTest(AutoclaveTest)
Purpose:
评估IC产品在高温,高湿,高气压条件下对湿度的抵抗能力,加速其失效过程
Testcondition:
130?
C,85%RH,Staticbias,15PSIG〔2atm〕
FailureMechanisms:
化学金属腐蚀,封装密封性
Reference:
具体的测试条件和估算结果可参考以下标准
JESD22-A102
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 芯片 可靠性 测试