S48立扫描电子显微镜培训及操作手册上交版本Word文档格式.docx
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试操作未出现任何问题,再独立进行上机操作,合格后发放门禁卡。
具体的培训时间根据一年级研究生的课程安排,从而确定时间分批培训。
培训时间要在网上预约时注明(当天半天的时间段其他课题组不能预约)且为每周一次,每次半天。
6、培训人员:
仪器工程师、仪器管理人员和有操作经验的高年级研究生(高年级研究生要主动帮带和培训自己实验室的低年级研究生)负责全程培训。
参加培训的人员为经导师推荐和学院同意后确定的硕士或博士研究生。
7、培训考核:
每个参加培训的学生尽量不要缺席任何一次安排的培训课程,若缺席三分之一以上视为不合格。
参加培训的学生详细记录培训人员的讲解内容,课程结束后参加考核,不参加考核视为不合格。
培训不合格和未参加培训人员不得上机操作。
8、门禁卡发放:
经理论考核和上机考核双重考核后,具备独立上机资格,取得管理员不在场的上机资格,发放门禁卡。
9、门禁卡使用注意事项:
大仪中心全程配有视频监控,注意行为举止;
门禁卡是各个课题组进入大仪中心的凭证(建议各课题组导师统一保管),不能外借,丢失及时挂失,不及时挂失导致大仪中心东西丢失或仪器损坏的,由持卡课题组照价赔偿。
(二)培训流程图
(三)预约办法
学院购买网上预约系统,各课题组每周一登陆网上预约系统进行实名预约下周的上机时间,预约系统开放时间为工作时间。
仪器开放时间为全天候,包括晚上,周末和节假日。
预约时间按小时计算,即最少一小时。
预约未上机的课题组停止预约一次,多次预约(三次)未操作的接下来一个月都不得预约。
没有网上预约系统时,以管理员安排为准。
(四)上机测试时间计算
上机的同学或老师利用门禁进入仪器室进行上机操作,上机时间通过门禁和摄像头进行确认,上机时间按小时计算,即未满一小时按一小时计算。
原则上上机时间不得超过预约时间。
上机结束后应该自主登记自己的实际上机时间,每次测试结束后,严格主动在测试记录本上详细记录。
二、扫描样品的前处理与制样:
SEM样品制备相对简单,原则上只要能放入样品室的样品,都可进行观察。
扫描样品的前期准备与制样好坏对最终的扫描电镜照片质量优良之间有重要的直接关系,为更好的利用电镜拍摄出高质量的照片,为论文发表增光添彩,就需要我们对扫描样品的前期处理和制备有很好的认识和了解,现将总体要求说明如下:
(1)样品在物理上和化学上必须要保持稳定,在真空中和电子束轰击下不挥发或变形,没有腐蚀性和放射性。
(通常是干燥固体。
)
(2)由于光源是电子,样品必须导电,非导电样品可喷镀金膜。
金膜在一定程度上会影响样品原有形貌。
(若样品本身导电,衬底不导电,如蓝宝石上的ZnO,只需用导电胶把样品表面连到样品台。
(3)由于物镜有强磁性,带有磁性的样品制样必须非常小心,防止在强磁场中样品被吸入物镜或分散在样品室中。
通常磁性样品必须退磁,且工作距离(WD)须大于8mm(Z轴显示为080),一般将Z轴刻度调为15.0mm(Z轴显示为150)。
(一)非磁性样品的前处理与制样
1、样品在合成完成后,根据添加剂的添加情况,合理洗涤样品,保持样品表面洁净,干燥待用。
2、样品导电胶带的选择,可根据自己样品的属性,在银导电胶、铜导电胶、碳导电胶、双面胶(需蒸金增加导电性)中任选一款,通常选用的是碳导电胶将样品贴好,进样前要干燥处理,并用吸耳球或高压氮气吹扫掉导电胶上未粘紧的粉末。
3、样品支撑基底的选择很重要,这将直接影响扫描照片的质量。
一般常用的基底有:
铜片、硅片、ITO玻璃、普通玻璃等,通常要求基底的尺寸在2mm×
2mm左右,也可按照自己样品需要选择规格大小。
不同基底的优缺点说明如下:
铜片:
导电性好、价格低廉,是常用的基底,在使用前根据铜片的实际情况,使用金相砂纸对表面进行抛光,再用乙醇和丙酮对表面进行清洗处理,以防影响扫描照片的效果;
硅片:
导电性差一些、价格稍贵,但是表面很平整、光滑,景深一致,扫描照片效果好;
ITO玻璃:
单面导电的基底,适合原位复合材料和较大颗粒样品的观测,小颗粒由于表面的导电涂层会干扰样品观测
普通玻璃:
价格十分低廉,但是没有导电性,不太适合用作扫描样品的基底。
4、扫描样品的制样:
若不选择基底,剪一小段导电胶,用镊子取少量粉体样品朝一个方向,将其涂抹在碳导电胶的表面,注意样品的涂抹均匀,用吸耳球或高压氮气吹扫掉导电胶上未粘紧的粉末;
若选择将样品分散在基底上,则需要将待观测样品分散在易挥发的溶剂里,形成分散液待用,再用牙签、移液枪等工具将分散液滴到支撑基底上,待溶剂挥发(需要的情况下,使用红外灯干燥)完后即可将基底粘贴到所选导电胶上即可;
若是块状样品,则把样品牢牢粘到导电胶上,用手轻轻推,样品不会左右晃动。
(为观测时方便定位,将样品排列成行(或列),并在下方(或列左侧)标上数字编号。
5、扫描样品在检测时一定要是干燥的样品,不可将未干燥的样品拿来观测,防止损坏仪器。
6、根据需要对样品进行蒸金处理(石墨烯等片层结构负载有小颗粒的复合材料不易蒸金;
异质结构中小颗粒很小时不易蒸金),增加样品的导电性,获得较高质量的扫描照片。
(二)磁性样品的前处理与制样:
1、磁性样品在合成完成后,根据情况合理洗涤样品,保持样品表面洁净,干燥待用。
这里的磁性样品是指:
铁、钴、镍、锰基的单质金属(Fe、Co、Ni、Mn)、二元或多元合金、含有铁、钴、镍、锰基的金属复合材料、尖晶石型氧化物及复合材料等。
鉴定样品有没有磁性不是以能不能吸住其它东西为标准,而是以所合成样品是否能被磁铁吸引为准,凡是能被磁铁吸引的材料,都是磁性材料。
2、所有磁性样品在制样时都不允许将其放在支撑载体上,只允许将其粉体涂抹在碳导电胶上,接着用吸耳球吹或高压氮气吹扫掉导电胶上未粘紧的粉末(必须操作),并需要对磁性样品蒸金(必须操作),才能在扫描电镜上观测。
不按照要求对样品鉴别磁性与否的,责任由测试课题组承担。
三、仪器操作步骤及流程
(一)开机前准备
打开前面板盖,点击MODE按钮直至IP1指示灯闪,在登记表记下MULTINDICATOR数码显示管的读数,同理读取IP2,IP3并记录。
确认IP1<
2E-7,IP2<
2E-6,IP3<
5E-5。
(通常情况都是IP1显示0E-8,IP2显示0E-8,IP3显示0E-8或aE-7,1<
a<
9。
)如图1所示:
(二)开机及扫描操作步骤
1、开机
(1)开启冷却循环水电源,循环水温度显示应在15-20℃,水位应浸没金属线圈。
(2)按下位于桌子右上角的显示单元“DISPLAY”开关,如图2所示。
(3)电脑自动启动,根据界面提示按“Ctrl+Alt+Delete”,口令为空,直接Enter进入系统。
系统自动启动程序,口令为空,直接按Enter键即可进入程序。
如图3所示。
2、轰击(Flashing)
场效应电子扫描显微镜(FE-SEM)在程序启动后会提示进行Flash,如图4所示。
(去除电子源—FE尖端吸附的气体分子,起清洁作用。
)通常是每天开始使用SEM时flash一次,并记录发射电流Ie,当累计使用超过8小时,发射电流开始不稳定,需要再轰击一次,同样记录下电流Ie。
(注意flash不需要开启观测用的电子枪高压,软件显示高压off为灰色状态。
)轰击后可以立即观察图像。
但是在最初的1小时左右,有时会有图像干扰(图像中出现明暗的横线)。
进行高分辨率的观察时,最好在轰击完1小时以上后再进行观察。
具体操作过程:
(1)点击控制面板上的加速电压显示区域,出现加速电压HV设定画面。
点击“Flashing”键后,在HV设定画面出现轰击执行(FlashingExecute)窗口。
(2)确认轰击强度Intensity为“2”后,点击“Execute”按钮。
(3)HV的Ie(发射电流)显示器显示2秒钟轰击产生的发射电流,电流值大约为30uA-40uA,有时仅轰击一次,达不到所要求的值,这时需要连续轰击2-3次,若还达不到要求可换Intensity3。
(为了保护FE灯丝,程序自动计数25秒后,才进行下一次轰击。
3、样品装入
制备好的样品需要放到样品室进行观察,样品室真空度<
E-3Pa。
(按前面板MODE可显示SC的真空度LE-3)样品室和外界环境通过样品交换腔连接,样品交换腔体积较小,抽放真空较容易。
放样过程是先破坏样品交换腔真空,拉开样品交换腔把样品放入;
再对样品交换室抽真空;
最终把样品放入样品室。
具体操作过程如下:
(1)把1.1已制备好的样品台装入样品座,并使用高度规限定样品台高度。
确保样品的最高点和高度规的下边缘齐平,可低1-2mm,如图5所示,并确认样品台与调节螺杆、紧固盘片与样品台座上紧。
(很重要,一旦部件掉进样品室会很麻烦。
(2)点击软件右上方“HOME”键,确认样品台处于初始位置。
绿色显示条停止闪烁后,样品台回归交换状态。
如图6所示。
(3)按下样品交换腔上方“AIR”按钮至闪烁,蜂鸣器响后,用双手拉开样品交换腔。
如图7所示。
(4)样品交换杆手柄顺时针旋至“UNLOCK”位置后,把样品座插入样品交换杠并逆时针旋转交换杠手柄至“LOCK”位置,锁紧样品座。
如图8所示。
(5)将交换杆向外拉至尽头卡紧,合上样品交换腔,按紧。
按“EVAC”按钮至闪烁;
真空泵启动时可松手。
(6)蜂鸣器响后,按“OPEN”按钮至闪烁;
蜂鸣器响后,交换门打开。
(7)推入样品杆到底;
将样品杆从“LOCK”位置转回“UNLOCK”位置后抽出,按“CLOSE”按钮至闪烁;
蜂鸣器响后,交换门关闭。
(8)根据磁性样品与否,选择Z轴高度,磁性样品为150(指15.0mm的意思),非磁性样品为080(指8.0mm的意思)。
4、样品观察
根据自己样品的特点和观察信息的不同,需要选择不同的加速电压,发射电流,工作距离和接收探头。
可在操作面板“SEM”菜单“SIGNALSELECT”选区中,选择“Mix(混合)”、“Upper(上探头)”或“Lower(下探头)”;
接收“SE(二次电子)”信号或“BSE(背散射电子)”信号;
BSE下拉列表中,选择“LA0-LA100、LH”控制SE信号和BSE信号的比例;
“OPE.CONDITION”选区中“WD”下拉列表中,选择相应的工作距离(默认8mm)。
“STAGE”菜单“Z/TILT”选区中,在范围内输入数字,更改样品台高度Z(默认8mm,可减小到5mm),倾斜度等。
合适的工作条件能拍出理想的照片。
在样品观察过程中,为了获得清晰的图片,需要对光路进行合轴;
并进行聚焦消像散,调节过程需反复多次进行。
(1)根据实际放入样品台在软件右上方设置样品台尺寸SampleSize,样品台高度SampleHeight通常选Standard,若样品起伏较大可适当选+1–2mm。
(2)点击高压显示窗口,选择合适的加速电压Vacc,(通常碳管选3kV),电流可不选,程序会自动匹配。
确认后点击左上角红色“ON”高压开启按钮,会先跳出样品台大小高度确认对话框,确认无误后点击“OK”。
(若此时是flashing后第一次加高压
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