常用催化剂表征方法及缩写.docx
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常用催化剂表征方法及缩写
DTA
差热分析(DifferentialThermalAnalysis,DTA)
差热分析法是以某种在一定实验温度下不发生任何化学反应和物理变化的稳定物质(参
比物)与等量的未知物在相同环境中等速变温的情况下相比较,未知物的任何化学和物
理上的变化,与和它处于同一环境中的标准物的温度相比较,都要出现暂时的增高或降
低。
降低表现为吸热反应,增高表现为放热反应。
当给予被测物和参比物同等热量时,因二者对热的性质不同,其升温情况必然不同,通过测定二者的温度差达到分析目的。
以参比物与样品间温度差为纵坐标,以温度为横座标所得的曲线,称为DTA曲线。
在差热分析中,为反映这种微小的温差变化,用的是温差热电偶。
它是由两种不同的金属丝制成。
通常用镍铬合金或铂铑合金的适当一段,其两端各自与等粗的两段铂丝用电弧分别焊上,即成为温差热电偶。
在作差热鉴定时,是将与参比物等量、等粒级的粉末状样品,分放在两个坩埚内,坩埚的底部各与温差热电偶的两个焊接点接触,与两坩埚的等距离等高处,装有测量加热炉温度的测温热电偶,它们的各自两端都分别接人记录仪的回路中在等速升温过程中,温度和时间是线性关系,即升温的速度变化比较稳定,便于准确地确定样品反应变化时的温度。
样品在某一升温区没有任何变化,即也不吸热、也不放热,在温差热电偶的两个焊接点上不产生温差,在差热记录图谱上是一条直线,已叫基线。
如果在某一温度区间样品产生热效应,在温差热电偶的两个焊接点上就产生了温差,从而在温差热电偶两端就产生热电势差,经过信号放大进入记录仪中推动记录装置偏离基线而移动,反应完了又回到基线。
吸热和放热效应所产生的热电势的方向是相反的,所以反映在差热曲线图谱上分别在基线的两侧,这个热电势的大小,除了正比于样品的数量外,还与物质本身的性质有关。
许多物质在加热或冷却过程中会发生熔化、凝固、晶型转变、分解、化合、吸附、脱附等物理化学变化。
这些变化必将伴随体系焓的改变,因而产生热效应。
其表现为该物质与外界环境之间有温度差。
选择一种对热稳定的物质作为参比物,将其与样品一起置于可按设定速率升温的电炉中。
分别记录参比物的温度以及样品与参比物间的温度差。
以温差对温度作图就可以得到一条差热分析曲线,或称差热谱图。
如果参比物和被测物质的热容大致相同,而被测物质又无热效应,两者的温度基本相同,此时测到的是一条平滑的直线,该直线称为基线。
一旦被测物质发生变化,因而产生了热效应,在差热分析曲线上就会有峰出现。
热效应越大,峰的面积也就越大。
在差热分析中通常还规定,峰顶向上的峰为放热峰,它表示被测物质的焓变小于零,其温度将高于参比物。
相反,峰顶向下的峰为吸收峰,则表示试样的温度低于参比物。
一般来说,物质的脱水、脱气、蒸发、升华、分解、还原、相的转变等等表现为吸热,而物质的氧化、聚合、结晶、和化学吸附等表现为放热。
差热曲线的峰形、出峰位置、峰面积等受被测物质的质量、热传导率、比热、粒度、填充的程度、周围气氛和升温速度等因素的影响。
因此,要获得良好的再现性结果,对上述各点必须十分注意。
一般而言,升温速度增大,达到峰值的温度向高温方向偏移;峰形变锐,但峰的分辨率降低,两个相邻的峰,其中一个将会把另一个遮盖起来。
二、红外线IrDA
红外线IrDA,简称IR,是一种无线通讯方式,可以进行无线数据的传输。
自1974年发明以来,得到很普遍的应用,如红外线鼠标,红外线打印机,红外线键盘等等。
红外线的特征:
红外传输是一种点对点的传输方式,无线,不能离的太远,要对准方向,且中间不能有障碍物也就是不能穿墙而过,几乎无法控制信息传输的进度;IrDA已经是一套标准,IR收/发的组件也是标准化产品。
红外与蓝牙的差别
1.距离
红外:
对准、直接、1—2米,单对单
蓝牙:
10米左右,可加强信号,可以绕弯,可以不对准,可以不在同一间房间,链接最大数目可达7个,同时区分硬件。
2.产业
红外:
很普及
蓝牙:
初步应用
3.速度
红外:
快
蓝牙:
慢
4.安全
红外:
无区别
蓝牙:
加密
5.成本
红外:
几元---几十元
蓝牙:
400—800元
扫描电子显微镜(SEM)
(SEM)扫描电子显微镜的设计思想和工作原理,早在1935年便已被提出来了。
1942年,英国首先制成一台实验室用的扫描电镜,但由于成像的分辨率很差,照相时间太长,所以实用价值不大。
经过各国科学工作者的努力,尤其是随着电子工业技术水平的不断发展,到
1956年开始生产商品扫描电镜。
近数十年来,扫描电镜已广泛地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中,促进了各有关学科的发展。
一.扫描电镜的特点
和光学显微镜及透射电镜相比,扫描电镜具有以下特点:
(一)能够直接观察样品表面的结构,样品的尺寸可大至120mm×80mm×50mm。
(二)样品制备过程简单,不用切成薄片。
(三)样品可以在样品室中作三度空间的平移和旋转,因此,可以从各种角度对样品进行观察。
(四)景深大,图象富有立体感。
扫描电镜的景深较光学显微镜大几百倍,比透射电镜大几十倍。
(五)图象的放大范围广,分辨率也比较高。
可放大十几倍到几十万倍,它基本上包括了从放大镜、光学显微镜直到透射电镜的放大范围。
分辨率介于光学显微镜与透射电镜之间,可达3nm。
(六)电子束对样品的损伤与污染程度较小。
(七)在观察形貌的同时,还可利用从样品发出的其他信号作微区成分分析。
二.扫描电镜的结构和工作原理
(一)结构
1.镜筒
镜筒包括电子枪、聚光镜、物镜及扫描系统。
其作用是产生很细的电子束(直径约几个nm),并且使该电子束在样品表面扫描,同时激发出各种信号。
2.电子信号的收集与处理系统
在样品室中,扫描电子束与样品发生相互作用后产生多种信号,其中包括二次电子、背散射电子、X射线、吸收电子、俄歇(Auger)电子等。
在上述信号中,最主要的是二次电子,它是被入射电子所激发出来的样品原子中的外层电子,产生于样品表面以下几nm至
几十nm的区域,其产生率主要取决于样品的形貌和成分。
通常所说的扫描电镜像指的就是二次电子像,它是研究样品表面形貌的最有用的电子信号。
检测二次电子的检测器(图15
(2)的探头是一个闪烁体,当电子打到闪烁体上时,1就在其中产生光,这种光被光导管传送到光电倍增管,光信号即被转变成电流信号,再经前置放大及视频放大,电流信号转变成电压信号,最后被送到显像管的栅极。
3.电子信号的显示与记录系统
扫描电镜的图象显示在阴极射线管(显像管)上,并由照相机拍照记录。
显像管有两个,一个用来观察,分辨率较低,是长余辉的管子;另一个用来照相记录,分辨率较高,是短余辉的管子。
4.真空系统及电源系统
扫描电镜的真空系统由机械泵与油扩散泵组成,其作用是使镜筒内达到10(4~10(5托的真空度。
电源系统供给各部件所需的特定的电源。
(二)工作原理
从电子枪阴极发出的直径20(m~30(m的电子束,受到阴阳极之间加速电压的作用,射向镜筒,经过聚光镜及物镜的会聚作用,缩小成直径约几毫微米的电子探针。
在物镜上部的扫描线圈的作用下,电子探针在样品表面作光栅状扫描并且激发出多种电子信号。
这些电子信号被相应的检测器检测,经过放大、转换,变成电压信号,最后被送到显像管的栅极上并且调制显像管的亮度。
显像管中的电子束在荧光屏上也作光栅状扫描,并且这种扫描运动与样品表面的电子束的扫描运动严格同步,这样即获得衬度与所接收信号强度相对应的扫描电子像,这种图象反映了样品表面的形貌特征。
第二节扫描电镜生物样品制备技术大多数生物样品都含有水分,而且比较柔软,因此,在进行扫描电镜观察前,要对样品作相应的处理。
扫描电镜样品制备的主要要求是:
尽可能使样品的表面结构保存好,没有变形和污染,样品干燥并且有良好导电性能。
TEM
百科名片
透射电子显微镜(英语:
Transmissionelectronmicroscopy,缩写TEM),简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。
散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像。
通常,透射电子显微镜的分辨率为0.1~0.2nm,放大倍数为几万~百万倍,用于观察超微结构,即小于0.2µm、光学显微镜下无法看清的结构,又称“亚显微结构”。
目录[隐藏]
成像原理
组件
应用
特点
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横向电磁场
瞬变电磁法
全面道德伦理管理
成像原理
透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况:
吸收像:
当电子射到质量、密度大的样品时,主要的成相作用是散射作用。
样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大,通过的电子较少,像的亮度较暗。
早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。
衍射像:
电子束被样品衍射后,样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力,当出现晶体缺陷时,缺陷部分的衍射能力与完整区域不同,从而使衍射钵的振幅分布不均匀,反映出晶体缺陷的分布。
相位像:
当样品薄至100Å以下时,电子可以传过样品,波的振幅变化可以忽略,成像来自于相位的变化。
组件
电子枪:
发射电子,由阴极、栅极、阳极组成。
阴极管发射的电子通过栅极上的小孔形成射线束,经阳极电压加速后射向聚光镜,起到对电子束加速、加压的作用。
聚光镜:
将电子束聚集,可用已控制照明强度和孔径角。
样品室:
放置待观察的样品,并装有倾转台,用以改变试样的角度,还有装配加热、冷却等设备。
物镜:
为放大率很高的短距透镜,作用是放大电子像。
物镜是决定透射电子显微镜分辨能力和成像质量的关键。
中间镜:
为可变倍的弱透镜,作用是对电子像进行二次放大。
通过调节中间镜的电流,可选择物体的像或电子衍射图来进行放大。
透射镜:
为高倍的强透镜,用来放大中间像后在荧光屏上成像。
此外还有二级真空泵来对样品室抽真空、照相装置用以记录影像。
应用
透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。
由于电子易散射或被物体吸收,故穿透力低,样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量,必须制备更薄的超薄切片,通常为50~100nm。
所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。
常用的方法有:
超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。
对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。
特点
TEM常用于研究纳米材料的结晶情况,观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳米粒子的粒径。
是常用的纳米复合材料微观结构的表征技术之一。
以电子束作光源,电磁场作透镜。
电子束波长与加速电压(通常50~120KV)的平方根成反比。
由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成。
分辨力0.2nm,放大倍数可达百万倍。
TEM分析技术是以波长极短的电子束作照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率(1nm)、高放大倍数的电子光学分析技术;
用电镜(包括TEM)进行样品分析时,通常有两个目的:
一个是获得高倍放大倍数的电子图像,另一个是得到电子衍射花样;
TEM常用于研究纳米材料的结晶情况,观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳米粒子的粒径。
是常用的纳米复合材料微观结构的表征技术之一。
TG
热重
热重分析中的待测物质重量值,相应的有TGA,DTG。
TGA为热失重分析,即在温度不断变化的情况下通过仪器测定其重量的变化。
DTG表示热重的微分。
可以用来分析物质在温度不断变化的情况下重量的变化情况。
DTG曲线向下为失重峰——这最为常见,向上为增重峰。
XRF
目录[隐藏]
1.什么是XRF?
2.X射线荧光的物理原理:
1.X射线的波长
2.X射线的能量
3.X射线荧光应用及分析
4.X荧光与其它方法比较
5.X荧光分析仪的分类
1.什么是XRF?
2.X射线荧光的物理原理:
1.X射线的波长
2.X射线的能量
3.X射线荧光应用及分析
4.X荧光与其它方法比较
5.X荧光分析仪的分类
XRF:
X射线荧光光谱分析(XRayFluorescence)
[编辑本段]
1.什么是XRF?
人们通常把X射线照射在物质上而产生的次级X射线叫X射线荧光(X—RayFluorescence),而把用来照射的X射线叫原级X射线。
所以X射线荧光仍是X射线。
一台典型的X射线荧光(XRF)仪器由激发源(X射线管)和探测系统构成。
X射线管产生入射X射线(一次X射线),激发被测样品。
受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线,并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。
探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量。
然后,仪器软件将探测系统所收集到的信息转换成样品中各种元素的种类及含量。
利用X射线荧光原理,理论上可以测量元素周期表中的每一种元素。
在实际应用中,有效的元素测量范围为11号元素(Na)到92号元素(U)。
2.X射线荧光的物理原理:
X射线是电磁波谱中的某特定波长范围内的电磁波,其特性通常用能量(单位:
千电子伏特,keV)和波长(单位:
nm)描述。
X射线荧光是原子内产生变化所致的现象。
一个稳定的原子结构由原子核及核外电子组成。
其核外电子都以各自特有的能量在各自的固定轨道上运行,内层电子(如K层)在足够能量的X射线照射下脱离原子的束缚,释放出来,电子的逐放会导致该电子壳层出现相应当电子空位。
这时处于高能量电子壳层的电子(如:
L层)会跃迁到该低能量电子壳层来填补相应当电子空位。
由于不同电子壳层之间存在着能量差距,这些能量上的差以二次X射线的形式释放出来,不同的元素所释放出来的二次X射线具有特定的能量特性。
这一个过程就是我们所说的X射线荧光(XRF)。
X射线的波长
元素的原子受到高能辐射激发而引起内层电子的跃迁,同时发射出具有一定特殊性波长的X射线,根据莫斯莱定律,荧光X射线的波长λ与元素的原子序数Z有关,其数学关系如下:
λ=K(Z−s)−2
式中K和S是常数。
X射线的能量
而根据量子理论,X射线可以看成由一种量子或光子组成的粒子流,每个光具有的能量为:
E=hν=hC/λ
式中,E为X射线光子的能量,单位为keV;h为普朗克常数;ν为光波的频率;C为光速。
因此,只要测出荧光X射线的波长或者能量,就可以知道元素的种类,这就是荧光X射线定性分析的基础。
此外,荧光X射线的强度与相应元素的含量有一定的关系,据此,可以进行元素定量分析。
3.X射线荧光应用及分析
a)X射线用于元素分析,是一种新的分析技术,但在经过二十多年的探索以后,现在已完全成熟,已成为一种广泛应用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域。
b)每个元素的特征X射线的强度除与激发源的能量和强度有关外,还与这种元素在样品中的含量。
c)根据各元素的特征X射线的强度,也可以获得各元素的含量信息。
这就是X射线荧光分析的基本原理。
4.X荧光与其它方法比较
优点:
a)分析速度高。
测定用时与测定精密度有关,但一般都很短,2~5分钟就可以测完样品中的全部待测元素。
b)X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态无关,而且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质等物质的状态也基本上没有关系。
(气体密封在容器内也可分析)但是在高分辨率的精密测定中却可看到有波长变化等现象。
特别是在超软X射线范围内,这种效应更为显著。
波长变化用于化学位的测定。
c)非破坏分析。
在测定中不会引起化学状态的改变,也不会出现试样飞散现象。
同一试样可反复多次测量,结果重现性好。
d)X射线荧光分析是一种物理分析方法,所以对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析。
e)分析精密度高。
f)制样简单,固体、粉末、液体样品等都可以进行分析。
缺点:
a)难于作绝对分析,故定量分析需要标样。
b)对轻元素的灵敏度要低一些。
c)容易受相互元素干扰和叠加峰影响。
5.X荧光分析仪的分类
不同元素发出的特征X射线能量和波长各不相同,因此通过对X射线的能量或者波长的测量即可知道它是何种元素发出的,进行元素的定性分析。
同时样品受激发后发射某一元素的特征X射
线强度跟这元素在样品中的含量有关,因此测出它的强度就能进行元素的定量分析。
因此,X射线荧光光谱仪有两种基本类型:
波长色散型(WDEXRF)和能量色散型(EDXRF)
如下图:
X射线光电子能谱分析(XPS)
1887年,HeinrichRudolfHertz发现了光电效应。
二十年后的1907年,P.D.Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系。
待测物受X光照射后内部电子吸收光能而脱离待测物表面(光电子),透过对光电子能量的分析可了解待测物组成,XPS主要应用是测定电子的结合能来实现对表面元素的定性分析,包括价态。
XPS(X射线光电子能谱)的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。
被光子激发出来的电子称为光电子。
可以测量光电子的能量,以光电子的动能为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图。
从而获得试样有关信息。
X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱(ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis)。
其主要应用:
1,元素的定性分析。
可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。
2,元素的定量分析。
根据能谱图中光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度。
3,固体表面分析。
包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。
4,化合物的结构。
可以对内层电子结合能的化学位移精确测量,提供化学键和电荷分布方面的信息。
5,分子生物学中的应用。
Ex:
利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co
XRD
基本介绍
即X-raydiffraction,X射线衍射,通过对材料进行X射线衍射,分析其衍射图谱,获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。
布喇格定律
X射线是一种波长很短(约为20~0.06┱)的电磁波,能穿透一定厚度的物质,并能使荧光物质发光、照相乳胶感光、气体电离。
在用电子束轰击金属“靶”产生的X射线中,包含与靶中各种元素对应的具有特定波长的X射线,称为特征(或标识)X射线。
考虑到X射线的波长和晶体内部原子间的距离(10-8nm)相近,1912年德国物理学家劳厄(M.vonLaue)提出一个重要的科学预见:
晶体可以作为X射线的空间衍射光栅,即当一束X射线通过晶体时将发生衍射,衍射波叠加的结果使射线的强度在某些方向上加强,在其他方向上减弱。
分析在照相底片上得到的衍射花样,便可确定晶体结构。
这一预见随即为实验所验证。
1913年英国物理学家布喇格父子(W.H.Bragg,W.L.Bragg)在劳厄发现的基础上,不仅成功地测定了NaCl、KCl等的晶体结构,并提出了作为晶体衍射基础的著名公式──布喇格定律:
2dsinθ=nλ
式中λ为X射线的波长,n为任何正整数,又称衍射级数。
其上限为以下条件来表示:
nmax=2dh0k0l0/λ,
dh0k0l0<λ/2
只有那些间距大于波长一半的面族才可能给出衍射,以此求纳米粒子的形貌。
当X射线以掠角θ(入射角的余角)入射到某一点阵平面间距为d的原子面上时,在符合上式的条件下,将在反射方向上得到因叠加而加强的衍射线。
布喇格定律简洁直观地表达了衍射所必须满足的条件。
当X射线波长λ已知时(选用固定波长的特征X射线),采用细粉末或细粒多晶体的线状样品,可从一堆任意取向的晶体中,从每一θ角符合布喇格条件的反射面得到反射,测出θ后,利用布喇格公式即可确定点阵平面间距、晶胞大小和类型;根据衍射线的强度,还可进一步确定晶胞内原子的排布。
这便是X射线结构分析中的粉末法或德拜-谢乐(Debye—Scherrer)法的理论基础。
而在测定单晶取向的劳厄法中,所用单晶样品保持固定不变动(即θ不变),以辐射束的波长作为变量来保证晶体中一切晶面都满足布喇格条件,故选用连续X射线束。
如果利用结构已知的晶体,则在测定出衍射线的方向θ后,便可计算X射线的波长,从而判定产生特征X射线的元素。
这便是X射线谱术,可用于分析金属和合金的成分。
实际应用
X射线衍射现象发现后,很快被用于研究金属和合金的晶体结构,出现了许多具有重大意义的结果。
如韦斯特格伦(A.Westgren)(1922年)证明α、β和δ铁都是体心立方结构,β-Fe并不是一种新相;而铁中的α─→γ转变实质上是由体心立方晶体转变为面心立方晶体,从而最终否定了β-Fe硬化理论。
随后,在用X射线测定众多金属和合金的晶体结构的同时,在相图测定以及在固态相变和范性形变研究等领域中均取得了丰硕的成果。
如对超点阵结构的发现,推动了对合金中有序无序转变的研究,对马氏体相变晶体学的测定,确定了马氏体和奥氏体的取向关系;对铝铜合金脱溶的研究等等。
目前X射线衍射(包括散射)已经成为研究晶体物质和某些非晶态物质微观结构的有效方法。
在金属中的主要应用有以下方面:
物相分析是X射线衍射在金属中用得最多的方面,分定性分析和定量分析。
前者把对材料测得的点阵平面间距及衍射强度与标准物相的衍射数据相比较,确定材料中存在的物相;后者则根据衍射花样的强度,确定材料中各相的含量。
在研究性能和各相含量的关系和检查材料的成分配比及随后的处理规程是否合理等方面都得到广泛应用。
精密测定点阵参数常用于相图的固态溶解度曲线的测定。
溶解度的变化往往引起点阵常数的变化;当达到溶解限后,溶质的继续增加引起新相的析出,不再引起点阵常数的变化。
这个转折点即为溶解限。
另外点阵常数的精密测定可得到单位晶胞原子数,从而确定固溶体类型;还可以计算出密度、膨胀系数等有用的物理常数。
取向分析包括测定单晶取向和多晶的结构(见择优取向)。
测定硅钢片的取向就是一例。
另外,为研究金属的范性形变过程,如孪生、滑移、滑移面的转动等,也与取向的测定有关。
晶粒(嵌镶块)大小和微观应力的测定由衍射花样的形状和强度可计算晶粒和微应力的大小。
在形变和热处理过程中这两者有明显变化,它直接影响材料的性能。
宏观应力的测定宏观残留应力的方向和大小,直接影响机器零件的使用寿命。
利用测量点阵平面在不同方向上的间距的变化,可计算出残留应力的大小和方向。
对晶体结构不完整性的研究包括对层错、位错、原子静态或动态地偏离平衡位置,短程有序,原子偏聚等方面的研究(见晶体缺陷)。
合金相变包括脱溶、有序无序转变、母相新相的晶体学关系,等等。
结构分析对新发现的合金相进行测定,确定点阵类型、点阵参数、对称性、原子位置等晶体学数据。
液态金属和非晶态金属研究非晶态金属和液态金属结构,如测定近程序参量、配位数等。
特殊状态下的分析在高温、低温和瞬时的动态分析。
此外,小角度散射用于研究电子浓度不均匀区的形状和大小,X射线形貌术用于研究近完整晶体中的缺陷如位错线等,也得到了重视。
X
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