微电子元器件的金相制备Word文档下载推荐.docx

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另外，金相分析还作为不同工序的产品的现场检测方法。

由于这些元件体积很小，为了保证金相试样制备与观察的精度，要求采用专用制备技术和工具。

金相制备过程中面临的难题

制备微电子元器件用于金相检测时，需面临的主要难题就是小试样的几何特性。

集成电路体积小、结构复杂、为制备工作带来最严峻的挑战。

制备过程中需考虑到其三维属性，要想获得具有代表性的试样，必须花费时间、耐心以及保证精度。

以下所述为微电子元器件制备过程中一些常见的难题：

切割：

晶片、玻璃和陶瓷的切碎与断裂

镶样：

机械变形与热损伤

研磨：

玻璃纤维或陶瓷等脆性组件的断裂（图4）

抛光：

软金属层的拖尾。

元器件材料硬度差异导致浮凸（图5）。

碳化硅和金刚砂微粒遗留在焊料中（图6）。

解决方案：

采用专用工具和自动设备对目标进行快速切割、研磨和抛光。

采用冷镶法。

在刚性磨盘上用金刚砂和硬抛光布进行精磨和抛光。

微电子元器件的生产过程和应用

芯片化元器件的生产工艺非常复杂，从新型元器件的设计到最终产品的生产，需要多个专业生产厂家交叉参与。

以下对芯片化元器件的基本生产工序作简要描述：

设计

当电子设备制造商决定生产新产品时，需要使用各种微电子元器件来实现设备的各种功能与特性。

芯片设计是新型元器件的生产内容之一，其中还涉及封装的设计选型。

对于元器件的设计，制造商既可内部负责解决，也可向专业设计所或芯片生产厂家外购。

原型制作

为检验新型元器件是否具备所需性能，通常会生产大量原型并对其进行测试。

在这一阶段，金相分析扮演着一个重要的角色，有大量横断面必须采用金相分析法进行处理与评估。

金相检测既可由设备制造商进行，也可交给芯片制造商或封装公司完成。

芯片生产

芯片生产将根据芯片设计由芯片制造商完成。

芯片母材为一块从单晶体（常为硅晶体）上切割下来的晶片。

封装

芯片必须经过电子元器件的互连和组装才能工作。

这些互连的设计与制造过程就称为封装。

制造过程结束后，引线、焊球、导电层的连接点全部用塑料或陶瓷覆盖。

晶片被切割成单片并采用不同的方法进行封装（图7）。

互连技术主要有两种：

引线键合和球栅阵列（BGA）。

紧密性要求较高时，可采用倒装芯片技术、直接将芯片与PCB互连。

测试

在这一制造阶段，批量生产质量将通过热循环测试加以控制。

这是寻找故障元器件的最后一项测试。

应用

微电子元器件可广泛应用于通信产品、数据处理产品和消费品等多个领域。

一辆汽车可能就包含多达150个电子计算机装置。

但是，微电子元器件的应用正日益扩展到非传统领域。

新的应用领域层出不穷，如超级市场货品自动扫描设备，每件产品上均使用了超薄柔性芯片。

微电子元器件的金相制备中面临的难题

观察给定试样的某一特定区域是进行金相检测的主要要求之一。

用手工方式“边磨边看”，直到目标出现，然后抛光，这种技术是非常费时的。

在失效分析中，丢失目标常常意味着唯一试样和贵重试样的丢失。

在微电子元器件中，特性迥异的各类材料被封装在一起：

玻璃、陶瓷、金属和聚合物（图8）。

这些材料的各种组合要求制备方法需满足：

能够呈现这些材料的个体特征，但不产生金属和聚合物的拖尾或玻璃或陶瓷的损伤等任何人为缺陷。

这一点特别重要，因为微电子元器件检验中涉及各类评估，评估期间制样产生的人为缺陷可能导致错误的评估结果。

评估需要对下列若干项目进行检查：

孔洞、夹杂物和裂缝等缺陷的尺寸和分布（图9）。

材料与其连接面的粘合和键合程度。

封装中不同部件的尺寸和外形：

层厚、引线和焊点的弯液面。

陶瓷孔隙率和裂缝。

平整度和边角保护特别重要，因为各种材料间的间隔层极薄，必须高倍放大进行检测（图10a和b）。

推荐方案

微电子元器件的大部分金相检测均在横断面上进行，在此提到的各种制样步骤也是针对横断面进行的。

但是，某些特殊项目的检验也需要在纵剖面上进行，在此提到的大多数推荐方案对纵剖面的检测也同样有效。

如上所述，微电子元器件横断面检查的主要目的之一是呈现元器件中的某一特定目标区域的状态。

在切割和研磨过程中切削材料时应十分谨慎，。

切割和研磨有若干种技术可供选择，下文将介绍几种手动、半自动和自动的方法。

自动化程度越高、发现检测目标的成功率也就越高。

根据需研究的试样类型，可选择不同的精密切割机完成切割。

例如，移动电话或贴装有元器件的电路板可以在中型切割机上轻松切割出横断面，就像Secotom-1/10那样，操作员可以通过切割砂轮进行手动切割。

建议使用电镀金刚砂轮切割塑料（433CA）或使用树脂粘结金刚砂轮（352CA或452CA）。

分割单体、小型或易碎元器件且精度要求较高时，推荐使用Accutom-5/50。

根据元器件或组件的尺寸或易碎程度，切割前必须将部件或元器件镶固，避免造成机械损伤。

在任何情况下，切口均应与实际观察区域保持足够远的距离，避免直接损失观察区域。

横断面切割完成后，应小心地将剩余材料磨掉。

初始工序越谨慎，陶瓷、芯片和玻璃发生裂缝或材料层或焊点发生剥离的可能性就越小。

由于微电子元器件有组合性和易碎性的特点，不适于采用热压镶样法，因此必须采用冷镶样法。

不推荐使用固化温度较高的冷镶样树脂，因为固化产生的热量会影响焊料和聚合物，快干树脂的高收缩性会导致硅晶体开裂。

采用的分析方法不同，镶样方法也不同。

光学显微镜观察采用常规的镶样，使用透明的环氧树脂（EpoFix、SpeciFix-20）。

如果需要填充孔洞，建议采用真空浸渍法。

在光学显微镜中使用宽带蓝色滤光片和窄带橙色滤光片观察时，将荧光染料（EpoDye）与环氧树脂混合在一起，可以产生很好的空洞和裂缝衬度。

对于很小的导孔，建议采用低粘度透明树脂，便于顺利流入孔洞中（ViaFix）。

采用司特尔公司的Target-System时，元器件可直接镶嵌在用于目标制备的专用试样座上。

研磨与抛光

根据元器件大小和制备试样的数量，可选择手动、半自动或全自动研磨与抛光方法制备纵剖面和横断面。

用粗磨料进行平面研磨可能损伤脆性材料并导致软金属发生严重变形（见图4），因此，作为规定，请勿使用这种研磨方法。

为了获得良好的平整度，建议用金刚砂在刚性磨盘（MD-Large）上精磨，代替碳化硅砂纸研磨法。

随后在丝织物上进行金刚砂抛光可起到很好的平整度保持作用。

如果软金属内含磨粒，则应延长金刚砂抛光时间，直到这些微粒被彻底去除为止。

用胶态氧化硅（OP-U）进行终抛光的时间应短，以免产生浮凸现象。

手动和半自动的目标制备

在非封装晶片和晶片组件的手动制备中，Tripod是一种配合手动“边磨边看”方法的有效工具。

如采用这种方法，粒径在30微米到0.05微米的研磨膜被固定在玻璃板上，试样研磨和抛光以手动方式完成。

用碳化硅砂纸以手动和半自动方式进行受控材料磨削和目标制备时，Accustop和Accustop-T可作为已镶和未镶嵌电子元器件的专用试样座。

Accustop-T的倾斜功能可将多个目标同时研磨，如一排焊球，使这些目标一次性研磨至同一平面。

用Accustop将几个试样手动或半自动研磨至距离目标约50微米的位置时，将试样从Accustop中取下并移至半自动设备上作为单体试样进行精磨和抛光。

表1所示为单体试样在TegraPol/TegraForce进行半自动精磨和抛光的制备方法。

自动目标制备

进行自动控制材料去除和制备时，司特尔的TargetSystem能够在制备前进行试样对准和测量。

已镶和未镶试样的横断面和纵剖面经过研磨抛光后，能够将可见和未显现的目标一起呈现出来。

激光测量系统保证准确度为±

5微米，在制备过程中自动复算磨削程度。

带有可见目标的试样采用视频设备进行对准和测量（图11和图13），带有未显现目标的试样采用X-光设备进行对准和测量（图12）。

然后，TargetSystem可预先计算磨削量并在距离最终目标平面约35微米时自动停止平面研磨作业。

试样通过精磨后被研磨至距离目标约15微米的距离，然后通过两道抛光工序将残余材料去除并达到试样测定目标平面（图14）。

整个制备过程，包括切割在内，大约需要45到60分钟。

表2所示为微电子元器件自动目标制备的数据。

蚀刻

元器件中各种材料的反射光的差异通常可提供足够的衬度，因此不再需要进行蚀刻。

用胶态氧化硅进行终抛光后，对焊点和铜再进行轻度浸蚀。

用OP-S悬浮液，而不是用侵蚀性较弱的OP-U悬浮液进行终抛光时尤为如此。

在OP-S悬浮液中添加少量过氧化氢（3%），即可将侵蚀程度提高到足以呈现试样结构的程度。

如果OP-S抛光时间超过30秒，会立即发生过蚀刻。

建议在30秒后检查试样，然后根据需要逐步延长抛光时间。

铜和铜合金用蚀刻剂：

25毫升水25毫升氢氧化铵0.5-10毫升过氧化氢（3%）

微电子元器件中的典型微观结构示例

采用不同的照明技术，也能增大结构衬度。

暗视场有助于发现陶瓷中的裂缝；

微分相衬和偏振光也可提高特定材料结构的衬度或色度，有助于更好地进行结构分析。

结语

集成电路技术的发展，为电子设备微型化奠定了基础，降低了单体电子元器件作为电子电路积木式部件的需求量。

金相分析在芯片化元器件的设计、开发和失效分析中扮演着至关重要的角色。

微电子元器件横断面金相制备非常费时，需要耐心和技巧才能研磨和抛光到元器件中的某一特定目标。

另外，设备和元器件所使用的金属、玻璃和陶瓷等不同材料的特征各异，增大了制备难度。

各种专用工具有助于改善微电子元器件的手动和半自动制备效果。

对于自动目标制备，司特尔公司的TargetSystem能够快速、精确地对目标进行研磨和抛光。

为了避免硬质层和软质层以及不同材料间产生浮凸的缺陷，建议在刚性磨盘上进行金刚砂研磨，然后在抛光布上进行金刚砂抛光。