Q21J需电镀零件预留电镀余量一般规定.docx
- 文档编号:28070910
- 上传时间:2023-07-08
- 格式:DOCX
- 页数:19
- 大小:22.50KB
Q21J需电镀零件预留电镀余量一般规定.docx
《Q21J需电镀零件预留电镀余量一般规定.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《Q21J需电镀零件预留电镀余量一般规定.docx(19页珍藏版)》请在冰豆网上搜索。
Q21J需电镀零件预留电镀余量一般规定
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第1页第版
1范围
本标准规定了我公司需电镀零件除螺纹外的预留电镀余量的一般要求,作为零件工艺编制、零件生产制造、零件镀前检验验收的标准。
本标准适用于我公司所有电镀零件,包括铝及铝合金零件、铜及铜合金零件、锌合金零件、钢铁基体零件、复合材料零件等。
(如有特殊情况,在机加工艺规程或相关技术文件中注明)。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本规范的引用而成为本规范的条款,凡是注日期的引用文件,其随后的所有修改单(不包括勘误的内容)或修订版不适用于本规范,然而鼓励根据本规范达成协议的各方研究是否可以使用这些文件的最新版本。
凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本规范。
GJB/Z594A金属镀覆层和化学覆层选择原则与厚度系列
3预留余量原则
3.1一般原则:
一般情况下,需表面处理零件加工时各尺寸预留余量=2×镀层厚度中限。
例:
图纸规定零件表面处理Ap·Ni20,表示化学镀镍20~30μm,则预留余量为2×25μm=0.05mm。
3.2公差圆整原则:
考虑到量具制作及尺寸测量的便利性,按照四舍五入的原则预留实际余量。
除特殊要求外,公差精度一般控制到0.01mm。
但是如果图纸尺寸精度等级为0.001mm,则不对其镀层余量进行圆整。
例:
钢基零件表面处理为Ep·Cu5Ni5b,表示含义为需电镀铜5~8μm,电镀亮镍5-8μm,则镀层厚度中限以13μm计算,预留镀层余量为2×13μm=26μm,一般情况下,按照四舍五入的原则,实际余量按照30μm即0.03mm预留。
编制审核标检
校队审定批准
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第2页第版
3.3公差压缩原则(对于图纸标注公差△>0.06的尺寸有效)
对于镀层厚度为8~30μm的零件,孔、槽尺寸的下限按预留原则所得余量上浮0.05mm,孔、槽尺寸的上限上浮0.025mm;轴、键尺寸的上限按照预留余量原则所得余量下浮0.05mm,轴、键尺寸的下限下浮0.025mm。
例:
铝基零件,表面处理为Ap·Ni20或Ap·Ni8,某孔图纸尺寸Φ,则机加时按照Φ控制;某键宽图纸尺寸,则机加时按照控制。
3.4不留余量原则
下列情况可不留余量:
3.4.1实际镀层厚度低于8μm的壳体零件尺寸;
3.4.2公差大于0.05mm的插针、插孔及前、内、后套等接触类铝基尺寸。
3.5预留余量优先原则
零件生产时,一般按照3.3→3.2→3.1→3.4的顺序考虑加工尺寸的电镀余量。
4.预留余量及检验控制方法
4.1电连接器壳体类零件
根据公司实际情况,综合考虑生产管理、工艺协调、量具使用等因素,对采用Ep·Zn8、Ep·Ni8、Ap·Ni8、Ap·Ni10、Ep·Cu8·Ap·Ni8(铁基零件)、SB·Ap·Ni10·Ep·Ni1b、Ap·Ni20、Ap·Ni8·Ep·Cd12c2D(OL)、
Ap·Ni10·Ep·CrBK、Et·A(S)·C1(BK)后喷漆等镀锌、镀镍、化学镀镍、镀镉、镀黑铬、硫酸阳极化后喷漆等的表面处理方式的电连接器壳体零件。
预留余量一般按照:
图纸标注公差△>0.06mm的尺寸,预留预留按照3.2条和3.3条执行。
图纸标注公差0.03mm<△≤0.06mm的尺寸
镀层厚度8~30μm时,孔、槽尺寸公差按预留余量原则所得余量平均上移;轴、键尺寸公差按预留余量原则所得余量平均下移。
例:
铝基体零件,表面处理为SB·Ap·Ni10·Ep·Ni1b,某孔图纸尺寸Φ,则机加时按照Φ控制;铝基体零件,表面处理为Ap·Ni20,某键宽图纸尺寸为,则机加时按照控制。
对于卡钉孔尺寸,JY系列及JY599系列铝基体机加时按照Φ控制,其余型产品铝基体壳体卡钉孔按照Φ控制。
超出以上规定的表面处理方式的预留余量原则按照第三章规定执行。
光连接器壳体零件
4.2.1铜基体壳体零件镀层厚度低于8μm的表面处理方式不留镀层余量。
例:
对表面处理为Ep·Ni5、Ep·Ni3b或Ap·Ni3的铜基零件不留镀层余量。
4.2.2超出4.2.1条规定的表面处理方式的预留余量原则按照第三章规定执行。
4.3铜基插针,插孔类零件
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第3页第版
镀银、镀锡零件
前套、内套零件机加时前套、内套类零件配合孔尺寸上浮0.01mm,内套类零件外
圆直径、凸台直径尺寸下调0.01mm。
其他零件机加时插针针头以及尺寸公差≤0.05mm的尺寸均预留0.015mm电镀
余
量。
即孔、槽类尺寸上浮0.015mm,轴、键类尺寸下调0.015mm;插针、后套强装台处尺寸下调0.01mm;后套类零件配合孔尺寸上浮0.015mm;针套类零件插针端下调0.015mm,配合孔上浮0.015mm;插针、后套、针套之外的其他零件的公差≤0.05mm的尺寸均预留0.015mm电镀余量,其余尺寸不预留电镀余量。
示例见图6.
4.3.2镀金零件
机加时,镀金零件直接按图纸尺寸进行加工。
导销、导套、镶件等类零件
导销、导套、镶件等类零件尺寸公差≤0.05mm的尺寸预留电镀余量见表1。
导销、导套、镶件等类零件尺寸公差>0.05mm的尺寸,镀层厚度为1~5μm
时,
不留电镀余量;镀层厚度>5μm时,孔、槽尺寸的下限按预留余量原则所得余量上浮0.03mm,孔、槽尺寸的上限上浮0.01mm;轴、键尺寸的上限按预留余量原则所得余量下浮0.03mm,轴、键尺寸下限下浮0.01mm。
例:
钢基导套,表面处理为Ep·Cu5Ni5b,图纸标注某孔尺寸Φ,则机加时按照Φ控制;某键宽图纸尺寸,则机加时按照控制。
表1导销、导套、镶件类零件尺寸公差≤0.05mm的尺寸预留电镀余量
基体种类镀层厚度(μm)
1~55~88~1216~24
铜合金基体轴不留余量不留余量/
孔不留余量不留余量/
碳钢基体轴下浮0.01下浮0.01下浮0.02下浮0.035
孔上浮0.01上浮0.01下浮0.02下浮0.035
不锈钢基体不留余量
注1):
铜合金导销、导套、镶件类零件实际镀层厚度按照附录A.2.3执行。
4.5玻璃封接产品零件
4.5.14J29壳体和碳钢壳体
4J29壳体和碳钢壳体的镀前螺纹尺寸按照Q/21EJ145《需涂镀保护层螺纹涂镀前后控制规定》执行;封接部位尺寸不留电镀余量;其他尺寸中若公差<0.10mm,则孔槽尺寸上浮0.02mm,轴键尺寸下浮0.02mm;若公差≥0.10mm,则按照图纸尺寸进行加工。
不锈钢壳体和钛合金壳体
封接后表面处理为ECP或CHP的不锈钢壳体以及表面处理为喷砂的钛合金壳体直接按
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第4页第版
照图纸尺寸进行加工。
封接后表面处理为电镀的不锈钢壳体按照4.5.1预留电镀余量。
4.5.3插针
插针针头尺寸控制:
镀前尺寸按照Φ加工,镀后尺寸按照图纸要求:
Φ。
4.5.4其它零件
对于复合封接结构(基壳体——玻璃饼——管式零件——玻璃饼或玻璃管——插针的结构)的封接产品,加工时管式零件外圆尺寸一般按照Φ控制,管式零件内孔尺寸一般按照Φ控制(封接部位不留余量)
同轴产品零件预留余量方法
4.6.1中心接触件
铜基零件:
按照4.3.1条2以及4.3.2执行(包括QBe2铍青铜零件);
4J29基体类零件:
参照4.5条插针针头尺寸预留余量。
4.6.2外壳体类接触件
非气密封产品壳体按照4.1执行;气密封壳体按照4.5执行。
4.7复合材料壳体预留余量方法
参照4.1条执行。
定位弹簧零件
定位弹簧轴向尺寸控制规定
根据试验结果,定位弹簧轴向尺寸在热处理时效后收缩0.005~0.015mm,表面处理酸洗钝化后亦有一定缩短,因此对定位弹簧轴向尺寸规定如下:
下料时,铍青铜带断面应平齐、光滑,不能有须毛刺影响尺寸测量;
图纸规定定位弹簧轴向尺寸在下料成型时按照,控制;
四车间热表面处理后定位弹簧轴向尺寸符合。
5.零件检验控制方法
镀前检验
需留余量镀前尺寸检验控制按照3、4章规定执行。
镀后检验
对零件镀后检验控制按照图纸执行。
对于尺寸公差大于0.03mm的金属壳体零件以及公差大于0.05mm的其他金属零件,因为镀前镀层厚度范围的原因,允许镀后超差±0.01mm。
以前生产产品控制方法
鉴于我公司产品种类复杂,很多产品已经长期生产,为了不至于影响生产,对已生产的具体产品零件的镀层余量预留原则作如下规定:
1)XC及其派生系列零件预留尺寸为五键槽高度和宽度、卡钉孔、卡簧和槽间距、花
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第5页第版
键圆盘的尺寸,示例如图1.
2)JY598系列产品零件预留尺寸为壳体径向尺寸、五键及五键槽高度和宽度、卡钉孔、卡簧槽和槽间距的尺寸,其中卡钉孔、卡簧槽和槽间距尺寸示例见图2。
3)JY599系列产品零件预留尺寸为壳体径向尺寸、五键及五键槽高度和宽度、卡钉孔的尺寸,示例见图3.
4)JY599Ⅲ-25(拉火绳)产品零件预留尺寸为壳体径向尺寸、五键及五键槽高度和宽度、卡簧槽和槽间距的尺寸,其余卡簧槽和槽间距尺寸示例见图4,另外21E8.164.585套筒的尺寸全部预留电镀余量。
5)XC及其派生系列附件FJJP、FJJPG、FJGP、FJGWP的套筒和中间螺帽的预留尺寸示例见图5.
对于新开发的产品以及异型壳体类零件,应对其径向尺寸、孔类及槽类尺寸按以上原则预留电镀余量。
镀层标识及镀层厚度说明见附录A.
零件图号后缀汇总见附录B.
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第6页第版
附录A
(规范性附录)
镀层标识及镀层厚度说明
A.1镀层标注符号的识别
按照GJB594A《金属镀覆层和化学覆盖层选择原则与厚度系列》的规定,镀层厚度范围系列一般为:
1~3μm(中限2μm),3~5μm(中限4μm),5~8μm(中限6.5μm),8~12μm(中限10μm),10~17μm(中限13.5μm),12~
18μm(中限15μm),18~24μm(中限21μm)等,且标注镀层厚度时一般写镀层厚度的下限。
A.2不同基体零件镀镍层(电镀亮镍、电镀暗镍)厚度规定
为了统一以前设计产品图纸中不同零件镀镍层厚度差异大的问题,规范零件生产、保证镀镍层质量,特作如下规定。
A.2.1钢基体零件镀镍层厚度规定
a.图纸标注为Ep·Cu8Ni5b、DCu5/L2Ni5、DCu/L2Ni5、DL2Ni8、Ep·Cu3Ni5b、Ep·Cu5Ni5b等铁基体镀亮镍零件,生产时均按Ep·Cu5Ni5b进行机加(预留电镀余量)、电镀和检验控制。
b.对于镀镍后必须进行后续加工变形的零件,按照Ep·Cu5Ni3Ni1b进行机加(预留电镀余量)、电镀和检验控制(具体按图纸要求)。
A.2.2光纤产品铜基体零件镀镍层厚度规定
a.图纸标注为Ep·Ni3b、Ep·Ni5b、Ep·Ni8的铜基体镀镍光纤零件,生产时均按Ep·Ni3b机加(不留电镀余量)、电镀和检验控制;
b.图纸标注Ep·Cu1Ni5Ni3b(基体为HPb59-1),Ep·Ni5Ni3b(基体为H62)的铜基体镀镍光纤零件,生产时均按照图纸标注进行机加、电镀和检验控制;
c.今后新出图光纤铜基体镀镍零件,一般按照Ep·Ni3b径向标注;耐盐雾试验要求200h的零件,按照Ep·Cu1Ni5Ni3b(对HPb59-1基材)或Ep·Ni5Ni3b(对H62基材)进行标注。
A.2.3适合滚镀的电连接器铜基体零件镀镍层厚度规定
对于图纸标注为D·L2Ni5、D·L2Ni8、D·L1Ni5、D·L3Ni8、Ep·Ni5b、Ep·Ni8b等表面处理要求,直径不大于10mm,或外形尺寸10×10mm以内、长度不大于40mm的铜基体镀亮镍零件,机加(不留电镀余量)、电镀、检验时均按Ep·Ni3b控制;如果为镀暗镍零件,则均按Ep·Ni3控制。
A.2.4铜基接地簧、卡簧、挡圈类零件镀镍厚度按照3~5μm进行控制。
A.3今后在更改目前已晒兰下发的图纸时,设计员应将上述几类零件表面处理栏按本规定要求进行更改。
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第7页第版
附录B
(资料性附录)
公司产品零件图号后缀汇总
本附录汇总了Q/21EJ123、126、144、224、442、470中有关零件图号后缀。
零件图号后缀代表电镀层厚度含义见表B.1.
表B.1零件图号后汇总
序号零件图号镀层符号表示镀层厚度范围备注
121E8.XXX.XXXDEp.Zn.c2C8-12μm铝基体
221E8.XXX.XXXD1Ap.Ni1010-17μm(一般产品)铝基体
Ap.Ni2020-30μm(JY、J599系列产品)
321E8.XXX.XXXD10Ap.Ni2020-30μm合成材料基体
421E8.XXX.XXXD11Ep.Ni1.Ap.Ni89-14μm黄铜基体
521E8.XXX.XXXD12SB.Ap.Ni10.Ep.Ni1b11-19μm黄铜基体
621E8.XXX.XXXD13SB.Ap.Ni10.Ep.Ni1b11-19μm(XC及其派生系列产品)铝基体
SB.Ap.Ni20.Ep.Ni1b21-32μm(JY系列产品)
721E8.XXX.XXXD14SB.Ap.Ni1010-17μm(XC及其派生系列产品)铝基体
Ep.Ni5.Sn813-20μm(JY系列产品)不锈钢基体
821E8.XXX.XXXD15Ep.Ni3Cr.BK3-5μm黄铜基体
921E8.XXX.XXXD16Ap.Ni820-30μm铝基体
1021E8.XXX.XXXD17Ep.Cu1.Ni5Ni3b8-12μm黄铜基体
1121E8.XXX.XXXD2Ap.Ni3.Ep.Cd8.c2D(GR)11-17μm铝基体
1221E8.XXX.XXXD2aAp.Ni3.Ep.Cd8.c2D(OL)11-17μm铝基体
1321E8.XXX.XXXD3Ep.Zn8.c2D(GR)8-12μm铝基体
1421E8.XXX.XXXD4Ct.P或ECP无镀层不锈钢基体
1521E8.XXX.XXXD40Ct.P无镀层不锈钢基体
1621E8.XXX.XXXD41Ep.Ni1.Ap.Ni34-7μm不锈钢基体
1721E8.XXX.XXXD5Ep.Ni8.Ap.Ni1b9-14μm铝基体
1821E8.XXX.XXXD5aEp.Ni33-5μm不锈钢基体
1921E8.XXX.XXXD5bEp.Ni33-5μm烧结不锈钢基体
2021E8.XXX.XXXD6Ep.Ni8b9-14μm铝基体
2121E8.XXX.XXXD7Ep.Zn8.c1B8-12μm铝基体
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第8页第版
表B.1(续)
序号零件图号镀层符号表示镀层厚度范围备注
2221E8.XXX.XXXD8Ap.Ni8.Ep.Cd12.c2D(GR)20-30μm铝基体
2321E8.XXX.XXXD8aAp.Ni8.Ep.Cd12.c2D(OL)20-30μm铝基体
2421E8.XXX.XXXD8bAp.Ni8.Ep.Cd12.c2D(GR)20-30μm铝基体,颜色按D80控制
2521E8.XXX.XXXD8cAp.Ni8.Ep.Cd12.c2C(CR)20-30μm铝基体
2621E8.XXX.XXXD80Ap.Ni8.Ep.Cd12.c2D(GR)20-30μm合成材料基体
2721E8.XXX.XXXD81Ep.Ni1Ni5bCd12.c2D(GR)18-28μm烧结不锈钢基体
2821E8.XXX.XXXD9Ep.Cu8.Sn513-20μm铜基体
29
21E8.XXX.XXXFEt.A(s).C1(BK)喷黑漆8-12μm(XC及其派生系列产品)2A12、6061等
Et.A(s)40hd20-30μm(JY599系列产品)LC4、LC9等
3021E8.XXX.XXXF1Et.A(s).C1(GR)喷军绿色漆8-12μm铝基体
3121E8.XXX.XXXF2Et.A(s).Cs浸C30-11绝缘清漆不留余量6061铝
3221E8.XXX.XXXF3Et.A(s).C1(OL)着橄榄绿色漆不留余量6061铝
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第9页第版
需电镀零件预留电镀余量一般规定编号
共10页第10页第版
金属电镀和喷涂表示方法
(摘录标准:
SJ20818-2002电子设备的金属镀覆与化学处理)
A1.1金属镀覆表示方法:
基体材料/镀覆方法.镀覆层名称镀覆层厚度镀覆层特征.后处理
镀覆层特征、镀覆层厚度或后处理无具体要求时,允许省略。
例1:
Fe/Ep.Zn7.c2C
(钢材,电镀锌7μm以上,彩虹铬酸盐处理2级C型。
)
例2:
Fe/Ep.Ni25dCr0.3mp
(钢材,电镀双层镍25μm以上,微孔铬0.3μm以上。
)
例3:
Cu/Ep.Ni5bCr0.3r
(铜材,电镀光亮镍5μm以上,普通装饰铬0.3μm以上。
)
例4:
Al/Ap.Ni-P13.Ep.Ag10b/At.DJB-823
(铝材,化学镀镍磷合金13μm以上,电镀光亮银10μm以上,涂DJB-823防变色处理。
)
A1.2化学处理和电化学处理的表示方法:
基体材料/处理方法.处理名称覆盖层厚度处理特征.后处理(颜色)若对化学处理或电化学处理的处理特征,镀覆层厚度,后处理或颜色无具体要求时,允许省略。
例5:
Al/Et.A.Cl(BK)
(铝材,电化学处理,阳极氧化,着黑色,对阳极氧化方法,氧化膜厚度无特定要求)
例6:
Al/Ct.Ocd
(铝材,化学氧化处理,生成可导电的铬酸盐转化膜)
例7:
Cu/Ct.P
(铜材,化学处理,钝化。
)
例8:
Fe/Ct.ZnPh
(钢材,化学处理,磷酸锌盐处理。
)
A2.1基体材料表示符号,见表1:
表1基体材料表示符号
材料名称符号
铁、钢、铟瓦钢Fe
铜及铜合金Cu
铝及铝合金Al
锌及锌合金Zn
镁及镁合金Mg
钛及钛合金Ti
塑料PL
硅酸盐材料(陶瓷玻璃等)CE
其他非金属材料NM
A2.2镀覆方法、处理方法表示符号,见表2:
表2镀覆方法和处理方法表示符号
方法名称符号英文
电镀EpElectroplating
化学镀ApAutocatalyticPlating
热浸镀HdHotDipping
热喷镀TSThermalSpraying
电化学处理EtElectrochemicalTreatment
化学处理CtChemicalTreatment
A2.3镀覆层表示符号:
合金镀覆层,合金含量为质量百分数的上限值:
合金元素之间用“-”连接;合金成分无需表示或不变表示时,允许不标注。
例9:
Al/Ap.Ni(65)-Cu(27)-P15
(铝材,化学镀含镍65%,铜27%,磷8%的镍铜磷合金15μm以上.)
多层镀覆时,按镀覆先后,自左至右标出每层的名称、厚度和特征;也可只标出最后镀覆层的名称和总厚度,并在镀覆层名称外加圆括号,但必须在有关技术文件中加以规定或说明。
例10:
Al/Ep.Cu10.Ap.Ni20.Ep.Au2.5.P
(铝材,电镀铜10μm以上,化学镀镍20μm以上,电镀金2.5μm以上,钝化处理。
)
例11:
Fe/Ep.(Cr)25b
(钢材,表面电镀铬,组合镀覆层特征为光亮,总厚度为25μm以上,中间镀覆层按有关规定执行。
)
A2.4镀覆层厚度表示符号:
厚度数字标在镀覆层名称之后,单位为μm,该数值为镀覆层厚度范围的下限,必要时可以标注镀层厚度范围。
例12:
Al/Ap.Ni13.Ep.Ag15~18b
(铝材,化学镀镍μm以上,电镀光亮银15~18μm。
)
A2.5化学处理和电化学处理名称的表示符号,见表3:
对磷化及阳极氧化无特定要求时,允许只标注Ph(磷酸盐处理符号)或A(阳极氧化符号)。
表3化学处理和电化学处理名称的表示符号
处理名称符号英文
钝化PPassivating
氧化OOxidation
电解着色EcElectrolyticColouring
磷化处理磷酸锰盐处理MnphManganesePhosphateTreatment
磷酸锌盐处理ZnphZincPhosphateTreatment
磷酸锰锌盐处理MnznphManganeseZincPhosphateTreatment
磷酸锌钙盐处理ZncaphZincCalciumPhosphateTreatment
阳极氧化硫酸阳极氧化A(S)SulphuricAcidAnodizing
铬酸阳极氧化A(Cr)ChromicAcidAnodizing
磷酸阳极氧化A(P)PhosphoricAcidAnodizing
草酸阳极氧化A(O)OxalicAcidAnodizing
A2.6镀覆层特征、处理特征表示符号,见表4:
表4镀覆层特征、处理特征表示符号
特征名称符号英文
光亮bBright
半亮sSemi-Bright
暗mMatte
缎面stSatin
双层dDoubleLayer
三层d-
普通*rRegular
微孔mpMicro-Porous
微裂纹mcMicro-Crack
无裂纹cfCrack-Free
松孔(多孔)pPorous
花纹ptPatterns
黑色bkBlackening
乳色oOpalescence
密封seSealing
复合cpComposition
硬质hdHardness
瓷质pcPorcelain
导电cdConduction
绝缘iInsulation
无定形(非晶态)aAmorphous
低应力lsLow-Stress
*注:
无特别指定的要求,可省略不标注,如常规镀铬。
例13:
Cu/Ep.Ni5lsAu1~2hd
(铜材,电镀低应力镍5μm以上,电镀硬金1~2μm。
)
A2.7后处理名称表示符号,见表5:
表5后处理名称表示符号
后处理名称符号英文
钝化PPassivation
电解钝化PiElectrolyticPassi
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- Q21J 电镀 零件 预留 余量 一般 规定