镀膜操作员试题库最新Word下载.docx
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12.油扩散泵上面加冷阱,其作用是(AD).
A.防止扩散油分子回流到真空室B.加快排氧速度.C防止杂物掉入扩散泵.D、提高膜层
附着力
13.为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞,故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足(B)条件
A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.R气体分子平均自由程远大于蒸发距离C气体分
子平均自由程等于蒸发距离。
D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。
14.对镀膜材料进行预熔的目的是(AC)
A、去除材料内部的杂质B、改变材料的表面形状C、减少材料的放气D、提高材料的温度
15.真空镀膜时真空度范围应在(C)
A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空
16.电子枪“FIL”灯变红,故P原因是(C)
A、电子枪高压线路故障B、真空室底下门没有关好C、电子枪灯丝有问题D、电子枪电流
回路故障。
17.提高膜层聚集密度工艺有(AD)
A、提高离子源功率以降低温度C降低真空度D、提高温度
18.黄色互补色是(B)
A、绿色日蓝色C、红色D、紫红色
19.增强膜层和镜片附着强度,以下那些因素有关(ABCD)
A、镜片表面清洁度日镜片表面温度C、真空室内清洁度D、膜层材料
20.镀650±
10IR-CUT滤色片,请问镀出在哪个波长范围内合格(B)
A、640~660nmB、640-655nmC、630-660nmD、635-660nm
21.在可见光光谱中,绿色波长范围是(D)
A600-570B500-450C630-600D570-500
22.RF离子源中和器正常工作时,需要下列哪些气体?
(AC)
冷却时需要什么气体?
A、氧气(O2)B、氮气(N2)C、僦气(Ar)D、氨气(He)
23.镀膜镜片表面产生杂质,以下哪些是可能原因?
(ABCD)
A、材料本身不纯,有杂质B、预熔时没熔透,镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边,将
其它物质镀到镜片上D、塔蜗盖板太脏,预熔时有膜料残渣掉进塔期
24.镀膜机抽速慢,以下哪些可能会引起?
A、各类泵油使用时间太长,已变质B、POLYCOL由问题C、真空室的清洁不到位D、机
器有漏气
25.真空室内部清扫不干净,可能会导致以下哪些结果?
A、机器抽速慢B、产品表面质量差C机器效率降低D、分光特性不重复
26.下列哪些因素影响内外排的均匀性?
(ABD)
A、电子枪光斑的位置Ek电子枪光斑的形状、大小C真空度不稳定D、修正板的形状
和上升高度.
27.正常情况下,真空室内部清洗干净后,机器的抽气速度将(B)
A、变慢日变快C、不变D、无法判断。
28.电子枪灯丝变形,可能有以下哪些结果?
A、电子枪光斑变形,位置打偏B、内外排分布不均匀C、分光特T不良D、产生杂质
29.在相同光斑大小和蒸发速率的情况下,AL2O3电子枪功率(A)SiO2电子枪功率
A、大于B、小于C等于D、不知道
30.下列属于镀膜机粗抽阀门符号是(C)
A、LVBSLVCRVD、SRV
30.1Torr=(BC)
A、1PaB133PaG1.33MbarD、1Mbar
31.光驰OTFC镀膜机离子源有(C)片栅极片
A、1B、2C、3D、4
.如果你镀出来一罩产品有的圈产品合格,有的圈产品不合格,与下列(ABC)因素有关
A、光斑不在中心位置B、修正板变形C、电子枪档板松掉D、蒸发速率不稳
.在镀IR-CUT时,镀出产品表面发黑,其原因是(D)
A、镀膜材料受到污染B、内外排分布不均匀C、温度没有加D、充氧不够
.下列那个符号代表高阀(C)
A、FVB、MBPCMVDDP
.下列那个符号代表光控(A)
A、OPMBEBC、MBPD、PFC
.关门抽真空,一般当真空度抽到(B)时开始自动预熔膜料
A、1.5E-3PaB5.0E-3PaC、2.0E-3PaD、5.0E-5Pa
.目前控制膜厚种类有(AC)
A、光学膜厚仪控制B、电子枪控制C、晶振膜厚仪控制D、电脑控制
.MgF2材料,我们可以采用是哪种蒸发方式:
A、电子枪蒸发B、铝舟蒸发(阻蒸法)C、都不是D、离子辅助蒸发
.正常可升降修正板的镀膜机,若EB2正在镀膜,EB1,EB2±
方的彳^正板,处于何种状态?
(BC)A、EB1上方的修正板升起B、EB2上方的修正板升起C、EB1上方的修正板下降D、EB2上方的修正板下降
.莱宝镀膜机在镀膜过程中,需要操作员工关注以下哪些情况?
A、蒸发速率稳定情况B、APC充氧情况C、电子枪光斑位置及大小情况D、光控曲线的走
向及形状.
.手动预熔材料时,应注意下列哪些事项?
A、真空室内达到一定的真空度,开始加电流预熔材料B、光斑不能打到塔蜗边上,更不
能打到塔竭外边C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流D、不同材料不同的预熔
电流43.下列哪些部件在机器运行时需要冷却水?
(BCD)
A、电子枪以扩散泵C、增土^盘D、晶振头
17.对于AR膜而言,下列哪个波段反射率偏高时,镜片的反射光呈现红色?
(D)
A、400〜420nmB、500〜530nmC、580〜620nmD、630〜760nm
18.每台机器安装修正板的目的是(C)
A、调整内外排温度分布B、调整机器内的真空度分布C、调整内外排膜厚分布H调整同
圈厚度分布.
19.如果加热板下方的温度探头移位,比正常时要低许多,结果镜片温度将会:
(B)
A、比正常时低B、比正常时高C、基本不变D、划破镜片
20.在蒸镀膜料时,电子枪电流有,但加不高的原因是(AD)
A、装电子枪灯丝螺丝松了B、电子枪灯丝寿命到期C灯丝断了D、高压引线松动
21.镀膜机中EB代表的含义(C)
A、电脑日扩散泵C、电子枪D、光斑
22.下列(B)符号代表Y方向的光斑大小
A、YPB、YSC、XPD、EB
23.下列(A)符号代表X方向的光斑位置
A、XPBXSCYPD、EB
24.以下材料折射率最高的是(C),折射率最低的是(D)
A、SIO2B、AL2O3CTIO2D、MGF2
25.晶振不好会导致以下哪些结果(AC)
A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好
26.充氧不稳会导致以下哪些结果(A)
27.光控曲线不好会导致以下哪些结果(A)
28.温度不对会导致以下哪些结果(ABD)
29.真空度不对会导致以下哪些结果(ABD)
二.填空题
.镀膜膜层厚度监控方法有晶控和光控两种。
.产品规格为77*77的晶片,镀膜一罩可以装120片,下片时由于不小心弄碎了1片,那么
该罩的碎片率为0.8%。
.目前GENERM的透亮工艺其烘烤温度是250/150/150。
.目前规定的防污板更换周期为12罩。
更换防污板空镀时要镀铭。
.光学厚度=物理厚度X折射率。
.测量真空的器械称为真空计。
一般分为电离规真空计和电阻式真空计两种。
.修正板有R记号的是枪2(填枪1或枪2)修正板。
.烘烤时间在原有基础上加长半小时,中心波长会偏长(填偏长或偏短)。
.电子枪的高压是7千伏。
.光源灯使用寿命一般为:
2000小时。
.1个标准大气压=1.01*10+5Pa。
30.按照目前工艺要求,镀膜三罩后需更换铝板和修正板的铝箔。
31.放片盒上的标示,该标示跟踪号、产品规格、材料、圈数、数量。
32.当某罩产品良品数低于40%判定为报废。
11Torr~133Pa;
1标准大气压=760Torr;
1A(安)=1000mA(毫安);
0毫米=1000S(丝)=10000^m(微米)=10000000nm(纳米)=100000000?
(埃);
.镀膜时蒸发速率的单位是?
/s;
.镀膜机的系统可分为抽真空系统、蒸发系统、膜厚控制系统和辅助系统四个系统。
.光是沿直线传播;
它是一种频率极高的电磁波;
一般可见光范围在400〜700纳米之间。
.光学低通滤波器,简称OLPF,它是使通过数码相机的或数码摄象机镜头后的光滤去其高频波段,只让一定范围内的低频光波通过频率控制器件,对于高像素的的CCD或CMOS图
象传感器,为了提高彩色CCD或CMOS图象传感器有效分辨率和彩色还原性,必须在镜头
和CCD或CMOS图象传感器之间加上光学水晶低通滤波器,使图象更清晰和稳定。
.离子辅助IAD原理:
IAD技术是在电子束蒸发的同时用离子束轰击,离子由离子源产生,离子束由栅极引出,电子枪和离子源各自独立工作。
膜层在离子的轰击作用下获得能量,使
结构得到改善。
.次品片标示卡要标示的内容有跟踪号、规格、材料、数量、膜系。
.电子枪的XS指光斑上下大小,XP指光斑上下位置,YS指光斑左右大小,YP指光斑左右位
置
.莱宝机电子枪的高压是8千伏。
.莱宝机陶瓷加热片的O形触点的方向为向下(填向上或向下)。
.莱宝机在吹水过程中,吹掉的是离子源加热系统、离子源发射系统、Sio2电子枪系统和
Tio2电子枪系统这四个部分的冷却水。
.假设曲线波长变长,那应该把修正叶加宽(填加宽或减窄)。
.当某罩产品良品数低于40%判定为报废。
.背反式光控镀膜机生产IRCUT滤色片,每层开镀时,TiO2材料的起始光控曲线方向向上,SiO2材料的光控曲线方向向下。
.新科隆机SID1350中的离子源,有3片栅极,从上到下依次为TOP,MID,BOT栅极间总共有12片陶瓷片绝缘.
.
(1)看到水中筷子是弯曲的,利用光的折射原理
(2)看到镜子里自已像,利用光的反射原理(3)光学薄膜利用光的干涉原理.
.真空可以大致分为四段,分别为初真空、低真空、高真空、超高真空^
.在真空的定义范围内,高真空度范围是10-1Pa-10-6Pa
.目前我们镀膜机抽真空系统一般由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成
.保持镀膜机开门时间尽可能的短,是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的水汽,使镀膜机的抽速变慢,影响产品的品质。
.普通加热工艺镀制的薄膜微观结构是柱状结构,为了改善膜层结构,提高聚集密度,分
别出现了三种成膜工艺离子辅助镀、反应离子镀、溅射镀
.镀单层MgF2,目前镀的是500nm,晶振厚度显示是1000A,而现在需要镀550nm,那么输入晶振厚度约为1100A
.该层晶振厚度是800A,现已镀了150A,由于某种原因充气而需要加镀,那么加镀晶振厚
度是650A
.写出镀膜机各控制阀门的中文名称:
MV高阀DP扩散泵RV粗抽阀SLV细充气阀FV
辅助阀
.光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是4.219%。
.石英晶体控制原理主要是利用了石英晶体的两个效应,即压电效应和质量负荷效应。
.晶振片和镀膜材料应放在干燥器中的目的是:
防止在空气中受潮。
.机器大清洗后应进行抽真空和加热处理,才能正常生产。
三.判断题
.扩散泵油被氧化后,仍然可以使用一段时间。
(X)
.每次开机前都需要对镀膜机进行全面检查,但换电时例外。
.对12分积分/年累计大于12分(含12分)违纪者,公司有权给予解除劳动合同(,)
.工作时间上网玩游戏,看影视剧,听耳机是可以原谅的(X)
.上片过程中,有人从球罩边上快速地走过,但没碰到片,不会对产品质量造成影响。
.有急事时,镀膜车间里可以接听手机。
.塔塌挡板装偏了会导致漏料问题。
(,)
.TiO2的充氧量过多会导致脱膜问题。
.戴手套的手指可以接触产品片的表面。
.曲线要求一样的前后两罩产品片可以混到一起,不会产生不良后果。
.自动关机时不需要考虑真空度就可以直接关机(X)
.自动关机时只要把总电源关掉就可以了(X)
.关扩散泵后等待30分钟就可以关掉设备总电源(x)
.手动开机时,打开扩散泵(DP)加热开关前先需把MV阀打开,否则会影响扩散泵抽速
.手动关机时,关闭扩散泵加热,等冷却50分钟后,需先关闭MV阀、再关罗茨泵和机械泵(X)
.在镀膜前先需核对所镀镜片与流程卡是否相符(,)
.添加SIO2膜料药勺可以拿来添加氟化镁膜料(X)
.镀膜员工可以保管不合格镜片(X)
.不合格镜片非专职人员可以随便拿取(X)
.在装韩一电子枪时,装好电子枪灯丝拧紧电子枪灯冒,但拧紧之后又要倒转1/4圈(,)
.电子枪光斑X方位置偏移不在中心时,我们只需调节XP(,)
.在相同光斑条件下,电子枪镀AL2O3电流跟MGF2电流大小差不多(X)
.镀膜机镀膜结束,不需要冷却可直接充气(X)
.每次更换晶振,除了我们换上新的晶振,还必须把晶振头也清冼干净(,)
.滤片主要材料是人造光学水晶(X).
.镀膜机冷却水的水温越低越好(X).
.换过防污板之后不烘烤就可以上片,这样可以节省时间(X).
.倒片时可以不用戴乳胶手套(X).
.换电之后扩散泵要重新预热50分钟后才能升高阀(X).
.按作业流程要求在上片之前一定要查看合同评审单,确认是否能上片(,).
.镀膜TI3O5其中一层没有充氧,这样对曲线没有影响.(X)
.换电时先关机械泵,再关预阀后关扩散泵.(X)
.镀膜净化间规定每3小时记录一次温湿度.(X)
.净化级别是千级的意思是指每立方米空间中含有0.5um的颗粒粉尘小于1000个。
.“6S'
是整理(Seiri)、整顿(Seito)、清扫(Seizo)、清洁(Seimitsu)、素养(Shitsuke)和安全(Safety)这六个词的缩写。
四.简答题
.简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策?
答:
原因对策1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件2塔锅没有
清冼干净塔锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净3镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边
缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏4预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻
5预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢,不要加的太快6.电子枪档板不干净每罩要更换电
子枪档板,以及电子枪档板要清冼干净7.膜料污染避免膜料相互污染,以及保存方法8.膜
料本身不纯更换其它品种膜料
.从操作角度来看,如何操作和保养才能让一台镀膜机的膜系稳定?
本题是员工自由发挥题目,没有明确答案,可以从以下三个方面考虑:
1、如何按照作
业指导书进行操作?
2、如何维护设备日常保养?
3、在镀膜时出现问题时,怎样去解决这些
问题?
.简述一下镀金属膜注意事项?
高的真空度、低基板温度、快蒸
.在使用扩散泵应注意那些事项?
1、冷却水不足,必须关闭扩散泵,否则轻则会造成返油,重则会使扩散泵过热造成扩
散泵油烧焦。
(机器若有自动保护装置,会自动停止扩散泵加热,并报警)2、扩散泵必须
在低真空阀关闭,预抽阀开启,且系统真空高于真空室真空时才能打开,否则会造成真空室
返油
.为什么要在高真空下镀膜?
1、真空状态下,膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。
对高熔点的氧
化物膜料,在真空状态下其熔点要低得多。
也就容易到蒸发温度而不需太高的能量。
2、真
空状态下,真空室中空气极少,膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞,即分子自由程长。
膜料容易沉积在基片上。
3、由于真空室中气体
分子少,因而氧分子、硫分子等化学活泼分子也少,高温状态的膜料分子就不会与之发生化
学变化,从而保证膜层的膜料纯度。
.晶振水堵塞后你怎么进行疏通?
把晶振冷却水管进口、出口从连接处断开,并把阀门关上,用压缩空气气枪从进口处吹
入压缩空气,看出口处是否有异物流出?
.镀膜机在自动镀膜时发生报警,而作为一名操作员工应如何处理报警?
首先按报警暂停按纽,查看报警内容,看自已是否知道?
能否自已解决?
如不能自已解决,查看作业指导书是否有,如没有向组长汇报,由组长再向技术人员询问如何解决,直到
报警内容消除后才能按继续镀膜的键。
.作为一名交班者,你个人认为应该让接班者清楚哪些事情,同时作为一个接班者你个人认为应该从前一班中清楚哪些事情?
本题是员工发挥题,可以从以下几个方面答题1、本班在上班时,生产那些产品,以及
用的什么膜系来镀膜的?
2、在本班期间出现了那些问题,用什么方法来解决的?
以及要注
意那些问题,这些都要交给下个班,也需要下个班来询问这些问题。
3、上个班有那些试制
需要下个班来完成,把被交待情况详细交给下过班。
.简述一下镀膜机的开机及关机过程。
开机冷却水和压缩空气检查开稳压电源开机器总电源加热扩散泵开电子枪电源打开光控电源开记录仪开关开晶振开关打开电脑关机:
打扫机器抽真空关扩散泵关电子枪电源关光控
电源关记录仪开关关晶振开关关电脑关总电源
.在镀膜之前为什么要预熔材料?
在镀膜之前要把材料预熔透彻,主要是为了材料进行放气,消除材料中其它成份,保持
镀膜不产生飞溅和保持真空度稳定。
.在镀膜上伞镜片之前,我们应注意和确认那些项目?
1流程卡与镀膜片相符2可否同罩3是否是被镀膜面4膜料与程序里的塔竭号是否对
应5档板的平稳,有无松动6晶片的寿命及活性值。
7电子枪寿命及有无异物8光控片是
否够用
.离子源使用结束后,机器会自动充入僦气对其冷却,冷却的目的是什么?
主要目的是快速冷却,由于僦气是不活泼性气体,很难与离子源部件发生氧化。
.机器在开镀之前我们进行恒温的目的是什么?
答、使机器内所要镀制的镜片温度均匀。
.机器镀膜结束,没有直接充入大气,而是先冷却,冷却的目的是什么?
其目的是保持镜片温度缓慢降低,防止镜片温度突然下降,导致镜片炸裂。
.如何用简单的方法检验刚换好的氧气或僦气瓶各联结处是否漏气?
1、先打开瓶阀,在一个小塑料盒子盛入一些洗衣粉(或洗涤精)和水,搅拌成泡沫,
用纱布把这些泡沫攒到各个联结处,看是否有小汽泡冒出,如有说明该联结处有漏气。
2、
先打开瓶阀,之后再关掉,看各表指针读数是否变化。
.如果晶振速率突然不稳你该怎么处理?
如果是晶振控制的可以按照不稳时间和电流估计出实际所蒸镀的厚度,之后换一片晶振
加镀;
如果是光控控制的可以以光控为准换一片晶振继续蒸镀。
.作为一名镀膜员工,为了把工作做得更好,你想学习镀膜工艺技术中哪些方面的知识?
.请列举一下,你认为镀膜员工容易出现的错误有哪些?
有什么好的预防和补救措施?
.扩散泵的结构如下图所示,请标示出个部分名称,并说明其作用。
1)冷阱:
帮助油蒸汽冷却回流,避免油分子进入到真空腔室内
2)泵体冷却水管:
帮助油蒸汽冷却回流,冷却泵体,
3)三级喷嘴:
通过喷嘴,让高速向上的油蒸汽转变方向,形成向下的蒸汽流带动水分子向下流动达到抽取真空的目的。
4)挡油板:
防止油蒸汽被抽走,有冷却油蒸汽的作用,让抽到此处的油蒸汽回流。
5)加热电炉丝:
给扩散泵油加温,使之能达到较高的温度。
获得高速向上的油蒸汽。
.写出镀膜过程应注意哪些参数变化?
镀膜过程中应注意真空度是否稳定、光量走值是否平滑无波动、蒸发速率稳定在设定范围内、电子枪能量是否稳定、离子源的各参数变化。
.写出更换防污板和上下片过程中的注意事项。
更换防污板时要注意:
当前罩数镀制到后几层时,由操作人员或副操作电话到辅助房要
求准备防污板,把准备好的防污板用酒精擦拭干净,清点数量是否有少拿或多拿的现象。
等
待镀完。
镀完后开始更换防污板,换板过程中要注意拆卸时由外到里、由下至上,安装时由
里到外、由上至下的顺序。
这样可以减少动作的重复和减少灰尘的残留。
换完污板后要检查
各污板是否安装到位、是否有螺丝松动、是否有错装或漏装等现象。
防止因此导致的生产事故。
上下片注意事项:
当机器镀制完最后一层后,准备该罩需更换的各部件(比如灯丝、光控片、晶振片、视窗玻璃等)。
电话准备下一罩产品,及时获得将镀制产品的信息。
将下片推车准备好等待开箱。
打开箱门后,将推车摇至所需高度(注意一定要升降到位,避免撞到机器内
部各部件),将装片球罩卸下,开始清洁机器内部卫生和将产品取出(注意由于刚下片时温度较高,所以要戴上手套等防止烫伤。
还要及时测试产品的曲线变化)。
清洁完毕,检查各
部件是否安装更换到位。
然后开始上片(上片前应确认该产品生产批号及规格要求是否与上罩相符,如异常应及时通知当班值机人员做好调整准备)。
上片过程中应注意轻拿轻放,注
意人员走动,注意不应有幅度过大的行为动作。
将产品放入机器后再次确认机器设备的状态,确认无误后关箱开始抽真空。
.请写出镀膜机从关箱到获得高真空状态的抽真空作业流程,要求写明步骤和注意事项,可用流程图表示。
(假设机器准备工作都已经完成)(8分)
自动状态按下“真空室抽气”键一一预阀关闭一一微量抽气阀打开一一低阀打开一一微量抽气阀关闭一一等待抽至低真空状态一一关闭低阀一一打开预阀一一打开高阀一一获得较高真空
手动状态按下“机械泵(RP)”此过程罗茨泵(MBP)等待30秒一一按下罗茨泵(MBP)一一关闭预阀(FV)此过程必须在开启低阀前完成,量则会导致返油现象一一按下微量抽气阀
(SRS——按下低阀(RV)——关闭微量抽气阀(SRS等待真空度达到所需真空(如6.0*10-1PA)——关闭低阀(RV)——打开预阀(FV)——打开高阀(MV)获得所需的高真空。
在整个抽真空过程中,切记勿错误操作,必须按照此流程进行作业。
.请简述镀膜光弛机开、关机作业指导书。
开机
1、开机前确认:
开机前先确认冷却水压力O0.2MPA)和温度(V25C)、压缩空气压力(0.5MPA)、电压(200V±
15%)是否正常,正常后打开机器总电源开关;
然后再依次打开电子枪控制柜电源和POLYCOLD勺电源。
2、打开机器总电源后
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