英语单词全版Word文档格式.docx

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RGB（Red,Green,Blue）

指紅綠藍三原色

PM（PreventiveMaintenance）

預防保養

Quality

品質

Standard

標準（指作業標準或品質指標）

Material

材料

Yield

良率

CIM（ComputerIntegrationManufacturing）

電腦整合製造（指以電腦系統整合製造流程）

FA（FactoryAutomation）

工廠自動化

Exit

出口

Precaution

預防措施

Warning

警告

Emergency

緊急

Alarm

警報

2.CleanRoom（潔淨室專有名詞）

中文說明

Cleanroom

潔淨室***註.

Particle

微粒子***註.

HEPA（HighEfficientParticulateAir）filter

高效能粒子空氣過濾網

Contamination

污染

Temperature（TEMP）

溫度

Humidity

濕度

Pressure

壓力

UPW（Ultra-PureWater）

超純水

DIW（De-IonizedWater）

去離子水

IPA（IsopropylAlcohol）

異丙醇

Stickymat

腳踏黏墊***註.

Cleanliness

潔淨度

ESD（Electro-staticDischarge）

靜電破壞***註.

Laminarflow

層流（流體力學名詞）

Turbulentflow

擾流（流體力學名詞）

Alcohol

酒精

Acetone

丙酮

微粒子

Dust

灰塵

Gowningroom

換衣間***註.

Raisedfloor（gratingfloor）

高架地板***註.

Airshower

氣浴室***註.

Prohibit

禁止

Cleansuit（bunnysuit,dust-freegarment）

無塵衣***註.

Glove

手套

Hairnet

網帽

Hood

頭罩

Mask

口罩

Cleanshoes（dust-freeshoes,boots）

無塵鞋

3.FactoryAutomation（工廠自動化專有名詞）

Vehicle

運輸工具或載具

AGV（AutomaticGuidedVehicle）

自動搬運車

MGV（ManualGuidedVehicle）

人力搬運車

Cleanlifter

天井傳送車

LIM（LinearInductionMotor）Carrier

線性感應馬達傳送載具

OHS（OverheadShuttle）

天車或稱軌道車

Stocker（cleandepot）

存放Cassette（架子）的暫存區

Battery

電池

Bay

作業區

Bumper

保險槓

Charger

充電器

Controller

控制器

Conveyor

輸送帶

Crane

吊車（在Stocker內）

FFU（FanFilterUnit）

風扇過濾器

Host

主機

I/O（Input/Output）

輸入/輸出

Inter-bay

作業區和作業區之間

Intra-bay

作業區之內

IR（Infra-Red）

紅外線

IRIF（Infra-RedInterFace）

紅外線介面

Load

進料

Unload

卸貨

Magnetictape

AGV路徑所使用的磁條

POSEIDON

海神生產作業系統

Retrieve

【電腦】檢索,擷取（資料）

RTM（RotaryTransferMachine）

旋轉傳送機

SCARAarm

AGV之傳送手臂

Reset

重新設定

Transportation

傳輸

*註.OPI（OperationPOSEIDONInstruction）海神生產作業系統專有名詞介紹

Recipe

程式,製程參數

Stockout

將Cassette取出

Request

請求,要求

Transfer

傳送,運送

Instruction

命令,指令

Select

選擇

Cancel

取消

Operation

作業,操作

Support

支援

Process

製程

Start

開始

Comp.

Completion的縮寫,意指完成

Batch

批量

Lot

指生產線上的在製品或產品,簡稱「貨」

ID（Identity）

識別碼（如LotIDorChipID）

Sheet

片（Array區玻璃基版計數單位）***註.

Chip

片（Cell區玻璃計數單位）***註.

Inspection

檢驗

Defect

缺陷

Production

生產

Hold

留置在當站製程（如有品質問題時）

Release

將hold住的貨放行,釋出

Equipment

設備（簡稱為EQP）

Tool

工具,機台

WIP（WorkInProcess）

在製品（製程在製品）

Maintenance

維修保養

Cassette

裝在製品的架子***註.

Empty

空的

Reserve

預約

Report

報告

Scrap

報廢

Rework

重工

Logon

登帳

Logoff

除帳

Note

註解

5.Array段製程專有名詞介紹

Metal

金屬

Target

靶

MoW（Moly-tungsten）

鎢化鉬

Mo（Molybdenum）

鉬

ITO（IndiumTinOxide）

銦錫氧化物

Al（Aluminum）

鋁

AlNd（AluminumandNeodymiumAlloy）

鋁和釹的合金以上皆為濺鍍機金屬靶的材料之一

ReticleorMask

光罩

Detergent（LH-300）

界面活性劑的一種（清洗機用來清洗玻璃表面用LH-300為供應商型號）

LAL-50

含NH4F與HF，為清洗機用來清洗玻璃表面氧化層的化學溶液

O3（Ozone）

臭氧，主要為各製程用來清除有機物的污染或殘留

NBA（1-butylAcetate）

乙酸正丁酯，主要用來清洗旋轉塗佈光阻時殘留在玻璃邊緣的光阻液

ResistorPhotoResist

光阻（簡稱PR）

HMDS

Hexamethyldisilazane的簡寫，為一種化學中間體，用以增加光阻塗佈時對晶片表面之附著力

AC-1

帶靜電防止劑（ESD-Preventer），在上光阻機內使用，防止靜電產生，破壞玻璃元件

TMAH（供應商型號為KTM-25）

Tetra-MethylAmmoniumHydroxide的簡寫，為廠內所使用之顯影液

OxalicAcid（H2C2O4）

草酸，濕蝕刻機中用來蝕刻5PEP中的a-ITO膜

DHF

成份為49%氫氟酸HF，主要為濕蝕刻機中用來蝕刻7PEP中的SiNx膜

ITO-Etchant

成份中含鹽酸HCl及硝酸HNO3，主要用來蝕刻7PEP中的Poly-ITO

BHF

成份中含氟化銨NH4F及HF，主要用來蝕刻7PEP中的SiON

Al-Etchant

成份中含乙酸CH3COOH、磷酸H3PO4及硝酸HNO3，主要用來蝕刻Mo/Al/Mo的沈積層

IPA

異丙醇IsopropylAlcohol的簡稱，主要用來作為設備擦拭液，在去光阻製程中亦用來清除玻璃基板上的有機殘留物（如光阻或去光阻液）

N-300

去光阻液，N-300為廠商型號，成份為單乙醇銨與單丁醚的混合物

（Process）Gas

（製程）氣體…目前大多數種類的氣體，多為提供CVD，Sputter及乾蝕刻電漿源之用

SiH4

矽甲烷……製程氣體（洩漏有爆炸危險）

NH3

氨……製程氣體

N2O

笑氣……製程氣體

PH3

磷化氫……製程氣體

N2

氮氣……製程氣體，常用為破真空Vent或吹乾的媒介

H2

氫氣……製程氣體

NF3

氟化氮……製程氣體，常用為清除CVD反應室壁沈積矽Si媒介

Kr

氪氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶

Ar

氬氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶或常用為加熱設備的熱傳媒介

O2

常用來作電漿的基本組成，

BCl3

氯化硼……製程氣體，在乾蝕刻中用以作為蝕刻AlNd的電漿源

SF6

氟化硫……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為提供蝕刻主原料氟的來源

He

氦氣……製程氣體，混合在其它製程氣體中，共同形成電漿源，使電漿組成分佈均勻

Cl2

氯氣……製程氣體

HCl

氯化氫……製程氣體，蝕刻n+時的電漿源之一

CF4

四氟化碳……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為提供蝕刻主原料氟的來源

機台（儀器）

Vender

廠商

Cleaner

清洗機***註.

CVD（ChemicalVaporDeposition）

化學氣相沉積***註.

Sputter

濺鍍機***註.

Coater

上光阻機***註.

Pre-bake

預烘***註.

Stepper

步進式曝光機***註.

Exposure

曝光

Backside-Exposure

背面曝光

Titler

刻號機，廠內部分的顯影機具有此功能，將玻璃基板的ChipID,GlassID及Veri-Code曝出，以為人員及機台辦認之用

EdgeRemover

簡稱ER，指在旋轉塗佈光阻後，用NBA洗淨殘留在玻璃邊緣的光阻

EdgeExposure

邊緣曝光，指在顯影前將玻璃基板邊緣光阻較厚的部分再曝光，以防曝光量不足，造成光阻在顯影後殘留

Developer

顯影機***註.

Hardbake

硬烤***註.

Etcher

蝕刻機