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8.
工厂中硅片(wafer)的建造过程可分哪几个工艺过程(module)?
次要有四个部分:
DIFF(扩散)、TF(薄膜)、PHOTO(光刻)、ETCH(刻蚀).其中DIFF又包含FURNACE(炉管)、WET(湿刻)、IMP(离子
注入)、RTP(快速热处理).TF包含PVD(物理气相淀积)、CVD(化学气相淀积)、CMP(化学机械研磨).硅片的制培养是根据客户的请求,不竭的在分歧工艺过程(module)间反复进行的生产过程,最初再利用电性的测试,确保产品良好.
9.
普通硅片的建造常以几P几M及光罩层数(masklayer)来代表硅片工艺的时间是非,请问几P几M及光罩层数(masklayer)代表什幺意义?
几P几M代表硅片的建造有几层的Poly(多晶硅)和几层的metal(金属导线).普通0.15um的逻辑产品为1P6M(1层的Poly和6层的metal).而
光罩层数(masklayer)代表硅片的建造必须经过几次的PHOTO(光刻).
10.
Wafer下线的第一道步调是构成startoxide和zerolayer?
其中startoxide的目的是为什么?
①不但愿无机成分的光刻胶直接碰触Si概况.
②在laser刻号过程中,亦可防止被发生的粉尘净化.
11.
为什么须要zerolayer?
芯片的工艺由很多分歧条理堆栈而成的,各条理之间以zerolayer当做对准的基准.
12.
Lasermark是什幺用处?
WaferID又代表什幺意义?
Lasermark是用来刻waferID,WaferID就如同硅片的身份证一样,一个ID代表一片硅片的身份.
13.
普通硅片的建造(waferprocess)过程包含哪些次要部分?
①前段(frontend)-元器件(device)的建造过程.
②后段(backend)-金属导线的连接及护层(passivation)
14.
前段(frontend)的工艺大致可区分为那些部分?
①STI的构成(定义AA区域及器件间的隔离)
②阱区离子注入(wellimplant)用以调整电性
③栅极(polygate)的构成
④源/漏极(source/drain)的构成
⑤硅化物(salicide)的构成
15.
STI是什幺的缩写?
为什么须要STI?
STI:
ShallowTrenchIsolation(浅沟道隔离),STI可以当做两个组件(device)间的阻隔,防止两个组件间的短路.
16.
AA是哪两个字的缩写?
简单说明AA的用处?
ActiveArea,即有源区,是用来建立晶体管主体的地位所在,在其上构成源、漏和栅极.两个AA区之间即是以STI来做隔离的.
17.
在STI的刻蚀工艺过程中,要留意哪些工艺参数?
①STIetch(刻蚀)的角度;
②STIetch的深度;
③STIetch后的CD尺寸大小控制.
(CDcontrol,CD=criticaldimension)
18.
在STI的构成步调中有一道lineroxide(线形氧化层),lineroxide的特性功能为什么?
Lineroxide为1100C,120min高温炉管构成的氧化层,其功能为:
①修补进STIetch形成的基材损伤;
②将STIetch形成的etch尖角给于圆化(cornerrounding).
19.
普通的阱区离子注入调整电性可分为那三道步调?
功能为什么?
阱区离子注入调整是利用离子注入的方法在硅片上构成所须要的组件电子特性,普通包含上面几道步调:
①WellImplant:
构成N,P阱区;
②ChannelImplant:
防止源/漏极间的漏电;
③VtImplant:
调整Vt(阈值电压).
20.
普通的离子注入条理(Implantlayer)工艺建造可分为那几道步调?
普通包含上面几道步调:
①光刻(Photo)及图形的构成;
②离子注入调整;
③离子注入完后的ash(plasma(等离子体)清洗)
④光刻胶去除(PRstrip)
21.
Poly(多晶硅)栅极构成的步调大致可分为那些?
①Gateoxide(栅极氧化层)的沉积;
②Polyfilm的沉积及SiON(在光刻中作为抗反射层的物资)的沉积);
③Poly图形的构成(Photo);
④Poly及SiON的Etch;
⑤Etch完后的ash(plasma(等离子体)清洗)及光刻胶去除(PRstrip);
⑥Poly的Re-oxidation(二次氧化).
22.
Poly(多晶硅)栅极的刻蚀(etch)要留意哪些地方?
①Poly的CD(尺寸大小控制;
②防止Gateoxie被蚀刻掉,形成基材(substrate)受损.
23.
何谓Gateoxide(栅极氧化层)?
用来当器件的介电层,利用分歧厚度的gateoxide,可调节栅极电压对分歧器件进行开关
24.
源/漏极(source/drain)的构成步调可分为那些?
①LDD的离子注入(Implant);
②Spacer的构成;
③N+/P+IMP高浓度源/漏极(S/D)注入及快速热处理(RTA:
RapidThermal
Anneal).
25.
LDD是什幺的缩写?
用处为什么?
LDD:
LightlyDopedDrain.LDD是使用较低浓度的源/漏极,以防止组件发生热载子效应的一项工艺.
26.
何谓Hotcarriereffect(热载流子效应)?
在线寛小于0.5um以下时,由于源/漏极间的高浓度所发生的高电场,导致载流子在挪动时被加速发生热载子效应,此热载子效应会对gateoxide形成破坏,形成组件损伤.
27.
何谓Spacer?
Spacer蚀刻时要留意哪些地方?
在栅极(Poly)的两旁用dielectric(介电质)构成的侧壁,次要由Ox/SiN/Ox构成.蚀刻spacer时要留意其CD大小,profile(剖面轮廓),及remainoxide(残留氧化层的厚度)
28.
Spacer的次要功能?
①使高浓度的源/漏极与栅极间发生一段LDD区域;
②作为ContactEtch时栅极的呵护层.
29.
为什么在离子注入后,须要热处理(ThermalAnneal)的工艺?
①为恢复经离子注入后形成的芯片概况损伤;
②使注入离子扩散至适当的深度;
③使注入离子挪动到适当的晶格地位.
30.
SAB是什幺的缩写?
目的为什么?
SAB:
Salicideblock,用于呵护硅片概况,在RPO(ResistProtectOxide)
的呵护下硅片不与其它Ti,Co构成硅化物(salicide)
31.
简单说明SAB工艺的流层中要留意哪些?
①SAB光刻后(photo),刻蚀后(etch)的图案(特别是小块区域).要确定有完好的包覆(block)住必须被包覆(block)的地方.
②remainoxide(残留氧化层的厚度).
32.
何谓硅化物(salicide)?
Si与Ti或Co构成TiSix或CoSix,普通来说是用来降低接触电阻值(Rs,Rc).
33.
硅化物(salicide)的构成步调次要可分为哪些?
①Co(或Ti)+TiN的沉积;
②第一次RTA(快速热处理)来构成Salicide.
③将未反应的Co(Ti)以化学酸去除.
④第二次RTA
(用来构成Ti的晶相转化,降低其阻值).
34.
MOS器件的次要特性是什幺?
它主如果通过栅极电压(Vg)来控制源,漏极(S/D)之间电流,实现其开关特性.
35.
我们普通用哪些参数来评价device的特性?
次要有Idsat、Ioff、Vt、Vbk(breakdown)、Rs、Rc;
普通请求Idsat、Vbk(breakdown)值尽量大,Ioff、Rc尽量小,Vt、Rs尽量接近设计值.
36.
什幺是Idsat?
Idsat代表什幺意义?
饱和电流.也就是在栅压(Vg)必定时,源/漏(Source/Drain)之间流动的最大电流.
37.
在工艺建造过程中哪些工艺可以影响到Idsat?
PolyCD(多晶硅尺寸)、GateoxideThk(栅氧化层厚度)、AA(有源区)宽度、Vtimp.条件、LDDimp.条件、N+/P+imp.条件.
38.
什幺是Vt?
Vt代表什幺意义?
阈值电压(ThresholdVoltage),就是发生强反转所需的最小电压.当栅极电压Vg<
Vt时,MOS处于关的形态,而Vg〉=Vt时,源/漏之间便发生导电沟道,MOS处于开的形态.
39.
在工艺建造过程中哪些工艺可以影响到Vt?
PolyCD、GateoxideThk.(栅氧化层厚度)、AA(有源区)宽度及Vtimp.条件.
40.
什幺是Ioff?
Ioff小有什幺好处
关态电流,Vg=0时的源、漏级之间的电流,普通请求此电流值越小越好.Ioff越小,暗示栅极的控制能力愈好,可以防止不须要的漏电流(省电).
41.
什幺是devicebreakdownvoltage?
指解体电压(击穿电压),在Vg=Vs=0时,Vd所能承受的最大电压,当Vd大于此电压时,源、漏之间构成导电沟道而不受栅压的影响.在器件越做越小的情况下,这类情形会将会愈来愈严重.
42.
何谓ILD?
IMD?
其目的为什么?
ILD:
InterLayerDielectric,是用来做device与第一层metal的隔离(isolation),而IMD:
InterMetalDielectric,是用来做metal与metal的隔离(isolation).要留意ILD及IMD在CMP后的厚度控制.
43.
普通介电层ILD的构成由那些条理构成?
①SiON层沉积(用来防止上层B,P渗入器件);
②BPSG(掺有硼、磷的硅玻璃)层沉积;
③PETEOS(等离子体加强正硅酸乙脂)层沉积;
最初再经ILDOxideCMP(SiO2的化学机械研磨)来做平坦化.
44.
普通介电层IMD的构成由那些条理构成?
①SRO层沉积(用来防止上层的氟离子往下渗入器件);
②HDP-FSG(掺有氟离子的硅玻璃)层沉积;
③PE-FSG(等离子体加强,掺有氟离子的硅玻璃)层沉积;
使用FSG的目的是用来降低dielectrick值,减低金属层间的寄生电容.
最初再经IMDOxideCMP(SiO2的化学机械研磨)来做平坦化.
45.
简单说明Contact(CT)的构成步调有那些?
Contact是指器件与金属线连接部分,分布在poly、AA上.
①Contact的Photo(光刻);
②Contact的Etch及光刻胶去除(ash&
PRstrip);
③Gluelayer(粘合层)的沉积;
④CVDW(钨)的沉积
⑤W-CMP.
46.
Gluelayer(粘合层)的沉积所处的地位、成分、薄膜沉积方法是什幺?
由于W较难附着在Salicide上,所以必须先沉积只Gluelayer再沉积W
Gluelayer是为了加强粘合性而加入的一层.次要在salicide与W(CT)、W(VIA)与metal之间,其成分为Ti和TiN,
分别采取PVD和CVD方式建造.
47.
为什么各金属层之间的连接大多都是采取CVD的W-plug(钨插塞)?
①由于W有较低的电阻;
②W有较佳的stepcoverage(阶梯覆盖能力).
48.
普通金属层(metallayer)的构成工艺是采取哪种方式?
大致可分为那些步调?
①PVD(物理气相淀积)Metalfilm沉积
②光刻(Photo)及图形的构成;
③Metalfilmetch及plasma(等离子体)清洗(此步驺为连序工艺,在同一个机台内完成,其目的在防止金属腐蚀)
④Solvent光刻胶去除.
49.
Topmetal和intermetal的厚度,线宽有何分歧?
Topmetal通常要比intermetal厚得多,0.18um工艺中intermetal为4KA,而topmetal要8KA.主如果由于topmetal直接与内部电路相接,所承受负载较大.普通topmetal的线宽也比intermetal宽些.
50.
在量测Contact/Via(是指metal与metal之间的连接)的接触窗开的好欠好时,我们是利用什幺电性参数来得知的?
通过Contact或Via的Rc值,Rc值越高,代表接触窗的电阻越大,普通来说我们但愿Rc是越小越好的.
51.
什幺是Rc?
Rc代表什幺意义?
接触窗电阻,具体指金属和半导体(contact)或金属和金属(via),在相接触时在节处所构成的电阻,普通请求此电阻越小越好.
52.
影响Contact(CT)Rc的次要缘由可能有哪些?
①ILDCMP的厚度是否异常;
②CT的CD大小;
③CT的刻蚀过程是否正常;
④接触底材的质量或浓度(Salicide,non-salicide);
⑤CT的gluelayer(粘合层)构成;
⑥CT的W-plug.
53.
在量测Poly/metal导线的特性时,是利用什幺电性参数得知?
可由电性量测所得的spacing&
Rs值来表示导线是否异常.
54.
什幺是spacing?
如何量测?
在电性测量中,给一条线(polyormetal)加必定电压,测量与此线相邻但不订交的另外一线的电流,此电流越小越好.当电流偏大时代表导线间可能发生短路的景象.
55.
什幺是Rs?
片电阻(单位面积、单位长度的电阻),用来量测导线的导电情况如何.普通可以量测的为AA(N+,P+),poly&
metal.
56.
影响Rs有那些工艺?
①导线line(AA,poly&
metal)的尺寸大小.(CD=criticaldimension)
②导线line(poly&
metal)的厚度.
③导线line
(AA,poly&
metal)的本人电导性.(在AA,polyline时可能为注入离子的剂量有关)
57.
普通护层的结构是由哪三层构成?
①HDPOxide(高浓度等离子体二氧化硅)
②SROOxide(Siliconrichoxygen富氧二氧化硅)
③SiNOxide
58.
护层的功能是什幺?
使用oxide或SiN层,用来呵护基层的线路,以防止与外界的水汽、空气相接触而形成电路损害.
59.
Alloy的目的为什么?
①Release各层间的stress(应力),构成良好的层与层之间的接触面
②降低层与层接触面之间的电阻.
60.
工艺流程结束后有一步调为WAT,其目的为什么?
WAT(waferacceptancetest),是在工艺流程结束后对芯片做的电性测量,用来检验各段工艺流程是否符合尺度.(前段所讲电学参数Idsat,Ioff,Vt,Vbk(breakdown),Rs,Rc就是在此步调完成)
61.
WAT电性测试的次要项目有那些?
①器件特性测试;
②Contactresistant(Rc);
③Sheetresistant(Rs);
④Breakdowntest;
⑤电容测试;
⑥Isolation(spacingtest).
62.
什么是WATWatch零碎?
它有什么功能?
Watch零碎提供PIE工程师一个工具,来针对分歧WAT测试项目,设置分歧的栏住产品及发出Warning警告尺度,能使PIE工程师初期发现工艺上的成绩.
63.
什么是PCMSPEC?
PCM(Processcontrolmonitor)SPEC广义而言是指芯片建造过程中所有工艺量测项目的规格,广义而言则是指WAT测试参数的规格.
64.
当WAT量测到异常是要如何处理?
①检查WAT机台是否异常,若有则重测之
②利用手动机台Doubleconfirm
③检查产品是在工艺流程建造上是否有异常记录
④切片检查
65.
什么是EN?
EN有何功能或用处?
由CE发出,详记关于某一产品的相干信息(包含TechnologyID,ReticleandsomesplitconditionETC….)或是客户请求的事项(包含HOLD,Split,Bank,Runtocomplete,Package….),根据EN提供信息我们才可以建立Processflow及处理此产品的相干动作.
66.
PIE工程师每天来公司须要Check哪些项目(开门五件事)?
①CheckMES零碎,观察本人Lot情况
②处理inlineholdlot.(defect,process,WAT)
③分析汇总相干产品inline数据.(rawdata&
SPC)
④分析汇总相干产品CPtest结果
⑤介入晨会,汇报相干产品信息
67.
WAT工程师每天来公司须要Check哪些项目(开门五件事)?
①检查WAT机台Status
②检查及处理WATholdlot
③检查前一天的retestwafer及量测是否有异常
④是否有新产品要到WAT
⑤交接事项
68.
BR工程师每天来公司须要Check哪些项目(开门五件事)?
①Passdown
②Reviewurgentcasestatus
③CheckMESissueswhichreportedbymoduleandline
④Reviewdocumentation
⑤Reviewtaskstatus
69.
ROM是什幺的缩写?
ROM:
Readonlymemory唯读存储器
70.
何谓YE?
YieldEnhancement良率改善
71.
YE在FAB中所饰演的角色?
针对工艺中发生缺陷的成因进行追踪,数据收集与分析,改善评估等工作.进而与相干工程部分工程师合作提出改善方案并作后果评估.
72.
YE工程师的次要任务?
①降低突发性异常情况.(Excursionreduction)
②改善常态性缺陷情况.(Baselinedefectimprovement)
73.
如何reduceexcursion?
无效监控各生产机台及
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