常用材料微观测试方法Word格式.docx
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其厚与薄的部分,或分界明确,或逐渐移行。
厚的部分,吸收X线多,透过的X线少,薄的部分则相反。
人体各部位细胞对X射的反应程度不一,其中以性腺最为敏感。
辐射能够引起生殖细胞遗传物质的变化,形成遗传效应。
这种变化表现为基因突变和染色体畸变。
近年来,对辐射的遗传效应有了一些新的认识,认为在小剂量范围内对遗传方面的影响不大。
防护措施
技术方面:
可以采取屏蔽防护和距离防护原则。
屏蔽防护是指使用原子序数较高的物质,常用铅或含铅的物质,作为屏障以吸收不必要的x线。
距离防护是指利用x线曝射量与距离平方成反比这一原理,通过增加x线源与人体间距离以减少曝射量。
简单说来,在X线环境中要注意穿戴铅围裙、铅围脖、铅帽、铅眼镜、铅手套、铅面罩及性腺防护等,并利用距离防护原则,加强自我防护。
其他辐射及防护
除了X线辐射外,在人们生活中还有类似的辐射,比如电脑、电视、手机、微波炉离人体都很近,所以危害也比较重,现在家庭装修通常会买一些地砖、文化石等,这些装修材料也会产生一定的辐射,地砖的辐射主要是来自于氡的放射性,氡射气是电离辐射,这种电离辐射作用在机体分子里面可以把有机分子正负电荷给拉开,然后就会产生不可恢复的器质性病变。
如何防护这些辐射呢?
应该说,只要注意了时间和距离的问题,使用微波炉一般是不会对人体造成损害的。
比如打开微波炉后尽量离开,保持距离以达到防护作用,还可以在微波炉上加上微波炉专用罩。
电脑屏幕、主机、机箱、甚至连鼠标都有辐射,当然最主要的辐射是来自于屏幕,通常做好屏幕的防辐射工作就可以了。
可以给电脑加上防辐射屏。
孕妇要远离辐射源。
实际应用
应用价值
光的衍射
X射线衍射现象发现后,很快被用于研究金属和合金的晶体结构,出现了许多具有重大意义的结果。
如韦斯特格伦(1922年)证明α、γ和δ铁都是体心立方结构,γ-Fe并不是一种新相;
而铁中的α─→γ转变实质上是体心立方晶体转变为面心立方晶体,从而最终否定了γ-Fe硬化理论。
随后,在用X射线测定众多金属和合金的晶体结构的同时,在相图测定以及在固态相变和范性形变研究等领域中均取得了丰硕的成果。
如对超点阵结构的发现,推动了对合金中有序无序转变的研究,对马氏体相变晶体学的测定,确定了马氏体和奥氏体的取向关系;
对铝铜合金脱溶的研究等等。
应用现状
目前X射线衍射(包括散射)已经成为研究晶体物质和某些非晶态物质微观结构的有效方法。
在金属中的主要应用有以下方面:
物相分析是X射线衍射在金属中用得最多的方面,分定性分析和定量分析。
前者把对材料测得的点阵平面间距及衍射强度与标准物相的衍射数据相比较,确定材料中存在的物相;
后者则根据衍射花样的强度,确定材料中各相的含量。
在研究性能和各相含量的关系和检查材料的成分配比及随后的处理规程是否合理等方面都得到广泛应用。
精密测定点阵参数常用于相图的固态溶解度曲线的测定。
溶解度的变化往往引起点阵常数的变化;
当达到溶解限后,溶质的继续增加引起新相的析出,不再引起点阵常数的变化。
这个转折点即为溶解限。
另外点阵常数的精密测定可得到单位晶胞原子数,从而确定固溶体类型;
还可以计算出密度、膨胀系数等有用的物理常数。
取向分析包括测定单晶取向和多晶的结构。
测定硅钢片的取向就是一例。
另外,为研究金属的范性形变过程,如孪生、滑移、滑移面的转动等,也与取向的测定有关。
晶粒大小和微观应力的测定衍射花样的形状和强度可计算晶粒和微应力的大小。
在形变和热处理过程中这两者有明显变化,它直接影响材料的性能。
宏观应力的测定宏观残留应力的方向和大小,直接影响机器零件的使用寿命。
利用测量点阵平面在不同方向上的间距的变化,可计算出残留应力的大小和方向。
对晶体结构不完整性的研究包括对层错、位错、原子静态或动态地偏离平衡位置,短程有序,原子偏聚等方面的研究。
合金相变包括脱溶、有序无序转变、母相新相的晶体学关系,等等。
结构分析对新发现的合金相进行测定,确定点阵类型、点阵参数、对称性、原子位置等晶体学数据。
液态金属和非晶态金属研究非晶态金属和液态金属结构,如测定近程序参量、配位数等。
特殊状态下的分析在高温、低温和瞬时的动态分析。
此外,小角度散射用于研究电子浓度不均匀区的形状和大小,X射线形貌术用于研究近完整晶体中的缺陷如位错线等,也得到了重视。
物相分析
对于组成元素未知的单组份化合物或者多组分混合物,直接用XRD进行物相分析是存在一定问题的,于同组的元素具有相似的性质和晶体结构。
造成在同位置出现衍射峰,从而不能确定物相。
所以对于未知组成的晶态化合物首先要进行元素的定性分析。
新发展
金属X射线分析于设备和技术的普及已逐步变成金属研究和材料测试的常规方法。
早期多用照相法,这种方法费时较长,强度测量的精确度低。
50年代初问世的计数器衍射仪法具有快速、强度测量准确,并可配备计算机控制等优点,已经得到广泛的应用。
但使用单色器的照相法在微量样品和探索未知新相的分析中仍有自己的特色。
从70年代以来,随着高强度X射线源和高灵敏度探测器的出现以及电子计算机分析的应用,使金属X射线学获得新的推动力。
这些新技术的结合,不仅大大加快分析速度,提高精度,而且可以进行瞬时的动态观察以及对更为微弱或精细效应的研究。
X射线衍射仪是利用衍射原理,精确测定物质的晶体结构,织构及应力,精确的进行物相分析,定性分析,定量分析.广泛应用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教学,材料生产等领域.
X射线是波长介于紫外线和γ射线间的电磁辐射。
X射线管是具有阴极和阳极的真空管,阴极用钨丝制成,通电后可发射热电子,阳极用高熔点金属制成。
用几万伏至几十万伏的高压加速电子,电子束轰击靶极,X射线从靶极发出。
电子轰击靶极时会产生高温,故靶极必须用水冷却。
XRDX-射线衍射主要是对照标准谱图分析纳米粒子的组成,分析粒径,结晶度等。
应用时应先对所制样品的成分进行确认。
在确定后,查阅相关手册标准图谱,以确定所制样品是否为所得。
数据库
劳埃利用连续X射线照射硫酸铜单晶体获得衍射斑点图就是第一个用于晶体研究的例子,劳埃同时推导劳埃的衍射方程研究晶体结构。
从那以后布拉格父子等一批物理学家和化学家利用X射线衍射研究了许多无机物晶体结构;
上世纪xx年代开展了有机物晶体结构的测定工作,30年代开始利用X射线对胃蛋白酶、胰岛素等蛋白质和生物物质晶体结构进行研究。
至今经过许多科学工作者的努力,积累了大量的晶体结构数据,现在已经有xx年,建立在美国Brookhaven国家实验室。
现已有4300多个生物大分子的三维结构数据。
数据库中对每个蛋白质晶体列出下列内容:
收集的衍射数目、修正方法、偏差数值、已测定水分子位置的数目、蛋白质分子中氨基酸连接次序、螺旋、折叠层及转弯的分析、原子坐标参数,以及和蛋白质结合的金属原子、底物及抑制剂等的坐标参数等。
无机晶体结构数据库,建立在德国,约3万多个无机化合物的结构。
NRCC金属晶体学数据文件。
该建立在加拿大,约为万个金属合金、金属间物相及部分金属氢化物和氧化物。
粉末衍射数据文件。
该库建立在美国,汇集有万种单相物质的粉晶衍射资料,称为国际衍射数据中心的粉晶数据库。
储存各化合物的晶面间距dhkl和相对强度、晶胞、空间群和密度等数据,主要用于物质的鉴定。
SEM
扫描电子显微镜是1965年发明的较现代的细胞生物学研究工具,主要是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态,即用极狭窄的电子束去扫描样品,通过电子束与样品的相互作用产生各种效应,其中主要是样品的二次电子发射。
二次电子能够产生样品表面放大的形貌像,这个像是在样品被扫描时按时序建立起来的,即使用逐点成像的方法获得放大像。
简介
扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。
扫描电镜的优点是,①有较高的放大倍数,20-20万倍之间连续可调;
②有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;
③试样制备简单。
目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪装置,这样可以同时进行显微组织性貌的观察和微区成分分析,因此它是当今十分有用的科学研究仪器
发展历史
*1873Abbe和Helmholfz分别提出解像力与照射光的波长成反比。
奠定了显微镜的理论基础。
1897Thmson发现电子
1924LouisdeBroglie(1929年诺贝尔物理奖得主)提出电子本身具有波动的物理特性,进一步提供电子显微镜的理论基础。
*1926Busch发现电子可像光线经过玻璃透镜偏折一般,电磁场的改变而偏折。
1931德国物理学家Knoll及Ruska首先发展出穿透式电子显微镜原型机。
1937首部商业原型机制造成功。
*1938第一部扫描电子显微镜VonArdenne发展成功。
1938~39穿透式电子显微镜正式上市。
1940~41RCA公司推出美国第一部穿透式电子显微镜。
*1941~63解像力提升至2~3Å
及100Å
1960EverhartandThornley发明二次电子侦测器。
1965第一部商用SEM出现研发成功
1980年中科科仪引进美国技术,开发KYKY1000扫描电镜
工作原理
扫描电子显微镜的制造依据是电子与物质的相互作用。
扫描电镜从原理上讲就是利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描,激发出各种物理信息。
通过对这些信息的接受、放大和显示成像,获得测试试样表面形貌的观察。
电子束和固体样品表面作用时的物理现象
当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。
同时可产生电子-空穴对、晶格振动。
背散射电子
背散射电子是指被固体样品原子反射回来的一部分入射电子,其中包括弹性背反射电子和非弹性背反射电子。
弹性背反射电子是指倍样品中原子和反弹回来的,散射角大于90度的那些入射电子,其能量基本上没有变化。
非弹性背反射电子是入射电子和核外电子撞击后产生非弹性散射,不仅能量变化,而且方向也发生变化。
非弹性背反射电子的能量范围很宽,从数十电子伏到数千电子伏。
从数量上看,弹性背反射电子远比非弹性背反射电子所占的份额多。
背反射电子的产生范围在100nm-1mm深度。
背反射电子产额和二次电子产额与原子序束的关系背反射电子束成像分辨率一般为50-xx年来,为适应断口实物等大零件的需要,还开发了可放置尺寸在Φ125mm以上的大样品台。
信号检测放大系统
其作用是检测样品在入射电子作用下产生的物理信号,然后经视频放大作为显像系统的调制信号。
不同的物理信号需要不同类型的检测系统,大致可分为三类:
电子检测器,应急荧光检测器和X射线检测器。
在扫描电子显微镜中最普遍使用的是电子检测器,它闪烁体,光导管和光电倍增器所组成。
当信号电子进入闪烁体时将引起电离;
当离子与自电子复合时产生可见光。
光子沿着没有吸收的光导管传送到光电倍增器进行放大并转变成电流信号输出,电流信号经视频放大器放大后就成为调制信号。
这种检测系统的特点是在很宽的信号范围内具有正比与原始信号的输出,具有很宽的频带
和高的增益(105-106),而且噪音很小。
于镜筒中的电子束和显像管中的电子束是同步扫描,荧光屏上的亮度是根据样品上被激发出来的信号强度来调制的,而检测器接收的信号强度随样品表面状况不同而变化,那么信号监测系统输出的反营养品表面状态的调制信号在图像显示和记录系统中就转换成一幅与样品表面特征一致的放大的扫描像。
主要性能参数
放大率
与普通光学显微镜不同,在SEM中,是通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。
如果需要更高的放大率,只需要扫描更小的一块面积就可以了。
放大率屏幕/照片面积除以扫描面积得到。
所以,SEM中,透镜与放大率无关。
场深
在SEM中,位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。
这一小层的厚度称为场深,通常为几纳米厚,所以,SEM可以用于纳米级样品的三维成像。
作用体积
电子束不仅仅与样品表层原子发生作用,它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用,所以存在一个作用“体积”。
作用体积的厚度因信号的不同而不同:
欧革电子:
~2纳米。
次级电子:
5λ,对于导体,λ=1纳米;
对于绝缘体,λ=10纳米。
背散射电子:
10倍于次级电子。
特征X射线:
微米级。
X射线连续谱:
略大于特征X射线,也在微米级。
工作距离
工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离。
如果增加工作距离,可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。
如果减少工作距离,则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。
通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。
成象
次级电子和背散射电子可以用于成象,但后者不如前者,所以通常使用次级电子。
表面分析
欧革电子、特征X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关,所以可以用于成分分析。
但于电子束只能穿透样品表面很浅的一层,所以只能用于表面分析。
表面分析以特征X射线分析最常用,所用到的探测器有两种:
能谱分析仪与波谱分析仪。
前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素”的存在但耗时太长。
应用范围
⑴生物:
种子、花粉、细菌……⑵医学:
血球、病毒……
⑶动物:
大肠、绒毛、细胞、纤维……
⑷材料[1]:
陶瓷、高分子、粉末、金属、金属夹杂物、环氧树脂……
⑸化学、物理、地质、冶金、矿物、污泥、机械、电机及导电性样品,如半导体(IC、线宽量测、断面、结构观察……)电子材料等。
扫描电子显微镜在新型陶瓷材料显微分析中的应用1显微结构的分析
在陶瓷的制备过程中,原始材料及其制品的显微形貌、孔隙大小、晶界和团聚程度等将决定其最后的性能。
扫描电子显微镜可以清楚地反映和记录这些微观特征,是观察分析样品微观结构方便、易行的有效方法,样品无需制备,只需直接放入样品室内即可放大观察;
同时扫描电子显微镜可以实现试样从低倍到高倍的定位分析,在样品室中的试样不仅可以沿三维空间移动,还能够根据观察需要进行空间转动,以利于使用者对感兴趣的部位进行连续、系统的观察分析。
扫描电子显微镜拍出的图像真实、清晰,并富有立体感,在新型陶瓷材料的三维显微组织形态的观察研究方面获得了广泛地应用。
于扫描电子显微镜可用多种物理信号对样品进行综合分析,并具有可以直接观察较大试样、放大倍数范围宽和景深大等特点,当陶瓷材料处于不同的外部条件和化学环境时,扫描电子显微镜在其微观结构分析研究方面同样显示出极大的优势。
主要表现为:
⑴力学加载下的微观动态研究;
⑵加热条件下的晶体合成、气化、聚合反应等研究;
⑶晶体生长机理、生长台阶、缺陷与位错的研究;
⑷成分的非均匀性、壳芯结构、包裹结构的研究;
⑸晶粒相成分在化学环境下差异性的研究等。
2纳米尺寸的研究
纳米材料是纳米科学技术最基本的组成部分,可以用物理、化学及生物学的方法制备出只有几个纳米的“颗粒”。
纳米材料的应用非常广泛,比如通常陶瓷材料具有高硬度、耐磨、抗腐蚀等优点,纳米陶瓷在一定的程度上也可增加韧性、改善脆性等,新型陶瓷纳米材料如纳米称、纳米天平等亦是重要的应用领域。
纳米材料的一切独特性主要源于它的纳米尺寸,因此必须首先确切地知道其尺寸,否则对纳米材料的研究及应用便失去了基础。
纵观当今国内外的研究状况和最新成果,该领域的检测手段和表征方法可以使用透射电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜等技术,但高分辨率的扫描电子显微镜在纳米级别材料的形貌观察和尺寸检测方面因具有简便、可操作性强的优势被大量采用。
另外如果将扫描电子显微镜与扫描隧道显微镜结合起来,还可使普通的扫描电子显微镜升级改造为超高分辨率的扫描电子显微镜。
图2所示是纳米钛酸钡陶瓷的扫描电镜照片,晶粒尺寸平均为xx年发明的。
成像原理
透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况:
吸收像:
当电子射到质量、密度大的样品时,主要的成相作用是散射作用。
样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大,通过的电子较少,像的亮度较暗。
早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。
TEM透射电镜
衍射像:
电子束被样品衍射后,样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力,当出现晶体缺陷时,缺陷部分的衍射能力与完整区域不同,从而使衍射钵的振幅分布不均匀,反映出晶体缺陷的分布。
相位像:
当样品薄至100A以下时,电子可以穿过样品,波的振幅变化可以忽略,成像来自于相位的变化。
组件
电子枪:
发射电子,阴极、栅极、阳极组成。
阴极管发射的电子通过栅极上的小孔形成射线束,经阳极电压加速后射向聚光镜,起到对电子束加速、加压的作用。
聚光镜:
将电子束聚集,可用于控制照明强度和孔径角。
样品室:
放置待观察的样品,并装有倾转台,用以改变试样的角度,还有装配加热
、冷却等设备。
物镜:
为放大率很高的短距透镜,作用是放大电子像。
物镜是决定透射电子显微镜分辨能力和成像质量的关键。
中间镜:
为可变倍的弱透镜,作用是对电子像进行二次放大。
通过调节中间镜的电流,可选择物体的像或电子衍射图来进行放大。
透射镜:
为高倍的强透镜,用来放大中间像后在荧光屏上成像。
此外还有二级真空泵来对样品室抽真空、照相装置用以记录影像。
应用
透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。
于电子易散射或被物体吸收,故穿透力低,样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量,必须制备更薄的超薄切片,通常为50~100nm。
所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。
常用的方法有:
超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。
对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。
特点
以电子束作光源,电磁场作透镜。
电子束波长与加速电压(通常50~1xx年,海因里希·
鲁道夫·
赫兹发现了光电效应,1905年,爱因斯坦解释了该现象。
两年后的1907年,Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球和照相平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系,他的实验事实上记录了人类第一条X射线光电子能谱。
其他研究者如亨利·
莫塞莱、罗林逊和罗宾逊等人则分别独立进行了多项实验,试图研究这些宽带所包含的细节内容。
XPS的研究于战争而中止,第二次世界大战后瑞典物理学家凯·
西格巴恩和他在乌普萨拉的研究小组在研发XPS设备中获得了多项重大进展,并于1954年获得了氯化钠的首条高能高分辨X射线光电子能谱,显示了XPS技术的强大潜力。
1967年之后的几年间,西格巴恩就XPS技术发表了一系列学术成果,使XPS的应用被世人所公认。
在与西格巴恩
的合作下,美国惠普公司于1969年制造了世界上首台商业单色X射线光电子能谱仪。
1981年西格巴恩获得诺贝尔物理学奖,以表彰他将XPS发展为一个重要分析技术所作出的杰出贡献。
X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱。
最近英国VG公司制成可成像的X射线光电子谱仪,称为“ESCASCOPE”,除了可以得到ES-CA谱外,还可得到ESCA像,其空间分辨率可达到10μm,被认为是表面分析技术的一项重要突破。
物理原理
XPS的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。
被光子激发出来的电子称为光电子。
可以测量光电子的能量,以光电子的动能/束缚能bindingenergy,(Eb=hv光能量-Ek动能-W功函数)为横坐标,相对强度为纵坐标可做出光电子能谱图。
从而获得试样有关信息。
系统组件
一台商业制造的XPS系统的主要组件包括:
?
X射线源
超高真空不锈钢舱室及超高真空泵?
电子收集透镜?
电子能量分析仪?
μ合金磁场屏蔽?
电子探测系统?
适度真空的样品舱室?
样品支架?
样品台
样品台操控装置
主要用途
XPS被广泛应用于分析无机化合物、合金、半导体、聚合物、元素、催化剂、玻璃、陶瓷、染料、纸、墨水、木材、化妆品、牙齿、骨骼、移植物、生物材料、油脂、胶水等。
XPS可以用来测量:
1,元素的定性分析。
可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。
2,元素的定量分析。
根据能谱图中光电子谱线强度反应原子的含量或相对浓度。
3,固体表面分析。
包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。
4,化合物的结构。
可以对内层电子结合能的化学位移精确测量,提供化学键和电荷分布方面的信息。
5,分子生物学中的应用。
Ex:
利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co。
应用举例
1.确定金属氧化物表面膜中金属原子的氧化状态;
2.鉴别表面石墨或碳化物的碳;
FTIR
傅里叶变换红外光谱仪,简称为傅里叶红外光谱仪。
它不同于色散型红外分光的原理,是基于对干涉后的红外光进行傅里叶变换的原理而开发的红外光谱仪,主
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