扫描电子显微镜Word格式.docx
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非弹性背反射电子是入射电子和核外电子撞击后产生非弹性散射,不仅能量变化,而且方向也发生变化。
非弹性背反射电子的能量范围很宽,从数十电子伏到数千电子伏。
从数量上看,弹性背反射电子远比非弹性背反射电子所占的份额多。
背反射电子的产生范围在100nm-1mm深度。
背反射电子产额和二次电子产额与原子序束的关系背反射电子束成像分辨率一般为50-200nm(与电子束斑直径相当)。
背反射电子的产额随原子序数的增加而增加(右图),所以,利用背反射电子作为成像信号不仅能分析新貌特征,也可以用来显示原子序数衬度,定性进行成分分析。
二次电子
二次电子是指背入射电子轰击出来的核外电子。
由于原子核和外层价电子间的结合能很小,当原子的核外电子从入射电子获得了大于相应的结合能的能量后,可脱离原子成为自由电子。
如果这种散射过程发生在比较接近样品表层处,那些能量大于材料逸出功的自由电子可从样品表面逸出,变成真空中的自由电子,即二次电子。
二次电子来自表面5-10nm的区域,能量为0-50eV。
它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。
由于它发自试样表层,入射电子还没有被多次反射,因此产生二次电子的面积与入射电子的照射面积没有多大区别,所以二次电子的分辨率较高,一般可达到5-10nm。
扫描电镜的分辨率一般就是二次电子分辨率。
二次电子产额随原子序数的变化不大,它主要取决与表面形貌。
特征X射线
特征X射线试原子的内层电子受到激发以后在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。
X射线一般在试样的500nm-5mm深处发出。
俄歇电子
如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来的能量不是以X射线的形式释放而是用该能量将核外另一电子打出,脱离原子变为二次电子,这种二次电子叫做俄歇电子。
因每一种原子都由自己特定的壳层能量,所以它们的俄歇电子能量也各有特征值,能量在50-1500eV范围内。
俄歇电子是由试样表面极有限的几个原子层中发出的,这说明俄歇电子信号适用与表层化学成分分析。
产生的次级电子的多少与电子束入射角有关,也就是说与样品的表面结构有关,次级电子由探测体收集,并在那里被闪烁器转变为光信号,再经光电倍增管和放大器转变为电信号来控制荧光屏上电子束的强度,显示出与电子束同步的扫描图像。
图像为立体形象,反映了标本的表面结构。
为了使标本表面发射出次级电子,标本在固定、脱水后,要喷涂上一层重金属微粒,重金属在电子束的轰击下发出次级电子信号。
原则上讲,利用电子和物质的相互作用,可以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息,如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。
具体功能用途归纳如下:
1、扫描电镜追求固体物质高分辨的形貌,形态图像(二次电子探测器SEI)-形貌分析(表面几何形态,形状,尺寸)
2、显示化学成分的空间变化,基于化学成分的相鉴定---化学成分像分布,微区化学成分分析
1)用x射线能谱仪或波谱(EDSorWDS)采集特征x射线信号,生成与样品形貌相对应的,元素面分布图或者进行定点化学成分定性定量分析,相鉴定。
2)利用背散射电子BSE)基于平均原子序数(一般和相对密度相关)反差,生成化学成分相的分布图像;
3)利用阴极荧光,基于某些痕量元素(如过渡金属元素,稀土元素等)受电子束激发的光强反差,生成的痕量元素分布图像。
4)利用样品电流,基于平均原子序数反差,生成的化学成分相的分布图像,该图像与背散射电子图像亮暗相反。
5)利用俄歇电子,对样品物质表面1nm表层进行化学元素分布的定性定理分析,
扫描电子显微镜正是根据上述不同信息产生的机理,采用不同的信息检测器,使选择检测得以实现。
如对二次电子、背散射电子的采集,可得到有关物质微观形貌的信息;
对x射线的采集,可得到物质化学成分的信息。
正因如此,根据不同需求,可制造出功能配置不同的扫描电子显微镜。
利用电镜的透射或散射电子进行其它功能的分析,可以得到材料的其它一些信息。
主要有:
成分分析、晶体结构分析、粒度分析、阴极发光观察
二、样品制备:
SEM生物样品制备:
扫描电镜观察时要求样品必需干燥,并且表面能够导电。
因此,在进行扫描电镜微生物样品制备时一般都需采用清洗、固定、脱水、干燥及表面镀金等处理步骤。
生物样品的制备中,干燥是最关键的步骤。
干燥过程除引起样品收缩之外,水的表面张力会使样品表面形貌发生很大的变化,这对扫描电镜的表面形貌观察特别有害。
目前常用的干燥方法主要有空气干燥法、临界点干燥法、冰冻干燥法、真空干燥法和莰烯干燥法等。
空气干燥法又称自然干燥法,就是将经过脱水的样品,让其暴露在空气中使脱水剂逐渐挥发干燥。
此法的最大优点是简单易行和节省时间,它的致命缺点是在干燥过程中,组织会因脱水剂挥发时表面张力的作用而产生收缩变形。
因此,此种方法一般只适用于外壳(表面)较为坚硬的样品。
在采用空气干燥时,为了减少样品的收缩变形,除使用易挥发和表面张力小的脱水剂如乙醇、丙酮等外,还应使样品得到充分固定,特别是须经四氧化锇固定效果才较好。
因为它会使组织变得较为坚硬,使收缩变形减少。
临界点干燥法是一种消除了物相界面(液相/气相),也就是消除了表面张力来源的干燥方法。
这种方法由于没有表面张力的影响,所以样品不易收缩和损伤,此法所用的仪器结构不甚复杂,操作较为方便,所用的时间也不算长,一般约2h左右即可完成,所以,是最为常用的方法。
所谓临界点,就是指使物质的气态和液态两相之间达到相同密度,成为均一流体状态时的温度和压力的总称。
此时的温度称临界温度;
此时的压力称临界压力。
不同的物质都有其特定的临界点。
冰冻干燥是将经冰冻的样品置于高真空中通过升华,除去样品中的水分或脱水剂的过程。
冰冻干燥的基础是冰(或固态溶剂)从样品中升华,也就是使水分从固态直接转化为气态,不经过中间的液态,不存在气相和液相之间的表面张力对样品的作用,因此,能较好地避免或减少了在干燥过程中对样品的损伤。
冰冻干燥方法有两种,即含水样品直接冰冻干燥和样品脱水后从有机溶剂中冰冻干燥。
茨烯干燥法,莰烯是一种樟脑类无色结晶体,能溶于醚、环乙烷、环己烯和氯仿中,室温下呈固体状,能在较低的温度下升华,从固态直接变成气态,表面张力小,故经它干燥的样品较松软,变形小,操作也较简便。
d、样品的表面导电处理
金属镀膜法是采用特殊装置将电阻率小的金属,如金、铂、钯、银及碳等蒸发后覆盖在样品表面的方法。
样品镀以金属膜(或碳膜)后,不仅能为入射电子提供通路,消除电荷积累的荷电现象,而且能提高二次电子发射率,增加倍噪比,提高图像反差,以便能获得细节丰富和分辩率高的图像。
其次,样品经镀膜后,还能提高样品表面的机械强度,增强耐受电子束轰击能力,避免起泡、龟裂、穿孔、分解和漂移等不良现象的产生:
此外,通过镀膜能把扫描电镜的信息来源限定于样品表面,即防止来自组织内部的信息参与成像。
真空镀膜法是利用真空镀膜仪进行的。
其原理是在高真空状态下(10-3Pa),使某些金属物质加热到熔点以上时,蒸发成极细小的颗粒喷射到样品上,由于金属的沉积使样品表面形成一层薄金属膜。
真空镀膜法所得的膜,金属颗粒较粗,膜不够均匀,操作较复杂并且费时,因此目前已经较少使用。
真空蒸发仪主要用于制造碳膜、碳复型膜和金属投影。
离子溅射镀膜法:
在低真空中进行辉光放电时,由于离子冲击,阴极金属物质有飞溅现象称为溅射。
利用离子溅射仪对样品进行金属镀膜的方法,称为溅射镀膜法。
图10一4就是这种镀膜法的原理示意图。
这种装置很简单,主要由真空部分(真空泵)和溅射部分(真空罩)组成,在真空罩内装有阴极和阳极,阴极对着阳极的一面装有用于溅射用的金属靶(黄金靶、铂靶、白金靶或钯靶等),样品放在阳极的样品座上面。
当真空罩内的真空度抽到10~1Pa时,在阴极与阳极之间加上1000~3000V的直流电压,两极之间产生弧光放电的电场。
在电场的作用下,罩内残余的气体分子被电离为正离子和电子,正离子被阴极吸引轰击金属靶,激发出金属颗粒和电子,并被阳极吸引附着在样品表面而形成金属导电膜。
组织导电法是利用某些金属盐溶液对生物体中的蛋白质、脂肪类及淀粉等成分的结合作用,使样品表面离子化或产生导电性能好的金属化合物,从而提高样品耐受电子束轰击的能力和导电率。
这种方法近年来国内外均有不少报道。
3、仪器结构
扫描电子显微镜具有由三极电子枪发出的电子束经栅极静电聚焦后成为直径为50mm的电光源。
在2-30KV的加速电压下,经过2-3个电磁透镜所组成的电子光学系统,电子束会聚成孔径角较小,束斑为5-10mm的电子束,并在试样表面聚焦。
末级透镜上边装有扫描线圈,在它的作用下,电子束在试样表面扫描。
高能电子束与样品物质相互作用产生二次电子,背反射电子,X射线等信号。
这些信号分别被不同的接收器接收,经放大后用来调制荧光屏的亮度。
由于经过扫描线圈上的电流与显象管相应偏转线圈上的电流同步,因此,试样表面任意点发射的信号与显象管荧光屏上相应的亮点一一对应。
也就是说,电子束打到试样上一点时,在荧光屏上就有一亮点与之对应,其亮度与激发后的电子能量成正比。
换言之,扫描电镜是采用逐点成像的图像分解法进行的。
光点成像的顺序是从左上方开始到右下方,直到最後一行右下方的像元扫描完毕就算完成一帧图像。
这种扫描方式叫做光栅扫描。
扫描电子显微镜由电子光学系统,信号收集及显示系统,真空系统及电源系统组成。
1.真空系统和电源系统
真空系统主要包括真空泵和真空柱两部分。
真空柱是一个密封的柱形容器。
真空泵用来在真空柱内产生真空。
有机械泵、油扩散泵以及涡轮分子泵三大类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置钨枪的SEM的真空要求,但对于装置了场致发射枪或六硼化镧枪的SEM,则需要机械泵加涡轮分子泵的组合。
成像系统和电子束系统均内置在真空柱中。
真空柱底端即为右图所示的密封室,用于放置样品。
之所以要用真空,主要基于以下两点原因:
电子束系统中的灯丝在普通大气中会迅速氧化而失效,所以除了在使用SEM时需要用真空以外,平时还需要以纯氮气或惰性气体充满整个真空柱。
为了增大电子的平均自由程,从而使得用于成像的电子更多。
2.电子光学系统
电子光学系统由电子枪,电磁透镜,扫描线圈和样品室等部件组成。
其作用是用来获得扫描电子束,作为产生物理信号的激发源。
为了获得较高的信号强度和图像分辨率,扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径。
<
1>
电子枪
其作用是利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能量的电子束。
目前大多数扫描电镜采用热阴极电子枪。
其优点是灯丝价格较便宜,对真空度要求不高,缺点是钨丝热电子发射效率低,发射源直径较大,即使经过二级或三级聚光镜,在样品表面上的电子束斑直径也在5-7nm,因此仪器分辨率受到限制。
现在,高等级扫描电镜采用六硼化镧(LaB6)或场发射电子枪,使二次电子像的分辨率达到2nm。
但这种电子枪要求很高的真空度。
2>
电磁透镜
其作用主要是把电子枪的束斑逐渐缩小,是原来直径约为50mm的束斑缩小成一个只有数nm的细小束斑。
其工作原理与透射电镜中的电磁透镜相同。
扫描电镜一般有三个聚光镜,前两个透镜是强透镜,用来缩小电子束光斑尺寸。
第三个聚光镜是弱透镜,具有较长的焦距,在该透镜下方放置样品可避免磁场对二次电子轨迹的干扰。
3>
扫描线圈
其作用是提供入射电子束在样品表面上以及阴极射线管内电子束在荧光屏上的同步扫描信号。
改变入射电子束在样品表面扫描振幅,以获得所需放大倍率的扫描像。
扫描线圈试扫描点晶的一个重要组件,它一般放在最后二透镜之间,也有的放在末级透镜的空间内。
4>
样品室
样品室中主要部件是样品台。
它出能进行三维空间的移动,还能倾斜和转动,样品台移动范围一般可达40毫米,倾斜范围至少在50度左右,转动360度。
样品室中还要安置各种型号检测器。
信号的收集效率和相应检测器的安放位置有很大关系。
样品台还可以带有多种附件,例如样品在样品台上加热,冷却或拉伸,可进行动态观察。
近年来,为适应断口实物等大零件的需要,还开发了可放置尺寸在Φ125mm以上的大样品台。
3.信号检测放大系统
其作用是检测样品在入射电子作用下产生的物理信号,然后经视频放大作为显像系统的调制信号。
不同的物理信号需要不同类型的检测系统,大致可分为三类:
电子检测器,应急荧光检测器和X射线检测器。
在扫描电子显微镜中最普遍使用的是电子检测器,它由闪烁体,光导管和光电倍增器所组成。
当信号电子进入闪烁体时将引起电离;
当离子与自由电子复合时产生可见光。
光子沿着没有吸收的光导管传送到光电倍增器进行放大并转变成电流信号输出,电流信号经视频放大器放大后就成为调制信号。
这种检测系统的特点是在很宽的信号范围内具有正比与原始信号的输出,具有很宽的频带(10Hz-1MHz)和高的增益(105-106),而且噪音很小。
由于镜筒中的电子束和显像管中的电子束是同步扫描,荧光屏上的亮度是根据样品上被激发出来的信号强度来调制的,而由检测器接收的信号强度随样品表面状况不同而变化,那么由信号监测系统输出的反营养品表面状态的调制信号在图像显示和记录系统中就转换成一幅与样品表面特征一致的放大的扫描像。
4、主要性能参数与SEM结果图
1.放大率
与普通光学显微镜不同,在SEM中,是通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。
如果需要更高的放大率,只需要扫描更小的一块面积就可以了。
放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到。
所以,SEM中,透镜与放大率无关。
2.场深
在SEM中,位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。
这一小层的厚度称为场深,通常为几纳米厚,所以,SEM可以用于纳米级样品的三维成像。
3.作用体积
电子束不仅仅与样品表层原子发生作用,它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用,所以存在一个作用“体积”。
作用体积的厚度因信号的不同而不同:
欧革电子:
0.5~2纳米。
次级电子:
5λ,对于导体,λ=1纳米;
对于绝缘体,λ=10纳米。
背散射电子:
10倍于次级电子。
特征X射线:
微米级。
X射线连续谱:
略大于特征X射线,也在微米级。
4.工作距离
工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离。
如果增加工作距离,可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。
如果减少工作距离,则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。
通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。
5.成象
次级电子和背散射电子可以用于成象,但后者不如前者,所以通常使用次级电子。
6.表面分析
欧革电子、特征X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关,所以可以用于成分分析。
但由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层(参见作用体积),所以只能用于表面分析。
表面分析以特征X射线分析(EDS)最常用,所用到的探测器有两种:
能谱分析仪与波谱分析仪。
前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素”的存在但耗时太长。
长度标尺,放大倍数(Mag),工作电压(EHT),工作距离(WD)、二次电子(SE)
5、SEM与TEM区别
1、分析信号
(1)扫描电镜
扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的相互作用。
当一束高能的入射电子轰击物质表面时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。
同时,也可产生电子-空穴对、晶格振动(声子)、电子振荡(等离子体)。
对X射线的采集,可得到物质化学成分的信息。
(2)透射电镜
根据德布罗意(DeBroglie,20世纪法国科学家)提出的运动的微观粒子具有波粒二象性的观点,电子束流也具有波动性,而且电子波的波长比可见光要短得多(例如200千伏加速电压下电子波波长为0.00251纳米),显然,如果用电子束作光源制成的显微镜将具有比光学显微镜高得多的分辨能力。
更重要的是,由于电子在电场中会受到电场力运动,以及运动的电子在磁场中会受到洛伦兹力的作用而发生偏转,这使得使用科学手段使电子束聚焦和成像成为可能。
2、结构
(1)扫描电镜
1.镜筒
镜筒包括电子枪、聚光镜、物镜及扫描系统。
其作用是产生很细的电子束(直径约几个nm),并且使该电子束在样品表面扫描,同时激发出各种信号。
2.电子信号的收集与处理系统
在样品室中,扫描电子束与样品发生相互作用后产生多种信号,其中包括二次电子、背散射电子、X射线、吸收电子、俄歇(Auger)电子等。
在上述信号中,最主要的是二次电子,它是被入射电子所激发出来的样品原子中的外层电子,产生于样品表面以下几nm至几十nm的区域,其产生率主要取决于样品的形貌和成分。
通常所说的扫描电镜像指的就是二次电子像,它是研究样品表面形貌的最有用的电子信号。
检测二次电子的检测器的探头是一个闪烁体,当电子打到闪烁体上时,就在其中产生光,这种光被光导管传送到光电倍增管,光信号即被转变成电流信号,再经前置放大及视频放大,电流信号转变成电压信号,最后被送到显像管的栅极。
3.电子信号的显示与记录系统
扫描电镜的图象显示在阴极射线管(显像管)上,并由照相机拍照记录。
显像管有两个,一个用来观察,分辨率较低,是长余辉的管子;
另一个用来照相记录,分辨率较高,是短余辉的管子
4.真空系统及电源系统
扫描电镜的真空系统由机械泵与油扩散泵组成,其作用是使镜筒内达到10的真空度。
电源系统供给各部件所需的特定的电源。
1.电子光学部分
整个电子光学部分完全置于镜筒之内,自上而下顺序排列着电子枪、聚光镜、样品室、
物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏、照相机构等装置。
根据这些装置的功能不同又可将电子光学部分分为照明系统、样品室、成像系统及图像观察和记录系统。
(1)照明系统
照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中及倾斜调节装置组成。
它的作用是为成像系统提供一束亮度高、相干性好的照明光源。
为满足暗场成像的需要照明电子束可在2-3度范围内倾斜。
①电子枪
它由阴极、栅极和阳极构成。
在真空中通电加热后使从阴极发射的电子获得较高的动能形成定向高速电子流。
②聚光镜
聚光镜的作用是会聚从电子枪发射出来的电子束,控制照明孔径角、电流密度和光斑尺寸。
(2)样品室
样品室中有样品杆、样品杯及样品台。
(3)成像系统
成像系统一般由物镜、中间镜和投影镜组成。
物镜的分辨本领决定了电镜的分辨本领,中间镜和投影镜的作用是将来自物镜的图像进一步放大。
(4)图像观察与记录系统
该系统由荧光屏、照相机、数据显示等组成。
2.真空系统
真空系统由机械泵、油扩散泵、换向阀门、真空测量仪奉及真空管道组成。
它的作用是排除镜筒内气体,使镜筒真空度至少要在
托以上。
如果真空度低的话,电子与气体分子之间的碰撞引起散射而影响衬度,还会使电子栅极与阳极间高压电离导致极间放电,残余的气体还会腐蚀灯丝,污染样品。
3.供电控制系统
加速电压和透镜磁电流不稳定将会产生严重的色差及降低电镜的分辨本领,所以加速电压和透镜电流的稳定度是衡量电镜性能好坏的一个重要标准。
透射电镜的电路主要由高压直流电源、透镜励磁电源、偏转器线圈电源、电子枪灯丝加热电源,以及真空系统控制电路、真空泵电源、照相驱动装置及自动曝光电路等部分组成。
另外,许多高性能的电镜上还装备有扫描附件、能谱议、电子能量损失谱等仪器
。
三、功能
1)用x射线能谱仪或波谱(EDSorWDS)采集特征X射线信号,生成与样品形貌相对应的,元素面分布图或者进行定点化学成分定性定量分析,相鉴定。
2)利用背散射电子(BSE)基于平均原子序数(一般和相对密度相关)反差,生成化学成分相的分布图像;
3)利用阴极荧光,基于某些痕量元素(如过渡金属元素,稀土元素等)受电子束激发的光强反差,生成的痕量元素分布图像。
4)利用样品电流,基于平均原子序数反差,生成的化学成分相的分布图像,该图像与背散射电子图像亮暗相反。
5)利用俄歇电子,对样品物质表面1nm表层进行化学元素分布的定性定理分析。
3、在半导体器件(IC)研究中的特殊应用:
1)利用电子束感生电流EBIC进行成像,可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究
2)利用样品电流成像,结果可显示电路中金属层的开、短路,因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。
3)利用二次电子电位反差像,反映了样品表面的电位,从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况,特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。
4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式),晶体取向分布分析,基于晶体结构的相鉴定。
早期的透射电子显微镜功能主要是观察样品形貌,后来发展到可以通过电子衍射原位分析样品的晶体结构。
具有能将形貌和晶
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