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材料研究方法
材料研究方法
MaterialsCharacterization
作者姓名
学科专业
指导教师
2015年12月
摘要
材料形貌,显微分析:
A眼、显微镜、SEM、AFM、TEM、STM等等
材料成分,能谱分析:
EDAX、XPS、AES、RBS、等等
材料结构,衍射分析:
XRD、SAD、RHEED、LEED等等
化学状态,能谱等:
XPS、AES等等
表面状态,AFM、STM、RHEED、LEED等
关键词:
XRD、TEM、SEM、EDS、AES、EBSD、金相显微镜
目录
摘要I
第1章X射线衍射分析原理及应用1
1.1X射线物理学基础1
1.2X射线衍射原理1
1.2.1布拉格方程1
1.2.2X射线衍射的方向和强度1
1.2.3常见的衍射方法2
1.3X射线物相分析2
1.4实例分析3
第2章透射电子显微分析4
2.1透射电镜的结构与原理4
2.1.1电子光学系统4
2.1.2真空系统4
2.1.3供电控制系统5
2.2样品的制备与观察5
2.3实例分析6
第3章扫描电子显微镜(SEM)原理及应用7
3.1扫描电镜的工作原理7
3.2扫描电镜的特点7
3.3实例分析8
第4章EDS元素分析原理及其应用9
4.1EDS的工作原理及应用9
4.2EDS的结构9
4.3EDS的分析技术9
4.4实例分析10
第5章俄歇电子能谱(AES)原理及其应用12
5.1俄歇电子能谱仪原理与基本结构12
5.2俄歇电子能谱分析12
5.2.1样品的制备12
5.2.2俄歇电子能谱采样深度13
5.3俄歇电子能谱的定性分析13
5.4表面元素的半定量分析14
5.5实例分析14
第6章电子背散射衍射(EBSD)分析原理及其应用15
6.1电子背散射衍射(EBSD)原理15
6.1.1电子背散射衍射(EBSD)花样15
6.1.2EBSD的分辨率15
6.2EBSD在材料研究中的应用16
6.2.1织构及取向差分析16
6.2.2相鉴定及相比计算16
6.2.3晶粒尺寸及形状的分析17
6.2.4晶界、亚晶及孪晶性质的分析17
6.2.5EBSD应变分布测定方法18
6.3实例分析19
第7章金相显微分析基本原理与应用20
7.1金相显微镜的构造20
7.2金相显微镜的成像原理,21
7.3显微镜的放大倍数22
7.4显微镜的鉴别能力(分辨率)22
7.5实例分析23
参考文献25
第1章X射线衍射分析原理及应用
X射线物理学基础
X射线是一种电磁波具有波粒二象性,不可见,波长在0.001-10nm之间,穿透性强并且具有杀伤作用。
0.05-0.25nm的X射线用于晶体衍射分析,我们称之为“软X射线”,这也是本文所要论述的重点。
对于0.005-0.01nm的X射线用于透射分析和探伤。
通常使用的X射线源为X射线管,这是一种装有阴阳极的真空封闭管,阴极为灯丝,阳极为金属靶,靶材可以选用铜、钼、钨等。
当灯丝中通入电流后,如果在阴阳两极之间施加电压,则阴极灯丝所发出的电子流将被加速,以高速撞击到金属阳极靶上,就会产生X射线。
X射线谱包括连续X射线谱和特征X射线谱。
不同管压下的连续谱的短波端,都有一个突然截止的极限波长值,称为短波限。
X射线的连续谱短波限只与管电压有关,随着管电压增高则连续谱各波长强度都增高,连续谱最高强度所对应的波长和短波限都向短波方向移动。
电子能量的绝大部分在与阳极靶撞击时生成热能而损失掉,只有百分之一成为X射线,所以需对X射线管采取有效的冷却措施。
X射线特征谱只有在管电压超过一定值时才会产生,而这种谱线的波长与管电压、管电流等工作条件无关,只决定于阳极材料,不同元素制成的阳极材料发出不同波长的谱线,因此称之为特征X射线谱。
由莫塞莱定律可以知道尖峰对应的波长λ与靶材的原子序数Z存在严格的对应关系,此规律现在已成为X射线光谱分析法的基础。
X射线衍射原理
1.1.1布拉格方程
布拉格为克服了劳埃方程在实际使用中的困难,找到既能反映衍射特点,又能方便使用的方程,进行了几点假设,这样晶体被看成了由无数个晶面组成,晶体的衍射看成是某些晶面对X射线的选择反射。
当光程差为波长的整数倍,即δ=nλ(n-正整数)时,则在该方向上的散射线满足相干条件,产生干涉现象。
由此得到布拉格方程:
2dsinФ=nλ。
在推导过程中,晶面垂直与否并不影响布拉格方程的推导结果。
很显然只有间距大于或者等于X射线半波长的那些干涉面才能参与反射。
不同的布拉格角反映了晶胞的形状和大小,从而建立了晶体结构与衍射方向之间的对应关系,通过测定晶体对X射线的衍射方向就可获得晶体结构的相关信息。
1.1.2X射线衍射的方向和强度
衍射的方向由劳埃方程和布拉格方程决定,布拉格方程本质上是劳埃方程的简化,也是电子衍射的基础。
X射线的衍射方向依赖于晶胞的形状和大小。
它解决了X射线衍射的方向问题,但它仅是发生衍射的必要条件,最终能否产生衍射花样还取决于衍射强度,当衍射强度为零或很小时,仍不显衍射花样。
衍射强度取决于晶胞中原子的排列方式和原子的种类。
以X射线的作用对象由小到大,即从电子→原子→单胞→单晶体→多晶体分别讨论,导出了X-射线作用于一般多晶体的相对强度计算公式,获得影响衍射强度的一系列因素:
结构因子、温度因子、多重因子、角因子、吸收因子等。
衍射强度I与衍射角2θ之间的关系曲线为晶体的衍射花样。
通过衍射花样分析,获得有关晶体的晶胞类型、晶体取向等结构信息,为X射线的应用打下基础。
1.1.3常见的衍射方法
常见的衍射方法主要有劳埃法、转晶法和粉末法。
劳埃法是采用连续X射线照射不动的单晶体以获得衍射花样的方法。
转晶法是采用单一波长的X射线照射转动着的单晶体以获得衍射花样的方法。
粉末法是采用单色X射线照射多晶试样以获得多晶体衍射花样的方法。
在准备衍射仪用的试样时需要足够的重视。
需要把样品研磨成适合衍射实验用的粉末,把样品粉末制成有一个十分平整平面的试片,从而得到理想的结果。
X射线物相分析
X射线物相分析包括定性分析和定量分析。
定性分析就是通过实测衍射谱线与标准卡片数据对照,来确定未知试样中的物相类别。
定量分析则是在已知物相类别的情况下,通过测量这些物相的积分衍射强度,来测算它们的各自含量。
目前的标准卡片是由JCPDS和ICDD联合出版的。
从卡片上可以得到标准物质的一系列晶面间距及其对应的衍射强度,用以代替实际的X射线衍射图样。
可以通过数字索引和字顺索引两种方式索引得到PDF卡片。
检索步骤基本分为:
粗选、总评分筛选、元素筛选、合成谱图。
X射线衍射物相定量分析有内标法、外标法、增量法、无标样法和全谱拟合法等常规分析方法。
内标法和增量法等都需要在待测样品中加入参考标相并绘制工作曲线,如果样品含有的物相较多,谱线复杂,再加入参考标相时会进一步增力谱线的重叠机会,给定量分析带来困难。
无标样法和全谱拟合法虽然不需要配制一系列内标标准物质和绘制标准工作曲线,但需要烦琐的数学计算,其实际应用也受到了一定限制。
外标法虽然不需要在样品中加入参考标相,但需要用纯的待测相物质制作工作曲线,这也给实际操作带来一定的不便。
实例分析
图11温度为8000C,R=2,5,7的氮化钦粉体的XRD图a)R=2,8000C制备的氮化钦的XRD图b)R=5,8000C制备的氮化钦的XRD图c)R=7,8000C制备的氮化钦的XRD图
a中所标晶面处的衍射峰d值分别为2.4442,2.1139,1.4930,1.2755和1.2208,这与标准的PDF卡片(JCPDScard,fileN0.87-0633),晶格常数是a=4.238A和c=4.238A的立方晶系的TiN晶面(111),(200),(220),(311)和(222)对应的最好。
a中特殊标记的为杂相的衍射峰,其d值为3.2523和1.6892,这与标准的PDF卡片(JCPDScard,fileN0.87-0920),晶格常数是a=4.594A和c=2.9589A的四方晶系Ti0:
的晶面对应最好。
图中出现了杂质峰,表明在R=3的条件下,无法制得纯的氮化钦粉体。
b中衍射峰的d值分别为2.4400,2.1125,1.4901,1.2721和1.2161,这与标准的PDF卡片(JCPDScard,fileN0.87-0632),晶格常数是a=4.225A和c=4.225A的立方晶系的TiN晶面(111),(200),(220),(311)和(222)对应的最好。
从图中可以看出没有其它的杂质峰,如Ti02,表明所得样品是纯度较高的氮化钦。
衍射峰的强弱反应样品的结晶程度,从图中可以看出有明显窄而尖锐的衍射峰,表明产物的结晶程度良好。
c中衍射峰的d值分别为2.4350,2.1065,1.4866,1.2710和1.2154,这与标准的PDF卡片(JCPDScard,fileN0.87-0630),晶格常数是a=4.22A和c=4.22A的立方晶系的TiN晶面(111),(200),(220),(311)和(222)对应的最好。
图谱中未出现杂质峰且各衍射峰窄而尖锐,表明该条件下所得产物纯度较高,结晶度良好1。
第2章透射电子显微分析
透射电镜的结构与原理
透射电镜以波长极短的电子束作为光源,电子束经由聚光镜系统的电磁透镜将其聚焦成一束近似平行的光线穿透样品,再经成像系统的电磁透镜成像和放大,然后电子束投射到主镜简最下方的荧光屏上而形成所观察的图像。
在材料科学研究领域,透射电镜主要可用于材料微区的组织形貌观察、晶体缺陷分析和晶体结构测定。
透射电子显微镜按加速电压分类,通常可分为常规电镜(100kV)、高压电镜(300kV)和超高压电镜(500kV以上)。
提高加速电压,可缩短入射电子的波长。
一方面有利于提高电镜的分辨率;同时又可以提高对试样的穿透能力,这不仅可以放宽对试样减薄的要求,而且厚试样与近二维状态的薄试样相比,更接近三维的实际情况。
就当前各研究领域使用的透射电镜来看,其主要三个性能指标大致如下:
加速电压:
80~3000kV
分辨率:
点分辨率为0.2~0.35nm、线分辨率为0.1~0.2nm
最高放大倍数:
30~100万倍
尽管近年来商品电镜的型号繁多,高性能多用途的透射电镜不断出现,但总体说来,透射电镜一般由电子光学系统、真空系统、电源及控制系统三大部分组成。
此外,还包括一些附加的仪器和部件、软件等。
有关的透射电镜的工作原理可参照教材,并结合本实验室的透射电镜,根据具体情况进行介绍和讲解。
以下仅对透射电镜的基本结构作简单介绍。
2.1.1电子光学系统
电子光学系统通常又称为镜筒,是电镜的最基本组成部分,是用于提供照明、成像、显像和记录的装置。
整个镜筒自上而下顺序排列着电子枪、双聚光镜、样品室、物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏及照相室等。
通常又把电子光学系统分为照明、成像和观察记录部分。
2.1.2真空系统
为保证电镜正常工作,要求电子光学系统应处于真空状态下。
电镜的真空度一般应保持在10-5托,这需要机械泵和油扩散泵两级串联才能得到保证。
目前的透射电镜增加一个离子泵以提高真空度,真空度可高达133.322×10-8Pa或更高。
如果电镜的真空度达不到要求会出现以下问题:
(1)电子与空气分子碰撞改变运动轨迹,影响成像质量。
(2)栅极与阳极间空气分子电离,导致极间放电。
(3)阴极炽热的灯丝迅速氧化烧损,缩短使用寿命甚至无法正常工作。
(4)试样易于氧化污染,产生假象。
2.1.3供电控制系统
供电系统主要提供两部分电源,一是用于电子枪加速电子的小电流高压电源;二是用于各透镜激磁的大电流低压电源。
目前先进的透射电镜多已采用自动控制系统,其中包括真空系统操作的自动控制,从低真空到高真空的自动转换、真空与高压启闭的连锁控制,以及用微机控制参数选择和镜筒合轴对中等。
样品的制备与观察
①磨样:
将铝合金样品用1000或2000型号的砂纸磨至100左右;
②冲孔:
把样品用打孔钳打孔,打出2个直径为3mm的小圆片;
③细磨:
将这些小圆片在5000型号的砂纸上磨至50µm左右,去毛刺;
④电解双喷减薄:
将样品夹在双喷仪中进行双喷,当观察到观察孔有光时,关闭电源,拿出样品夹,立即在装有酒精的烧杯中进行3次清洗,取出样品后用滤纸包好。
对于TEM常用的50~200kV电子束,样品厚度控制在100~200nm,样品经铜网承载,装入样品台,放入样品室进行观察。
仪器调试:
开启透射电镜,至真空抽好。
调试仪器,经合轴,消象散以后,即可送样观察。
观察记录:
将欲观察的铜网膜面朝上放入样品架中,送入镜筒观察。
先在低倍下观察样品的整体情况,然后选择好的区域放大。
变换放大倍数后,要重新聚焦。
将有价值的信息以拍照的方式记录下来,并在记录本上记录观察要点和拍照结果。
将样品更换杆送入镜筒,撤出样品,换另一样品的观察。
暗室处理:
根据所用胶片的特性配制相应的暗室试剂,在暗室内红光条件下冲洗胶片。
在红光条件下将负片印或放大成正片。
图片解析:
根据制样条件,观察结果及样品的特性等综合分析,对图片进行合理的解析。
实例分析
图21La0.9S0.1MnO3/G的TEM图(a)及HRTEM图(b)
图21为La0.9S0.1MnO3/G复合粉体的透射电镜图以及相应的高分辨图。
图21a)以看出,La0.9S0.1MnO3/G钙钦矿颗粒的粒径约为_50nm,且附着在石墨烯片层上,使石墨烯维持了之前的薄层结构,又阻止了石墨烯片层的层叠,同样减少了锰酸铜纳米颗粒的团聚,增加了颗粒的比表面积,相互形成了一种协同作用。
图(b)为Lao.9sro.iMn03/G复合粉体的高分辨图,经测量晶面间距是0.386nm,为(110)晶面2。
第3章扫描电子显微镜(SEM)原理及应用
扫描电镜的工作原理
扫描电镜主要由电子枪、电磁透镜、物镜、扫描线圈、信号收集及显示装置等组成。
其工作原理为:
由电子枪发射电子,以交叉斑作为电子源,经二级透镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下,于试样表面按一定时间、空间顺序作栅网式扫描。
试样在电子束作用下,激发出各种信号,信号强度取决于试样表面状况。
这些信号被探测器收集并经视频放大后输入显像管栅极,调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度,得到反映试样表面形貌的电子图像[2]。
扫描电子显微镜(简称扫描电镜,英文缩写为SEM)是一种大型的分析仪器,广泛应用在材料科学、生命科学、物理学、化学等学科领域。
近年来在扫描电镜上相继安装了许多专用附件,如:
能谱仪(EDX)、波谱仪(WDX)、电子衍射仪(ED)等,使扫描电镜成为一种多功能的、快速、直观、综合的表面分析仪器。
扫描电镜的特点
(1)制样方法简单。
对表面清洁的导电材料可直接进行观察;表面清洁的非导电材料只要在表面蒸镀一层导电层即可观察。
(2)场深大,三百倍于光学显微镜。
适用于粗糙表面和断口,甚至孔洞缝隙中细微情况的观察。
图像富有立体感,、易于识别和解释。
(3)放大倍数在15一200000倍范围内连续可调,分辨率高,能达到3一6nm。
(4)可进行多功能分析。
采用双放大倍数装置或图像选择器,可在荧光屏上同时观察不同放大倍数或不同形式的图像。
可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态实验,观察各种环境条件下的相变及形态变化等。
鉴于以上特点,SEM在生产生活中得到了广泛应用。
扫描电镜在无机非金属材料研究中的应用
无机非金属材料种类繁多主要包括陶瓷玻璃、耐火材料、铸石、水泥和混凝土及复合材料等。
它们的结构复杂,性能各异。
利用电镜可以对上述材料的显微结构进行观察与分析,对它们的物理与化学及使用性能做出直观的评价,为改善材料性能途径的研究提供可靠的依据,同时电镜在生产工艺过程的控制,新材料设计与研制等许多方面都发挥了重要作用3。
实例分析
图31a氧化锌纳米莲蓬结构低倍SEM图;b氧化锌纳米莲蓬SEM局部放大图;
c不同位局部放大SEM图
样品的扫描电镜形貌观察发现:
在衬底上大部分都长满如图31所示的非常新颖的氧化锌纳米莲蓬状结构,这在前A报道的实验结果中从未出现过的,也就是说我们首次成功地制备出了这种结构的氧化锌晶体。
从图3.3a中可以看到,莲蓬状的团簇布满了整个衬底,令我们尤为感到惊奇的是还有一些莲蓬团簇分布在如同过山车轨道一般的纳米桥上。
通过进一步的放大,从图31b和图31c中我们可以发现,团簇的直径尺寸比较大,而且纳米桥的厚度也比较大。
图31b和图31c分别显示的是同一衬底的不同位置的形貌,图31b中组成团簇的个体比图31b中所显示的区域相对比较紧凑,这说明局部在某种驱动力的作用下有相对集中的趋势4。
第4章EDS元素分析原理及其应用
EDS的工作原理及应用
探头接受特征X射线信号后,把特征X射线光信号转变成具有不同高度的电脉冲信号,经过放大器放大信号、多道脉冲分析器把代表不同能量(波长)X射线的脉冲信号按高度编入不同频道最后在荧光屏上显示谱线。
在现代的扫描电镜和透射电镜中,能谱仪(EDS)是一个重要的附件,它同主机共用一套光学系统,可对材料中感兴趣部位的化学成分进行点分析、面分析、线分析。
它的主要优点有:
(1)分析速度快,效率高,能同时对原子序数在11—92之间的所有元素(甚至C、N、O等超轻元素)进行快速定性、定量分析;
(2)稳定性好,重复性好;(3)能用于粗糙表面的成分分析(断口等);(4)能对材料中的成分偏析进行测量,等等。
EDS的结构
1、探测头:
把X射线光子信号转换成电脉冲信号,脉冲高度与X射线光子的能量成正比。
2、放大器:
放大电脉冲信号。
3、多道脉冲高度分析器:
把脉冲按高度不同编入不同频道,也就是说,把不同的特征X射线按能量不同进行区分。
4、信号处理和显示系统:
鉴别谱、定性、定量计算;记录分析结果。
EDS的分析技术
1、定性分析:
EDS的谱图中谱峰代表样品中存在的元素。
定性分析是分析未知样品的第一步,即鉴别所含的元素。
如果不能正确地鉴别元素的种类,最后定量分析的精度就毫无意义。
通常能够可靠地鉴别出一个样品的主要成分,但对于确定次要或微量元素,只有认真地处理谱线干扰、失真和每个元素的谱线系等问题,才能做到准确无误。
定性分析又分为自动定性分析和手动定性分析,其中自动定性分析是根据能量位置来确定峰位,直接单击“操作/定性分析”按钮,即可在谱的每个峰位置显示出相应的元素符号。
自动定性分析识别速度快,但由于谱峰重叠干扰严重,会产生一定的误差。
2、定量分析:
定量分析是通过X射线强度来获取组成样品材料的各种元素的浓度。
根据实际情况,A们寻求并提出了测量未知样品和标样的强度比方法,再把强度比经过定量修正换算成浓度比。
最广泛使用的一种定量修正技术是ZAF修正。
3、元素的面分布分析:
在多数情况下是将电子束只打到试样的某一点上,得到这一点的X射线谱和成分含量,称为点分析方法。
在近代的新型SEM中,大多可以获得样品某一区域的不同成分分布状态,即:
用扫描观察装置,使电子束在试样上做二维扫描,测量其特征X射线的强度,使与这个强度对应的亮度变化与扫描信号同步在阴极射线管CRT上显示出来,就得到特征X射线强度的二维分布的像。
这种分析方法称为元素的面分布分析方法,它是一种测量元素二维分布非常方便的方法。
实例分析
图41R=8,800℃、900℃下制备的氮化钛的SEM图
图42R=8,800℃、900℃下制备的氮化钛的EDS图
通过分析图41中b图和表3-2得出800℃下制备的氮化钦粉体中各元素含量比为:
C:
N:
O:
Ti=12:
13:
5:
5,由此可推知,产物分子式为C12N13O5Ti5,由于EDS能谱中碳的含量不能作为标准来判断产物的组成中是否含有碳元素,并参照图41中b谱图,得出产物中含有少量氧化物,主相为氮化钦。
通过分析图41中c图和表3-3得出900℃下制备的氮化钦粉体中各元素含量比为:
C:
N:
O:
Ti=3:
2:
1:
1,由此可推知,产物分子式为C3N2OTi,由于EDS能谱中碳的含量不能作为标准来判断产物的组成中是否含有碳元素,并参照图41中c谱图,得出产物中含有少量氧化物,主相为分子式接近TiN:
的氮化钦晶体5。
表41R=8,800℃下产物中各元素含量表
表42R=8,900℃下产物中各元素含量表
第5章俄歇电子能谱(AES)原理及其应用
俄歇电子能谱仪原理与基本结构
俄歇电子能谱仪(Auger Electron Spectroscopy,AES),作为一种最广泛使用的表面分析方法而显露头角,通过检测俄歇电子信号进行分析样品表面,是一种极表面(0-3nm)分析设备。
这种方法的优点是:
在靠近表面5-20埃范围内化学分析的灵敏度高,很高的空间分辨率,最小可达到6nm;能探测周期表上He以后的所有元素及元素分布;通过成分变化测量超薄膜厚。
它可以用于许多领域,如半导体技术、冶金、催化、矿物加工和晶体生长等方面。
电子源
在俄歇电子能谱仪中,通常采用的有三种电子束源,包括钨丝,六硼化铼灯丝以及场发射电子枪。
其中目前最常用的是采用六硼化铼灯丝的电子束源。
该灯丝具有电子束束流密度高,单色性好以及高温耐氧化等特性。
现在新一代的俄歇电子能谱仪较多地采用场发射电子枪,其优点是空间分辨率高,束流密度大,缺点是价格贵,维护复杂,对真空要求高。
而电子枪又可分为固定式电子枪和扫描式电子枪两种。
扫描式电子枪适合于俄歇电子能谱的微区分析。
俄歇电子能谱分析
5.1.1样品的制备
俄歇电子能谱仪对分析样品有特定的要求,在通常情况下只能分析固体导电样品。
经过特殊处理,绝缘体固体也可以进行分析。
粉体样品原则上不能进行俄歇电子能谱分析,但经特殊制样处理也可以进行一定的分析。
由于涉及到样品在真空中的传递和放置,待分析的样品一般都需要经过一定的预处理。
主要包括样品大小,挥发性样品的处理,表面污染样品及带有微弱磁性的样品等的处理。
在实验过程中样品必须通过传递杆,穿过超高真空隔离阀,送到样品分析室。
因此,样品的尺寸必须符合一定的大小规范,以利于真空系统的快速进样。
对于块状样品和薄膜样品,其长宽最好小于10mm,高度小于5mm。
对于体积较大的样品则必须通过适当方法制备成大小合适的样品。
但在制备过程中,必须考虑处理过程可能对表面成分和化学状态所产生的影响。
俄歇电子能谱具有较高的空间分辨率,因此,在样品固定方便的前提下,样品面积应尽可能地小,这样可以在样品台上多固定一些样品。
对于粉体样品有两种常用的制样方法。
一种是用导电胶带直接把粉体固定在样品台上,另一种是把粉体样品压成薄片,然后再固定在样品台上。
前者的优点是制样方便,样品用量少,预抽到高真空的时间较短,缺点是胶带的成分可能会干扰样品的分析。
此外,荷电效应也会影响到俄歇电子谱的采集。
后者的优点是可以在真空中对样品进行处理,如加热,表面反应等,其信号强度也要比胶带法高得多。
缺点是样品用量太大,抽到超高真空的时间太长。
并且对于绝缘体样品,荷电效应会直接影响俄歇电子能谱的录谱。
一般把粉体样品或小颗粒样品直接压到金属铟或锡的基材表面。
可以固定样品和解决样品的荷电问题。
对于需要用离子束溅射的样品,建议使用锡作为基材,因
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