电镀常用知识.docx
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电镀常用知识
第一章.电镀概论
电镀定义:
电镀为电解镀金属法的简称。
电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。
电镀的基本五要素:
1.阴极:
被镀物,指各种接插件端子。
2.阳极:
若是可溶性阳极,则为欲镀金属。
若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱).
3.电镀药水:
含有欲镀金属离子的电镀药水。
4.电镀槽:
可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。
5.整流器:
提供直流电源的设备。
电镀目的:
电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。
1.镀铜:
打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。
2.镀镍:
打底用,增进抗蚀能力。
3.镀金:
改善导电接触阻抗,增进信号传输。
4.镀钯镍:
改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。
5.镀锡铅:
增进焊接能力,快被其他替物取代。
电镀流程:
一般铜合金底材如下(未含水洗工程)
1.脱脂:
通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。
2.活化:
使用稀硫酸或相关的混合酸。
3.镀镍:
使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。
4.镀钯镍:
目前皆为氨系。
5.镀金:
有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。
6.镀锡铅:
烷基磺酸系。
7.干燥:
使用热风循环烘干。
8.封孔处理:
有使用水溶型及溶剂型两种。
电镀药水组成;
1.纯水:
总不纯物至少要低于5ppm。
2.金属盐:
提供欲镀金属离子。
3.阳极解离助剂:
增进及平衡阳极解离速率。
4.导电盐:
增进药水导电度。
5.添加剂:
缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。
电镀条件:
1.电流密度:
单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。
2.电镀位置:
镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
3.搅拌状况:
搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。
4.电流波形:
通常滤波度越好,镀层组织越均一。
5.镀液温度:
镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。
6镀液PH值:
镀金约4.0~4.8,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,
7.镀液比重:
基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。
电镀厚度:
在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a.μ``.微英寸,b.μm,微米,1μm约等于40μ``.
1.Tin—LeadAlloyPlating:
锡铅合金电镀
作为焊接用途,一般膜厚在100~150μ``最多.
2.NickelPlating 镍电镀
现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50μ``以上为一般规格,较低的规格为30μ``,(可能考虑到折弯或者成本)
3.GoldPlating金电镀
为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50μ``以上.
镀层检验:
1.外观检验:
目视法,放大镜(4~10倍)
2.膜厚测试:
X-RAY荧光膜厚仪.
3.密着实验:
折弯法,胶带法或两者并用.
4.焊锡实验:
沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.
5.水蒸气老化实验:
测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.
6.抗变色实验:
使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.
7.耐腐蚀实验:
盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等.
镀金封孔剂:
电子触点润滑防锈剂
特力SJ-9400(NO.4)
(对于镀金效果相当好!
)
特 点1)因是水性,不受氟里昂、有机溶剂规定限制;
2)防止镀金层的表面氧化、腐蚀;
3)能满足各种环境试验的要求;
4)有良好的润滑效果;
5)减小摩擦系数,稳定接触电阻,改善插拔性能;
6)降低镀层的厚度,减少贵金属的消耗,延长产品的使用寿命;
7)能在常温下、短时间内浸涂,使用方便。
用 途电子镀金产品表面的防腐、润滑。
外 观黄色透明液体
比 重1.01(15/4℃)
凝固点0℃以下
引火点无
PH 值8.30
溶解性水溶性
形成膜厚@20℃ 约0.5μm
涂敷温度常温
使用方法稀释浓度:
用5倍去离子水稀释
涂抹方法:
常温浸涂
浸涂时间:
2-3秒
干燥方法:
110℃以下的热风干燥
注意事项1)不要在0℃以下处保存;
2)涂抹后不要水洗;
3)要完全干燥;
4)浓度变高时,用去离子水稀释。
主要成份应用表面活性剂
安全性法规毒物及剧毒物取缔法 不属
劳动安全卫生法 不属
消防法(危险物) 不属
包 装1Kg、17Kg/桶
特力SJ-9201R(EM-2000R)
(对于半金锡,或半金镍上效果相当好!
)
特 点1)因是水性,不受氟里昂、有机溶剂规定限制;
2)防止镀金层的表面氧化、腐蚀;
3)能满足各种环境试验的要求;
4)有良好的润滑效果;
5)减小摩擦系数,稳定接触电阻,改善插拔性能;
6)降低镀层的厚度,减少贵金属的消耗,延长产品的使用寿命;
7)能在常温下、短时间内浸涂,使用方便。
用 途电子镀金产品表面的防腐、润滑。
外 观白色乳液
比 重1.00(15/4℃)
凝固点0℃以下
引火点无
PH 值8.9
溶解性水溶性
形成膜厚@20℃ 约0.5μm
涂敷温度常温
使用方法稀释浓度 用5倍去离子水稀释
涂抹方法 常温浸涂
浸涂时间 2-3秒
干燥方法 110℃以下的热风干燥
注意事项1)不要在0℃以下处保存;
2)涂抹后不要水洗;
3)要完全干燥;
4)浓度变高时,用去离子水稀释。
主要成份(基 油) 石蜡系碳化水素油
(添加剂) 酯、复素环状化合物、界面活性剂
安全性法规毒物及剧毒物取缔法 不属
劳动安全卫生法 不属
消防法(危险物) 不属
包 装1Kg、17Kg/桶
电子触点润滑防锈剂
特力SJ-9700(EM-7000)
特 点1)耐高温型的水性封孔剂;
2)因是水性,不受氟里昂、有机溶剂规定限制;
3)防止镀金层的表面氧化、腐蚀;
4)能满足各种环境试验的要求;
5)有良好的润滑效果;
6)减小摩擦系数,稳定接触电阻,改善插拔性能;
7)降低镀层的厚度,减少贵金属的消耗,延长产品的使用寿命;
8)能在常温下、短时间内浸涂,使用方便。
用 途电子镀金产品表面的防腐、润滑。
外 观白色乳液
比 重0.98(15/4℃)
凝固点0℃以下
引火点无
PH 值8.84
溶解性水溶性
形成膜厚@20℃ 约0.5μm
涂敷温度常温
使用方法稀释浓度:
用5倍去离子水稀释
涂抹方法:
常温浸涂
浸涂时间:
2-3秒
干燥方法:
110℃以下的热风干燥
注意事项1)不要在0℃以下处保存;
2)涂抹后不要水洗;
3)要完全干燥;
4)浓度变高时,用去离子水稀释。
主要成份应用表面活性剂
安全性法规毒物及剧毒物取缔法 不属
劳动安全卫生法 不属
消防法(危险物) 不属
包 装1Kg、17Kg/桶
溶剂型产品
特力YJ-9201(C-2000)
特 点1)显著的防潮、防腐蚀及防盐雾功能;
2)能满足各种不同的环境试验要求;
3)有良好的润滑效果;
4)减小摩擦系数,稳定接触电阻,改善插拔性能;
5)降低镀层的厚度,减少贵金属的消耗,延长产品的使用寿命;
6)涂覆工艺简单、使用成本低。
用 途电子镀金产品表面的防腐、润滑。
外 观黄色液体
比 重0.925(15/4℃)
粘 度@0℃ 980cst
@40℃ 60cst
@100℃ 8cst
流动点-25℃
引火点220℃
溶解性酒精类 不溶
氯化溶剂类 可溶
氟素溶剂类 可溶
芳香族溶剂类 可溶
形成膜厚@20℃ 约0.5μm
工作温度(-80~+100)℃
短时间容许最高温度+125(小于10小时)
涂敷温度室温
使用方法可用毛笔或毛刷等工具直接均匀涂敷或用溶剂稀释后涂敷。
(建议稀释浓度为1.5%)
主要成份(基 油) 石蜡系碳化水素油
(添加剂) 酯、复素环状化合物
安全性法规毒物及剧毒物取缔法 不属
劳动安全卫生法 不属
消防法(危险物) 第四类第四石油类
包 装1L、17L/桶
特力YJ-9501(C-9030)
特 点1)显著的防潮、防腐蚀及防盐雾功能;
2)能满足各种不同的环境试验要求;
3)有良好的润滑效果;
4)减小摩擦系数,稳定接触电阻,减小插拔力;
5)降低镀层的厚度,减少贵金属的消耗,延长产品的使用寿命;
6)涂覆工艺简单、使用成本低。
用 途电子镀金产品表面的防腐、润滑。
外 观淡黄色液体
比 重0.848(15/4℃)
粘 度@0℃ 7000cst
@40℃ 395cst
@100℃ 33cst
流动点-40℃
引火点272℃
溶解性酒精类 不溶
氯化溶剂类 可溶
氟素溶剂类 可溶
芳香族溶剂类 可溶
形成膜厚@20℃ 约0.5μm
工作温度(-60~+100)℃
涂敷温度室温
使用方法可用毛笔或毛刷等工具直接均匀涂敷或稀释后涂敷。
(建议稀释浓度为1.5%)
主要成份(基 油) 聚α烯烃
(添加剂) 防锈剂、油性向上剂、酸化防止剂、界面活性剂
安全性法规毒物及剧毒物取缔法 不属
劳动安全卫生法 不属
消防法(危险物) 不属
包 装1L、17L/桶
第二章 电流密度
电流密度的定义:
即电极单位面积所通过的安,一般以A/dm3表示.电流密度在电镀操作上是很重要的参数,如镀层的性质,镀层的分布,电流效率等,都有很大的关系.电流密度有分为阳极电流密度和阴极电流密度,一般计算阴极电流密度比较多.
电流密度的计算:
平均电流密度(ASD)===电镀槽通电的安培数(Amp)/电镀面积(dm2)
在连续电镀端子中,计算阴极电流密度时,必须先知道电镀槽长及单支端子电镀面积,然后再算出渡槽中的总电镀面积.
例:
有一连续端子电镀机,镍槽槽长1.5米,欲镀一种端子,端子之间距为2.54毫米,每支端子电镀面积为50mm2,今开电流50Amp,请问平均电流密度为多少?
1.电镀槽中端子数量==1.5×1000/2.54==590支
2.电镀槽中电镀面积==590×50==29500mm2==2.95dm3
3.平均电流密度==50/2.95==16.95ASD
电流密度与电镀面积:
相同(或同成分)的电流下,电镀面积越小,其电流密度越大,电镀面积越大,其电流密度越小.如下图,若开100安培电流,A区所承受的电流密度可能会是B区的两倍.
电流密度与阴阳极距离:
由于端子外表结构不一规则状,在共同的电流下,端子离阳极距离较近的部位称为局部高电流区(b),离阳极距离较远的部位称为局部低电流区(a).
电流密度与哈氏槽试验:
每一种电镀药水都有一定的电流密度操作范围,大致上可以从哈氏槽试验结果看出来,因为哈氏槽的阳极面与阴极面之间并非平行面,离阳极面较近的阴极端其电流密度比离阳极面远者大,因此,可以比较高电流密度部分与低电流密度部分的电镀状况.
电流密度与电镀子槽:
端子在浸镀时,由于端子导电处是在电镀子槽两端外部,所以阴极(端子)电子流是从子槽两端往槽中传输的,而造成在电镀子槽内两端的端子所承受的电流(高电流区),远大于子槽中间处端子所承受的电流(低电流区).
电流密度与端子在电镀槽中的位置:
由于在电镀槽子槽中的阳极是固定的,且阳极高度远大于端子高度,所以阴极(端子)在镀槽中经常会有局部位置承受高电流群.
第三章,电镀计算
产能计算:
产能=产速/端子间距
产能(KPCS/HR)=60L/P(L:
产速(米/分),P:
端子间距MM)
举例:
生产某一种端子。
端子间距为5。
0MM,产速为20米/分,请问产能?
产能(KPCS/Hr)=60×20/5=240KPCS/Hr
耗金计算:
黄金电镀(或钯电镀)因使用不溶解性阳极(如白金太綱),故渡液中消耗只金属离子无法自行补给。
需依赖添加方式補充。
一般黄金是以金盐(金氰化钾)PGC来补充,而钯金属是以钯盐(如氯化铵钯。
硝酸铵钯或氯化钯)来补充。
本段将添加量计算公式简化为:
金属消耗量(g)=0.000254AZD(D:
为金属密度g/cm3)
①黄金消耗量(g)=0.049AZ(黄金密度19.3g/cm3)
PGC消耗量(g)=0.0072AZ
②钯金属消耗量(g)=0.00305AZ(钯金属密度为12.0g/cm3)
③银金属消耗量(g)=0.02667AZ(银金属密度为10.5g/cm3)
A:
为电镀面积 Z:
为电镀厚度
理论上1PGC含金量为0.6837g,但实际上制造出1Gpgc,含金量约在0.682g
之谱。
举例:
有一连续端子电镀机,欲生产一种端子10000支,电镀黄金全面3μ``,每支端子电镀面积为50mm2,实际电镀出平均厚度为3.5μ``, 请问需补充多少gPGC?
①10000支总面积=10000×50=500000mm2=50dm2
②耗纯金量=0.0049AZ==0.0049×50×3.5==0.8575g
③耗PGC量==0.8575/0.682==1.26g
或耗PGC量==0.0072AZ==0.0072×50×3.5==1.26g
阴极电镀效率计算:
一般计算阴极电镀效率(指平均效率)的方法有两种,如下:
阴极电镀效率E==实际平均电镀厚度Z`/理论电镀厚度Z
举例:
假设电镀镍金属,理论电镀厚度为162μ``,而实际所测厚度为150μ``,请问阴极电镀效率?
E==Z`/Z==150/162==92.6%
一般镍的阴极电镀效率都在90%以上,90/10锡铅的阴极电镀效率约在80%以上,黄金电镀则视药水金属离子含量多寡而有很大的差异。
若无法达到应有的阴极电镀效率,则可以从搅拌能力的提升或检查电镀药水的组成。
电镀时间的计算:
电镀时间(分)==电镀子槽总长度(米)/产速(米/分)
例:
某一连续电镀设备,每一个镀镍子槽长为1.0米,共有五个,生产速度为10米/分,请问电镀时间为多少?
电镀时间(分)==1.0×5/10==0.5(分)
理论厚度的计算:
由法拉第两大定律导出下列公式:
理论厚度Z(μ``)==2.448CTM/ND
(Z厚度,T时间,M原子量,N电荷数,D密度,C电流密度)
举例:
镍密度8.9g/cm3,电荷数2,原子量58.69,试问镍电镀理论厚度?
Z==2.448CTM/ND
==2.448CT×58.69/2×8.9
==8.07CT
若电流密度为1Amp/dm2(1ASD),电镀时间为一分钟,则理论厚度
Z==8.07×1×1==8.07μ``
金理论厚度==24.98CT(密度19.3,分子量196.9665,电荷数1)
铜理论厚度==8.74CT(密度8.9,分子量63.546,电荷数2)
银理论厚度==25.15CT(密度10.5,分子量107.868,电荷数1)
钯理论厚度==10.85CT(密度12.00,分子量106.42,电荷数2)
80/20钯镍理论厚度==10.42CT(密度11.38,分子量96.874,电荷数2)
90/10锡铅理论厚度==20.28CT(密度7.713,分子量127.8,电荷数2)
综合计算A:
假设电镀一批D-25P-10SnPb端子,数量为20万支,生产速度为20M/分,每个镍槽镍电流为50Amp,金电流为4Amp,锡铅电流为40Amp,实际电镀所测出厚度镍为43μ``,金为11.5μ``,锡铅为150μ``,每个电镀槽长皆为2米,镍槽3个,金槽2个,锡铅槽3个,每支端子镀镍面积为82平方毫米,镀金面积为20平方毫米,镀锡铅面积为46平方毫米,每支端子间距为0.6毫米,请问:
1.20万只端子,须多久可以完成?
2.总耗金量为多少g?
,换算PGC为多少g?
,3.每个镍,金,锡铅槽电流密度各为多少?
4.每个镍,金,锡铅电镀效率为多少?
解答:
1. 20万支端子总长度==200000×6==1200000==1200M
20万支端子耗时==1200/20==60分==1Hr
2. 20万支端子总面积==200000×20==4000000mm2==400dm2
20万支端子耗纯金量==0.0049AZ==0.0049×400×11.5==22.54g
20万支端子耗PGC量==22.54/0.681==33.1g
3. 每个镍槽电镀面积==2×1000×82/6==27333.33mm2==2.73dm2
每个镍槽电流密度==50/2.73==18.32ASD
每个金槽电镀面积==2×1000×20/6==6666.667mm2==0.67dm2
每个镍槽电流密度==4/0.67==5.97ASD
每个锡铅槽电镀面积==2×1000×46/6==15333.33mm2==1.53dm2
每个镍槽电流密度==40/1.53==26.14ASD
4. 镍电镀时间==3×2/20==0.3分
镍理论厚度==8.07CT==8.07×18.32×0.3==44.35
镍电镀效率==43/44.35==97%
金电镀时间==2×2/20==0.2分
金理论厚度==24.98CT==24.98×5.97×0.2==29.83
金电镀效率==11.5/29.83==38.6%
锡铅电镀时间==3×2/20==0.3分
锡铅理论厚度==20.28CT==20.28×26.14×0.3==159
锡铅电镀效率==150/159==94.3%
综合计算B:
今有一客户委托电镀加工一端子,数量总为5000K,其电镀规格为镍50μ``,金GF,锡铅为100μ``。
1.设定厚度各为:
镍60μ``,金1.3μ``,锡铅120μ``。
2.假设效率各为:
镍90%,金20%,锡铅80%。
3.可使用电流密度范围各为:
镍设定15ASD,金0~10ASD,锡铅2~30ASD。
4.电镀槽长各为:
镍6米,金2米,锡铅6米。
5.端子间距为2.54mm。
6.单支电镀面积各为:
金15mm2,镍54mm2,锡铅29mm2。
请问:
1.产速为多少?
2.需要多少时间才能生产完毕?
(不包含开关机时间)
3.镍电流各为多少安培?
4.金,锡铅电流密度及电流各为多少?
解答:
1.镍效率==镍设定膜厚/镍理论膜厚0.9==60/Z Z=67μ``(镍理论膜厚)
镍理论膜厚==8.074CT 67==8.074×15×T T==0.553分(电镀时间)
镍电镀时间==镍电镀槽长/产速 0.553=6/VV=10.85米/分(产速)
2.完成时间==总量×0.001×端子间距/产速
t==5000000×0.001×2.54/10.85==1170.5分1170.5/60==19.5Hr(完成时间)
3.镍电镀总面积==镍电镀槽长/端子间距×单支镍电镀面积
M=6×1000/2.54×54==127559mm2==12.7559dm2
镍电流密度==镍电流/镍电镀总面积 15==A/12.7559 A==191安培
4.金效率==金设定膜厚/金理论膜厚
0.2==1.3/Z Z=6.5μ``(金理论膜厚)
金电镀时间==金电镀槽长/产速 T=2/10.85==0.1843分
金理论膜厚==24.98CT 6.5==24.98×C×0.1843 C==1.412ASD(电流密度)
金电镀总面积==金电镀槽长/端子间距×单支金电镀面积
M=2×1000/2.54×15==11811mm2==1.1811dm2
金电流密度==金电流/金电镀总面积 1.412==A/1.1811 A==1.67安培
锡铅效率==锡铅设定膜厚/锡铅理论膜厚
0.8==120/Z Z==150μ``(锡铅理论膜厚)
锡铅电镀时间==锡铅电镀槽长/产速 T=6/10.85==0.553分
锡铅理论膜厚==20.28CT 150==20.28×C×0.553 C==13.38ASD(电流密度)
锡铅电镀总面积==锡铅电镀槽长/端子间距×单支锡铅电镀
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