光学镜片加工工艺抛光样本.docx
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光学镜片加工工艺抛光样本
光学冷加工工序----------------------------------------2
玻璃镜片抛光工艺--------------------------------------3
镜片抛光----------------------------------------------4
光学冷加工工艺资料详细描述--------------------------5
模具机械抛光基本程序(对比)--------------------------7
金刚砂-----------------------------------------------8
光学清洗工艺-----------------------------------------10
镀膜过程中喷点、潮斑(花斑)成因及消除办法------------12
光学镜片超声波清洗技术-----------------------------14
研磨或抛光对光学镜片腐蚀影响-----------------------17
抛光常用疵病产生因素及克服办法-----------------------23
光学冷却液在光学加工中作用-------------------------25
光学冷加工工序
第1道:
铣磨,是去除镜片表面凹凸不平气泡和杂质,(约0.05-0.08)起到成型作用.
第2道就是精磨工序,是将铣磨出来镜片将其破坏层给消除掉,固定R值.
第3道就是抛光工序,是将精磨镜片再一次抛光,这道工序重要是把外观做更好。
第4道就是清洗,是将抛光过后镜片将其表面抛光粉清洗干净.防止压克.
第5道就是磨边,是将原有镜片外径将其磨削到指定外径。
第6道就是镀膜,是将有需要镀膜镜片表面镀上一层或多层有色膜或其她膜
第7道就是涂墨,是将有需要镜片防止反光在其外袁涂上一层黑墨.
第8道就是胶合,是将有2个R值相反大小和外径材质同样镜片用胶将其联合.
特殊工序:
多片加工(成盘加工)和小球面加工(20跟轴)线切割
依照不同生产工艺,工序也会稍有出入,如涂墨和胶合先后顺序。
玻璃镜片抛光工艺
用抛光机和抛光粉或抛光液一起下进行抛光要设定抛光时间,压力等参数.抛光后要及时进行清洗可浸泡,否则抛光粉会固化在玻璃上,会留有痕迹.
1.抛光粉材料
抛光粉普通由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份构成,不同材料硬度不同,在水中化学性质也不同,因而使用场合各不相似。
氧化铝和氧化铬莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。
氧化铈与硅酸盐玻璃化学活性较高,硬度也相称,因而广泛用于玻璃抛光。
为了增长氧化铈抛光速度,普通在氧化铈抛光粉加入氟以增长磨削率。
铈含量较低混合稀土抛光粉普通掺有3-8氟;纯氧化铈抛光粉普通不掺氟。
对ZF或F系列玻璃来说,由于自身硬度较小,并且材料自身氟含量较高,因而应选用不含氟抛光粉为好。
2.氧化铈颗粒度
粒度越大氧化铈,磨削力越大,越适合于较硬材料,ZF玻璃应当用偏细抛光粉。
要注意是,所有氧化铈颗粒度均有一种分布问题,平均粒径或中位径D50大小只决定了抛光速度快慢,而最大粒径Dmax决定了抛光精度高低。
因而,要得到高精度规定,必要控制抛光粉最大颗粒。
3.抛光粉硬度
抛光粉真实硬度与材料关于,如氧化铈硬度就是莫氏硬度7左右,各种氧化铈都差不多。
但不同氧化铈体给人感觉硬度不同,是由于氧化铈抛光粉普通为团聚体。
固然,有抛光粉中加入氧化铝等较硬材料,体现出来
磨削率和耐磨性都会提高。
4.抛光浆料浓度
抛光过程中浆料浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。
使用小颗粒抛光粉时,浆料浓度因恰当调低。
镜片抛光
光学镜片通过研磨液细磨后,其表面尚有厚约2–3m裂痕层,要消除此裂痕层办法即为抛光。
抛光与研磨机制同样,唯其所使用工具材质与抛光液(slurry)不同,抛光所使用材料有绒布(cloth)、抛光皮(polyurethane)及沥青(pitch),普通要达到高精度抛光面,最常使用材料为高档抛光沥青。
运用沥青来抛光,是藉由沥青细致表面,带动抛光液研磨镜片表面生热,使玻璃熔化流动,熔去粗糙顶点并填平裂痕谷底,逐渐把裂痕层除去。
当前抛光玻璃镜片所使用抛光粉以氧化铈(CeO2)为主,抛光液调配比例依镜片抛光时期不同而有所不同,普通抛光初期与和抛光模合时使用浓度较高抛光液,镜片表面光亮后,则改用浓度较稀抛光液,以避免镜面产生橘皮现象(镜片表面雾化)。
抛光与研磨所用运动机构相似,除了抛光工具与工作液体不同样外,抛光时所需环境条件亦较研磨时严苛。
普通抛光时要注意事项如下:
抛光沥青表面与抛光液中不可有杂质,否则会导致镜面刮伤。
抛光沥青表面要与镜片表面吻合,否则抛光时会产生跳动,因而咬持抛光粉而刮伤镜片表面。
抛光前必要拟定镜片表面与否有研磨后所留下刮伤或刺孔。
抛光工具大小与材质与否恰当。
沥青软硬度与厚度与否恰当。
抛光过程中必要随时注意镜片表面状况及精度检查。
透镜表面瑕疵检查,由于检测过程是凭个人视觉及办法来判断,因此检查者应对刮伤及砂孔规范有深刻认知,要经常比对刮伤与砂孔原则样版,以保证检核对的性。
光学冷加工工艺资料详细描述(工艺过程老化)
1. 抛光粉
1.1对抛光粉规定
a. 颗粒度应均匀,硬度普通应比被抛光材料稍硬;
b. 抛光粉应纯洁,不具有也许引起划痕杂质;
c. 应具备一定晶格形态和缺陷,并有恰当自锐性;
d. 应具备良好分散性和吸附性;
e. 化学稳定性好,不致腐蚀工件。
1.2抛光粉种类和性能
惯用抛光粉有氧化铈(CeO2)和氧化铁(FeO3)。
a. 氧化铈抛光粉 颗粒呈多边形,棱角明显,平均直径约2微米,莫氏硬度7~8级,比重约为7.3。
由于制造工艺和氧化铈含量不同,氧化铈抛光粉有白色(含量达到98%以上)、淡黄色、棕黄色等。
b. 氧化铁抛光粉俗称红粉,颗粒呈球形,颗粒大小约为0.5~1微米,莫氏硬度4~7级,比重约为5.2。
颜色有从黄红色到深红色若干种。
综上所述,氧化铈比红粉具备更高抛光效率,但是对表面光洁度规定高零件,还是使用红粉抛光效果较好。
2. 抛光模层(下垫)材料)惯用抛光模层材料有抛光胶和纤维材料。
2.1抛光胶
抛光胶又名抛光柏油,是由松香、沥青以不同构成比例配制而成,用于光学零件精密抛光。
2.2纤维材料
在光学工件抛光中,若对抛光面面形精度(光圈)规定不高时,长采用呢绒、毛毡及其他纤维物质作为抛光模层材料。
3. 惯用测试仪器
光学零件某些质量指标,如透镜曲率半径、棱镜角度,需要用专门测试仪器来测量。
惯用仪器有:
光学比较侧角仪、激光平面干涉仪、球径仪和刀口仪等。
4. 抛光
在抛光过程中添加抛光液要恰当。
太少了参加作用可以抛光粉颗粒减少,减少抛光效率。
太多了,有些抛光粉颗粒并不参加工作,同步也带来大量液体使玻璃边面温度下降,影响抛光效率。
抛光液浓度也要恰当,浓度太低,即水分太多,参加工作抛光粉颗粒减少并使玻璃表面温度减少,因而减少抛光效率。
浓度太高,即水分带少,影响抛光压力,抛光粉不能迅速散步均匀,导致各部压力不等,导致局部多磨,对抛光光圈(条纹)质量有影响。
并且单位面积压力减少,效率减少,抛光过程中产生碎屑也不能顺利排除,使工件表面粗糙。
普通是开始抛光时抛光液稍浓些,快竣工时,抛光液淡些,添加次数少些,这有助于提高抛光效率和光洁度。
此外,普通以为抛光液酸度(pH值)应控制在6~8之间,否则玻璃表面会被腐蚀,影响表面光洁度。
在抛光过程中检查光圈(条纹)时,如不合格,可以通过调节抛光机转速和压力、工件与模具(抛光机下盘)相对速度、相对位移、摆速和羞怯抛光模层等办法进行修改。
a. 提高主轴转速,能增长边沿部位与上模接触区域抛光强度。
经验证明,若速度过高,抛光表面温度升高,从而使抛光模层硬度减少,影响修改光圈(条纹)效果。
b. 增长荷重以加大压力时,可提高整个抛光模和工件间接触区域抛光强度,也将使抛光表面温度升高,减少抛光模层硬度。
c. 加大铁笔(上盘主轴)位移量,可使上盘中间部位和下盘边沿部位同步得到修整。
d. 加大摆幅长度,增长摆轴速度会使上盘中间部位和下盘边沿部位加速抛光。
e. 刮槽是减少开槽某些压力承受面和摩擦面,因而抛光下盘在开槽某些抛光效力减少。
反之,未开槽某些抛光效力有所增大。
均匀开槽时,能使抛光下盘流动性适合与工件表面曲率。
同步,既能使抛光液含量增长,容易渗入抛光下盘面而增长抛光效力,又能减轻抛光机传动负荷。
综上所述,为了控制和稳定抛光条件,工作场地应保持较为稳定温度(25°C左右)和湿度(相对湿度为60~70%)。
模具机械抛光基本程序(对比)
模具要想获得高质量抛光效果,最重要是要具备有高质量油石、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品。
而抛光程序选取取决于前期加工后表面状况,如机械加工、电火花加工,磨加工等等。
机械抛光普通过程如下:
(1)粗抛经铣、电火花、磨等工艺后表面可以选取转速在35000—40000rpm旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。
惯用办法有运用直径Φ3mm、WA#400轮子去除白色电火花层。
然后是手工油石研磨,条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。
普通使用顺序为#180~#240~#320~#400~#600~#800~#1000。
许多模具制造商为了节约时间而选取从#400开始。
(2)半精抛半精抛重要使用砂纸和煤油。
砂纸号数依次为:
#400~#600~#800~#1000~#1200~#1500。
事实上#1500砂纸只用适于淬硬模具钢(52HRC以上),而不合用于预硬钢,由于这样也许会导致预硬钢件表面烧伤。
(3)精抛精抛重要使用钻石研磨膏。
若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨话,则普通研磨顺序是9μm(#1800)~6μm(#3000)~3μm(#8000)。
9μm钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下发状磨痕。
接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。
精度规定在1μm以上(涉及1μm)抛光工艺在模具加工车间中一种清洁抛光室内即可进行。
若进行更加精密抛光则必须一种绝对干净空间。
灰尘、烟雾,头皮屑和口水沫均有也许报废数个小时工作后得到高精密抛光表面。
金刚砂
1891年,美国人阿切逊将粘土和焦炭混合后放在一种铁钵中,企图用电弧将碳转化为金刚石。
但成果是,在电极附近发现了闪闪发光六方形晶体,它与天然金刚石立方八面体不同。
阿切逊以为这也许是碳和粘土中氧化铝反映而生成新化合物。
由于自然界中有一种氧化铝矿物称为刚玉,于是她把碳和刚玉两个英文单词连起来作为这一新化合物名称,中华人民共和国学者将其译成“金刚砂”。
日后人们懂得这种化合物是由粘土中二氧化硅与碳在高温下反映生成碳化硅。
晶胞为面心立方构造,每个晶胞具有4个C原子4个Si原子。
与金刚石构造类似。
碳化硅硬度仅次于金刚石、碳化硼和立方氮化硼,在无机材料中排行第四。
当前已能通过热压烧结法制得高致密度碳化硅。
它具备很高强度及良好抗氧化性能,在高温下不变形,可作为高温燃气轮机上涡轮叶片,也可作耐磨密封材料,还可作火箭尾喷管喷嘴及轻质防弹用品等。
金刚砂,SiC,学名碳化硅。
纯是无色晶体。
密度3.06~3.20。
硬度很大,大概是莫氏9度。
普通是无色粉状颗粒。
磨碎后来,可以作研磨粉,可制擦光纸,又可制磨轮和砥石摩擦表面。
由砂和适量碳放在电炉中加强热制得。
天然金刚砂又名石榴子石,系硅酸盐类矿物。
通过水力分选,机械加工,筛选分级等办法制成研磨材料。
生产使用历史悠久,古代国内就有使用金刚砂研磨水晶玻璃,各种玉石史例。
十九世纪四十年代又远销东洋。
分粗目,中目,细目三大类。
其中粗目为黑红色,中目为淡红色,细目为红白色,各种目数粒度均匀,颗粒形状均一,成棱叫角晶体,有锋利边沿,磨削力高。
供石材类工业研磨大理石及其他软质材料。
玻璃类工业研磨玻璃毛边,电视机显像管,光学器械,镜片,棱镜,钟表用玻璃等。
金属类工业喷砂,除锈,研磨。
印刷工业研磨胶版,以及轻工业加工塑样,皮革,砂纸等用途。
用途:
(1)对硅片、光学镜头、精密仪器仪表、抛光玻壳、玻璃器皿、陶瓷石料、皮革、塑料、金属机件能提高光洁度
(2)可喷砂切割,是制造砂轮、油石、砂布、砂必要原料
(3)可作为修筑高速公路路面、飞机跑道、耐磨橡胶、工业地坪.防滑油漆等尚佳耐磨材料
(4)可作化工、石油、制药、水解决过滤介质和钻井泥浆加重剂。
(5)对电镀、核污染防护具备良好效果
(6)是水洗厂牛仔服喷砂车间用砂.水切割行业优质配砂
天然金刚砂磨削力略低于电炉白刚玉,但其任性强,具备介壳状段口之特性,其长处是磨件光洁度高,砂痕少而浅。
磨面细而均匀,可提高产品质量,为本品独特之处。
天然金刚砂研磨时间短,效益高,价格低廉,可弥补寿命短局限性。
测定矿物硬度,普通是把两种矿物对划,看那种矿物被划伤,以此来拟定矿物硬度。
详细做法是选取10种“原则矿物”,先用互相刻划办法分别拟定出1~10个硬度级别,后来便用这些原则矿物来刻划待测矿物,通过比较来拟定后者硬度。
硬度1为最软,硬度10为最硬。
用这种办法测定硬度,按照提出此办法科学家姓氏,叫做“莫氏硬度”。
如果没有特别阐明,谈到硬度,多半指就是“莫氏硬度”。
此外也有用绝对原则来测定矿物绝对硬度办法,例如“努普硬度”。
这种办法是在尖形金刚石上方加上重量,用尖头挤压待测矿物,然后测量在矿物表面所形成压痕大小和所施加压力(单位为公斤/毫米^2,普通表达为“HK”)。
由于这种办法测出是绝对硬度,所得数值增长一倍,硬度也增长一倍。
但是,这种测定硬度办法对所测矿物有较大损伤,普通不大使用。
钻石硬度为10~
光学清洗工艺
影响清洗因素:
A,清洗工艺技术核心:
光学玻璃通过清洗后能否达到表面不留任何油污,污迹,表面光滑,水膜完好!
B,影响清洗后玻璃质量因素及相应解决办法:
(1)玻璃自身质量及被污染状况,重要为:
表面有霉点,气泡,划伤等,在机械解决中,如:
研磨,搽试,测应力时,人为导致污染状况不一;
(2)清洗剂选取其能动及温度,水质;
国际上应用最广清洗剂为CFC-113,四氯化炭,1-1-1三氯乙烷(简称ODS)等,此类清
洗剂对臭氧层有破坏,属于非环保性清洗剂;咱们采用非ODS水类碱性清洗剂,重要由
水,碱,表面活性剂,防锈材料构成,化学式C3H8,具备侧链环状烯烃,具备较强
溶油能力;特点:
低毒,不燃,清洗成本低等特点;
(3)溶液浓度直接影响清洗度大小;
普通清洗液PH值普通在8.5-12之间,若PH值不不大于10,侧表面活性物质作用要削弱,当PH
值不不大于12时,侧清洁度下降。
在实际使用中发现当溶液浓度过大,超过15%,清洗效果不好
,不易漂洗,而浓度约为4%-7%时,侧清洗效果较佳。
(4)溶液温度及浸泡时间也同样影响去污效率;
当温度上升,溶液反映速度也上升,污染物粘度下降,便于污染物脱离,但溶液稳定
度下降。
实际发现溶液温度50度,浸泡30分钟后,清洗效果最佳!
(5)在清洗过程中,还应注意必要使用纯水或去离子水,若使用自来水等硬水侧很难除去玻璃上油污,且水中所含Ca,Na离子等杂质会在烘干后玻璃表面形成一层白色雾状膜,污染玻璃;
(6)玻璃经清洗后需漂洗,漂洗后清洁度,除与清洁剂漂洗性和清洗液中清洁剂浓度关于外,还与漂洗工序多少,漂洗供水量大小,温度及循环使用纯水与否干净关于;
(7)清洗环境清洁限度;
(8)清洗后干燥工艺及温度:
应尽量保证玻璃垂直,可在玻璃下垫陶瓷柱,避免烘干后玻璃下沿有水印;烘箱温度控制在70度左右,时间在20分钟左右。
若温度过高,会在玻璃边角上产生花纹。
镀膜过程中喷点、潮斑(花斑)成因及消除办法
真空镀膜过程中有时会产生喷点及潮斑(花斑),这些喷点、潮斑(花斑)极大影响了薄膜品质,减少产品合格率。
本文将对喷点、潮斑(花斑)形成因素以及消除办法作一探讨。
一.喷点形成因素
镀膜过程中产生喷点重要有如下几种因素:
1.镀膜材料纯度不高,含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。
2.材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面材料所有熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种状况在用国产电子枪镀制MgF2及某些直接升华材料时较易发生)。
3.镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里细小颗粒溅上工件表面形成喷点。
4.镀膜过程中,电子枪束流过大引起材料飞溅产生喷点。
二.潮斑形成因素:
1.清洗液配比不好,具有较多水份,清洗后工件表面留有残迹,镀膜后形成花斑。
2.镀制两个面以上工件时,一面镀制完毕,清洗第二面时,镀制完一面受到污染,在第二面镀膜后形成花斑。
3.工件自身具有水份(工件白片制作过程细解),在蒸镀前烘烤过程中逸出,蒸镀后形成潮斑。
4.镀膜夹具在烘烤过程中会有水汽以及其他废气排出,蒸镀后在工件表面形成潮斑且对镀膜后光学特性产生影响。
针对以上喷点、潮斑(花斑)成因,在生产中采用了如下某些办法以消除喷点、潮斑(花斑):
1.选取可靠材料供应商,并对购买每批材料在投入使用前先做一测试,鉴定材料可靠性。
2.规范材料领用、保管,(干燥缸,干燥剂)保证材料不受潮,材料性质无变化。
3.规范镀膜操作,严格执行预熔、蒸镀操作规程。
蒸镀前材料预熔一定要彻底,镀制某些较厚膜层时可以采用多次预熔办法消除喷点。
4.规范清洗操作,加强清洗后检查,提高清洗质量,消除因清洗而产生潮斑(花斑)。
5.调节烘烤温度,消除烘烤因素产生潮斑。
6.规范镀膜夹具管理。
每次投入使用前,夹具需要先通过清洗、烘烤(300度,3小时以上)才干投入生产。
7.设计镀膜夹具时,尽量采用在真空室内放气量小材料,同步可采用夹具表面镀Ni办法减少夹具放气量,消除由此产生潮斑(花斑)。
通过以上这些办法,镀膜过程中产生喷点、潮斑(花斑)可以得到非常有效控制。
光学镜片超声波清洗技术
在光学冷加工中,镜片清洗重要是指镜片抛光后残存抛光液、黏结剂、保护性材料清洗;镜片磨边后磨边油、玻璃粉清洗;镜片镀膜前手指印、口水圈以及各种附着物清洗。
老式清洗办法是运用擦拭材料(纱布、无尘纸)配合化学试剂(汽油、乙醇、丙酮、乙醚)采用浸泡、擦拭等手段进行手工清擦。
这种办法费时费力,清洁度差,显然不适应当代规模化光学冷加工行业。
这迫使人们寻找一种机械化清洗手段来代替。
于是超声波清洗技术逐渐进入光学冷加工行业并大显身手,进一步推动了光学冷加工业发展。
超声波清洗技术基本原理,大体可以以为是运用超声场产生巨大作用力,在洗涤介质配合下,促使物质发生一系列物理、化学变化以达到清洗目办法。
当高于音波(28~40khz)高频振动传给清洗介质后,液体介质在高频振动下产生近乎真空空腔泡,空腔泡在互相间碰撞、合并、消灭过程中,可使液体局部瞬间产生几千大气压压强,如此大压强使得周边物质发生一系列物理、化学变化。
这种作用称为"空化作用":
1.空化作用可使物质分子化池键断裂,引起各种物理变化(溶解、吸附、乳化、分散)和化学变化(氧化、还原、分解、化合)等。
2.当空腔泡固有频率和超声频率相等时,可产生共振,共振空腔泡内汇集了大量热能,这种热能足以使周边物质化学键断裂而引起物理、化学变化。
3.当空腔泡形成时,两泡壁间因产生极大电位差而引起放电,致使腔内气泡活化进而引起周边物质活化,从而使物质发生物理、化学变化。
超声场为清洗提供了巨大能量,但还需化学洗剂作为介质。
普通将化学洗剂分为两类,一类是有机溶剂,重要是依照相似相溶化学原理,对有机物如:
黏结剂(沥青、松香等)、保护性材料(沥青、树脂等)、磨边润滑油进行溶解。
在光学洗净中,最初用三氯乙烯、芳香烃、氟里昂等作为清洗剂,此类物质虽然溶解性强,但有易挥发,毒性大,有对大气臭氧层有破坏作用,被逐渐禁用。
现国内多采用某些上述物质改进产品或某些碳氢化合物做溶剂。
当前使用较多另一类清洗剂是以表面活性剂为重要成分水基清洗剂,其清洗原理简朴地说是由于表面活性剂分子构造中同步具有亲油基亲水基,具备极性和构造不对称特点。
正是这种特点使得它能极大减少水溶液表面张力,使物体表面易于润湿,表面污物易于被溶解,分散在清洗液中而达到洗涤目。
超声波清洗就是在液体清洗介质中,运用超声场产生巨大能量,通过物理、化学综合伙用而达到洗净目一种洗净手段。
那么,在光学冷加工中,超声波清洗是如何实现洗净目呢?
普通来说,清洗工艺重要以干燥方式命名,如ipa工艺,是指运用ipa(异丙醇)蒸汽进行脱水干燥清洗工艺,纯水工艺是指运用热纯水慢提拉或冷纯水甩干方式进行干燥清洗工艺。
固然,尚有其她命名方式。
通过不断变化、发展,光学冷加工中清洗工艺重要以ipa工艺和纯水工艺为主。
ipa工艺涉及四个流程:
洗涤、漂洗、脱水、干燥。
由于洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,因此有不同工艺:
有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有先进行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗。
显然,后者在流程上更流畅、紧凑,对设备规定也简朴。
通过洗涤后镜片表面不会有结合牢固污垢,仅也许有某些清洗剂和松散污垢混合物。
咱们懂得,无机光学玻璃是一种过冷熔融态物质,没有固定分子构造,它构造式可描述为二氧化硅和某些金属氧化物形成网状构造。
其骨架构造为键能很大硅氧共价键,外围是键能小、易断裂氧与金属离子形成离子键。
在洗涤时,由于超声场和化学洗剂共同作用,某些硅氧键含量少或者外围键能特别小材料易于在清洗过程中发生变化而导致洗涤效果不良。
因此,选取性能温和洗剂、适当洗剂浓度、温度、超声功率、洗涤时间对保证镜片清洗质量十分重要。
运用流水将洗涤后镜片表面洗剂和污物溶解、排除过程称为漂洗。
影响漂洗效果因素有如下几种:
洗剂漂清性能,漂洗水纯度、温度以及流动性、超声波频率等。
普通在40khz时,在常温下,电导率为0.1μs/m纯水可以保证漂洗规定。
通过漂洗后镜片表面干净度应和漂洗水干净度一致。
当它进入ipa后,虽然ipa能和纯水进行无限度相混溶,但在超声波作用下,这种混溶能进行得更迅速、彻底,从而使得镜片表面状态和混溶后ipa相似。
这一过程称为脱水。
因此影响脱水重要因素是ipa纯度、超声波频率、脱水时间。
普通ipa最低浓度要高于97%。
脱水后镜片进入ipa蒸汽槽干燥。
蒸汽槽构造大体如下:
槽体下部为ipa液体,四周是高沸点油加热腔,上部是由若干圈冷凝管环绕成冷凝区,冷凝管内是由冷水机提供循环冷水,镜片由链条驱动托架带动在干燥槽内运营。
干燥原理及过程如下:
蒸汽槽ipa在高温油加热下沸腾,蒸汽向上进入冷凝区,在冷凝区形成浓度、温度相对稳定蒸汽区,脱水后表面附有液体ipa镜片进入蒸汽区时,蒸汽区蒸汽在低温镜片表面冷凝液化,冲刷镜片表面,犹如"淋浴",当镜片表面温度和蒸汽温度相似时,已不再附有液态ipa,而全转化为ipa。
此时,镜片在托架带动下上升回到冷凝区,在这一过程中,由于温度渐低,镜片表面ipa蒸汽冷凝液化,液化ipa一某些在表面张力和重力作用下离开镜片,一某些在夹具散热时挥发离开镜片表面,经以上过程后,镜片表面得到干燥。
由此可见,影响干燥因素诸多:
ipa纯度、干燥位置、链条提高速度、冷水机水温、冷凝行程长短、干燥时间、夹具材料、形状选用等等。
以上是ipa工艺四个流程简介,纯水工艺由三个流程构成:
洗涤、漂洗、干燥。
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